摘要
一、前言700keV高能离子注入机,其靶室设计采用了旋转靶结构。如图1所示,在旋转靶盘上均布着8个靶位,分别称为1号靶位、2号靶位、……依此类推至8号靶位。其中1～7号靶用来对靶片注入,8号靶上装有铜网,以便在调束过程中,通过观察窗和微光电视系统,对离子束的束径大小、束对中情况、过扫程度进行定性分析。在换片过程中,步进电机的驱动轴,一端驱动靶盘,另一端驱动编码盘,位于编码盘两侧的光电定位装置,将靶位信息送入靶室电源进行处理,从而准确地控制靶位的变换。
出处
《微细加工技术》
1989年第1期27-29,共3页
Microfabrication Technology
