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SPOS技术在半导体CMP制程中的应用
1
作者
顾茂健
王思玲
+2 位作者
徐剑青
Greg Pokrajac
David Nicoli
《集成电路应用》
2003年第3期39-42,共4页
使用单粒子光学传感技术进行粒径分析,具有高分辨率和精确度的特点,将其与激光衍射等整体检测技术进行比较,应用实例,说明了单粒子光学传感技术对半导体CMP制程的必要性。
关键词
SPOS技术
CMP
单粒子光学传感技术
高分辨率
激光衍射
化学机械研磨
粒径
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职称材料
题名
SPOS技术在半导体CMP制程中的应用
1
作者
顾茂健
王思玲
徐剑青
Greg Pokrajac
David Nicoli
机构
上海双健现代药物技术公司
particle sizing systems
出处
《集成电路应用》
2003年第3期39-42,共4页
文摘
使用单粒子光学传感技术进行粒径分析,具有高分辨率和精确度的特点,将其与激光衍射等整体检测技术进行比较,应用实例,说明了单粒子光学传感技术对半导体CMP制程的必要性。
关键词
SPOS技术
CMP
单粒子光学传感技术
高分辨率
激光衍射
化学机械研磨
粒径
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
SPOS技术在半导体CMP制程中的应用
顾茂健
王思玲
徐剑青
Greg Pokrajac
David Nicoli
《集成电路应用》
2003
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