期刊文献+

用聚合硫酸铁和氢氧化钙处理含氟废水 被引量:10

在线阅读 下载PDF
导出
摘要 灯泡厂、电子管厂、显象管厂和半导体器件厂生产中要大量使用HF 清洗玻壳或硅片,生产废水中含有大量F^-。半导体器件厂及集成电路厂废水含氟量通常为20~50ppm,而灯泡厂、电子管厂、显象管厂废水的含氟量则高达100~200 ppm,大大超过国标排放水标准(F^-<10ppm)。因此必须处理后才能排放。
出处 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期239-242,共4页 Technology of Water Treatment
  • 相关文献

参考文献2

  • 1和再钧,施海蒂,谷永辉,王书惠,朱宏丽.聚铁处理工业废水和污泥脱水试验[J]上海环境科学,1987(07).
  • 2秦安荣.聚硫酸铁的絮凝特性及其在环境保护中的应用[J]上海环境科学,1987(01).

同被引文献59

引证文献10

二级引证文献81

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部