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硅中Rh—B络合物性质的理论研究

Theoretical Study of the Rh-B Complex in Silicon
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摘要 用原子簇RhBSi25模拟含四面体间隙Rh和替代位B构成的络合物的硅晶体,采用量子化学中Xα-SW分子轨道理论计算体系的电子结构.电荷分布分析表明,此体系不能用通常的离子模型来描述. Abstract An atomic cluster RhBSi25 is used to model the silicon crystal locally perturbed by the complex Rh-B which is formed by a tetrahedral interstitial Rh atom and a substitutional B atom. The electronic structure of the system was calculated using Xo-SW molecular orbital theory. The analysis of charge distribution indicates that the ionic model is not suitable to describe this system.
出处 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 1994年第2期131-135,共5页 化学物理学报(英文)
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

参考文献5

  • 1Zhou J,J Appl Phys,1991年,69卷,2251页
  • 2吴汲安,J Appl Phys,1990年,67卷,7139页
  • 3吴汲安,半导体学报,1988年,9卷,26页
  • 4Zhou J,1987年
  • 5吴汲安

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