摘要
概述了光致抗蚀剂在微电子工业中的作用,着重介绍了聚硅烷光致抗蚀剂的特点,以及聚硅烷紫外、深紫外、X射线。
The importance of photoresists in microelectronic industry is described in this review,emphasizing the characteristics of polysilane photoresists and the developing situation of ultra violet, deep ultraviolet, X-ray,electron-beam polysilane photoresists etc.
出处
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993年第3期3-6,共4页
Polymer Materials Science & Engineering
基金
国家自然科学基金
关键词
聚硅烷
高分辨率
光致抗蚀剂
polysilanes, high-resolution, photoresists, micro-processing technology, contrast enhancement layer (CEL).
