摘要
本文利用高分辨率透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)对高J_c外延生长YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜的微观结构进行了观察分析.研究发现,薄膜外延程度的好坏与生长工艺和衬底表面的完整性有直接的关系.实验结果表明(100)SrTiO_3单晶衬底上外延生长YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜中影响临界电流密度J_c的因素主要有界面过渡区、缺陷和不同的外延取代等.
出处
《中国科学（A辑）》
CSCD
1993年第1期92-96,共5页
Science in China(Series A)
基金
国家超导研究发展中心资助项目
中国科学院超导研究办公室资助项目
