二氧化硅膜的选择性沉积

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摘要本文介绍用二氧化硅膜的选择性沉积法来制造精细图形,可获得0.12μm,间距0.08μm的精细图形。文中具体介绍了制造工艺及沉积原理。

作者贾正根

机构地区南京电子器件研究所

出处《微细加工技术》 1989年第2期53-55,共3页 Microfabrication Technology

关键词二氧化硅薄膜选择性沉积

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微细加工技术

1989年第2期

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