期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

硅片光刻中的暗场对准实验研究

原文传递

导出

作者徐振明徐常胜

出处《激光与光电子学进展》 CSCD 1995年第A01期213-213,共1页 Laser & Optoelectronics Progress

关键词硅片光刻暗场对准实验

分类号 TN304.12 [电子电信—物理电子学] TN305.7 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

1荣莹.2000年后的光刻趋势[J].微电子技术,2000,28(4):50-52.
2邓志杰.欧洲为将来的半导体工艺作准备[J].有色与稀有金属国外动态,1998(4):3-4.
3侯小真.光刻用准分子激光器[J].光机电信息,1998(8):23-26.
4野末康博,陶德生.用于光刻的准分子激光器[J].光电子技术与信息,1992(2):24-27.
5朱扬明,李钰.相移技术在光刻中的应用[J].电子瞭望,1992(4):24-27.

激光与光电子学进展

1995年第A01期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部