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全氧化镓薄膜同质p-n结 被引量:3
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作者 翟泓超 刘晨星 +6 位作者 吴征远 马聪聪 田朋飞 万景 康俊勇 褚君浩 方志来 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期898-905,共8页
制备p-n结以及探索其物理机制在发展各种功能器件和推进其实际应用中起到关键作用.超宽禁带半导体在制备高压高频器件上有着巨大的潜力,但是氧化镓p型掺杂困难限制了氧化镓同质p-n结的制备,进而阻碍了全氧化镓基双极型器件的发展.本文... 制备p-n结以及探索其物理机制在发展各种功能器件和推进其实际应用中起到关键作用.超宽禁带半导体在制备高压高频器件上有着巨大的潜力,但是氧化镓p型掺杂困难限制了氧化镓同质p-n结的制备,进而阻碍了全氧化镓基双极型器件的发展.本文通过一种先进的相转变生长技术结合溅射镀膜的方法,成功制备了n型锡掺杂β相氧化镓/p型氮掺杂β相氧化镓薄膜.本工作成功制作了全氧化镓单边突变同质p-n结二极管,并且详细分析了器件机理.该二极管实现了4×10^(4)的整流比、在40 V下9.18 mΩcm^(2)的低导通电阻、4.41 V的内建电势和1.78的理想因子,并在交流电压下表现出没有过冲的整流特性以及长期稳定性.本工作为氧化镓同质p-n结初窥门径,为氧化镓同质双极型器件奠定了基础,为高压高功率器件的应用开创了道路. 展开更多
关键词 gallium oxide p-n junction forward characteristics rectification ratio specific on-resistance
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由原子薄横向异质结构建的可调谐肖特基二极管 被引量:1
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作者 卢香超 王伟 +5 位作者 朱慧洁 吴永森 鲁艺珍 邵功磊 刘松 曹阳 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第11期4419-4426,共8页
本研究利用一步化学气相沉积技术制备了Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2)/MoS_(2)横向异质结高性能二极管.通过选择性掺杂Sn原子到单层MoS_(2)的边缘,形成了与MoS_(2)相同晶格常数的Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2).在边缘的Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2)和内部的MoS_(2... 本研究利用一步化学气相沉积技术制备了Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2)/MoS_(2)横向异质结高性能二极管.通过选择性掺杂Sn原子到单层MoS_(2)的边缘,形成了与MoS_(2)相同晶格常数的Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2).在边缘的Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2)和内部的MoS_(2)上分别沉积铬/金电极,形成肖特基势垒,其中势垒高度不同导致载流子仅在一个方向上传输.通过控制掺杂浓度和栅极电压,可实现MoS_(2)和Sn_(x)Mo_(1−x)S_(2)之间费米能级的对齐调节,实现了可调整的整流比,最高达到104.令人印象深刻的是,该二极管还表现出优异的光伏特性,该器件在λ=400 nm处实现了40%的外量子效率值.此外,我们在无外部偏压条件下实现了自供电光电探测,该异质结二极管在400和650 nm波长处的响应率分别为0.12和0.16 A W^(-1).对应的探测率分别是4.9×10^(10)和6.4×10^(10)Jones.可调的掺杂浓度为进一步创造高效器件提供了可能.这种合成二维侧向二极管的策略丰富了异质结二极管的材料多样性,并为开发新型电子和光电器件提供了新的平台. 展开更多
关键词 heterojunction diode controllable doping tunable rectification ratio one-step chemical vapor deposition photo-voltaic effect
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