摘要
本文探讨了对黄瓜霜霉病[pseudoperonospora cubensis(Berk.et Curt.)Rostov.]具有不同抗性的两大系统的黄瓜品种的子叶和不同叶位真叶申的氢离子浓度(H^+)和氧化还原电位。结果表明:叶片中氢离子浓度([H^+])与其对霜霉病的抗病性(免疫性能)呈正的相关性;氧化还原正电位(+mV)和氧化还原总电位与其对霜霉病的抗性呈负的相关性。
出处
《内蒙古农业科技》
1993年第2期21-22,4,共3页
Inner Mongolia Agricultural Science and Technology
基金
内蒙古自治区科委资助项目的部份内容
