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用于PDP应用的高速MgO溅射源
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作者 C.Daube H.Frankenberger 等 《液晶与显示》 CAS CSCD 1998年第2期132-135,共4页
ＢＰＳ研制出一种用于ＰＤＰ应用的新型高速ＭｇＯ溅射源。该溅射源与现有的用于大批量生产的立式串级系统完全兼容。工艺过程是基于在金属镁靶上进行的全反应。此装置采用特殊设计，可解决低附着率以及由于靶电弧所引起的工艺不稳定等... ＢＰＳ研制出一种用于ＰＤＰ应用的新型高速ＭｇＯ溅射源。该溅射源与现有的用于大批量生产的立式串级系统完全兼容。工艺过程是基于在金属镁靶上进行的全反应。此装置采用特殊设计，可解决低附着率以及由于靶电弧所引起的工艺不稳定等问题。本文还进一步讨论了表面拓朴学，溅射阻力以及其它有影响的参数。 展开更多
关键词 气流溅射源 淀积率 溅射 PDP 等离子显示板 薄膜技术 MgO膜 金属镁靶 表面拓朴学
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