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多波形脉冲电镀电源控制系统的研究 被引量:4

A Research on the Control System of Multi-waveform Pulse Electroplating Power Supply
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摘要 设计了一种采用两级结构来实现工艺要求的双向脉冲电源 ,在此基础上设计并实现了电源的控制系统。由于电源输出波形复杂 ,经分析对比 ,提出了采用飞利浦 80C5 5 2单片机对电源进行控制的总体方案 ,实现了输出波形的频率、幅值和占空比的连续调节以及运行参数的实时显示 ,便于工艺技术人员及时进行参数调节 。 A bidirectional pulse power supply is designed,which adopts a two stage structure for process requirements.On this basis,its control system is also designed.Due to its complicated output waveform,Philips 80C552 single chip microcomputer is adopted for its control system,thus the frequency,amplitude and duty ratio of the output waveform can be regulated continuously,and the running parameters can be indicated in real time,that is convenient for technicians to make adjustments in time,and also helpful for process development.
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 2004年第3期30-32,共3页 Electroplating & Pollution Control
关键词 多波形脉冲电镀工艺 电源控制系统 双向脉冲电源 单片机 触摸屏 Pulse power supply Electroplating Single chip microcomputer Touch screen
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