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美国科学家研究出制造低磁场大磁阻效应材料的方法

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摘要美国IBM ADSTAR(加利福尼亚州圣何塞)的研究人员托德·希尔顿、凯文·科菲和迈克尔·帕克等已研究出一种制造在低磁场下能产生大磁阻效应(GMR)的材料的方法。

作者程永来

出处《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1993年第12期43-44,共2页 Chinese High Technology Letters

关键词美国低磁场磁阻效应材料

分类号 TM270.5 [一般工业技术—材料科学与工程]

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高技术通讯

1993年第12期

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