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nc-Ge/SiO_2薄膜的光发射和光吸收研究
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作者 张培 王加贤 +2 位作者 王燕飞 郭亨群 吴志军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1067-1070,共4页
采用射频磁控反应溅射技术和后退火法制备了nc-Ge/SiO2薄膜材料。采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行测试,随着退火温度的升高,衍射峰的半高宽减小,表明Ge纳米晶粒的平均尺寸逐渐增大,发现经过1 000℃退火后的薄膜具有三个明显的... 采用射频磁控反应溅射技术和后退火法制备了nc-Ge/SiO2薄膜材料。采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行测试,随着退火温度的升高,衍射峰的半高宽减小,表明Ge纳米晶粒的平均尺寸逐渐增大,发现经过1 000℃退火后的薄膜具有三个明显的纳米锗衍射峰。薄膜的傅里叶红外吸收谱表明,随着退火温度的升高,薄膜的红外吸收增强。室温下,测量了不同温度退火下薄膜的光致发光谱,观察到了紫外光、紫光和橙色光。而且不同退火温度的薄膜,其光致发光谱有所不同,理论上着重讨论了紫光和橙光的发光机制。 展开更多
关键词 nc-ge/SiO2薄膜 光吸收 发光机制 与氧相关的缺陷 射频磁控反应溅射技术
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nc-Ge/Si岛基光子晶体单点缺陷腔的数值模拟与分析
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作者 唐海侠 王启明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期2139-2143,共5页
阐述了利用光子晶体单点缺陷微腔来提高Ge/Si纳米岛发光效率的机理.通过3DFDTD方法计算出在平板厚度为300nm时,谐振波长随a和r/a变化的规律,即当给定r/a,h时,波长随晶格常数成次线性增加;当给定a,h时,波长随r/a的增加而减小.并从理论上... 阐述了利用光子晶体单点缺陷微腔来提高Ge/Si纳米岛发光效率的机理.通过3DFDTD方法计算出在平板厚度为300nm时,谐振波长随a和r/a变化的规律,即当给定r/a,h时,波长随晶格常数成次线性增加;当给定a,h时,波长随r/a的增加而减小.并从理论上给予分析. 展开更多
关键词 光子晶体 单缺陷腔 nc-ge/Si岛
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nc-Ge/SiNx多层膜材料的可调控非线性光学特性
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作者 李悰 张培 +3 位作者 姜利英 陈青华 闫艳霞 姜素霞 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期1217-1222,共6页
采用等离子体增强化学气相沉积和后退火的方法制备了纳米锗/氮化硅(nc-Ge/SiN_x)多层薄膜。借助Raman光谱仪对其微结构进行表征,测得样品的晶化率大于46%。由样品的光吸收谱可知,nc-Ge的尺寸越小,其光学带隙越大。利用Z扫描技术对样品... 采用等离子体增强化学气相沉积和后退火的方法制备了纳米锗/氮化硅(nc-Ge/SiN_x)多层薄膜。借助Raman光谱仪对其微结构进行表征,测得样品的晶化率大于46%。由样品的光吸收谱可知,nc-Ge的尺寸越小,其光学带隙越大。利用Z扫描技术对样品的非线性光学特性进行研究,以波长为1 064 nm、脉宽为25 ps的锁模激光作为激发光,测得样品的非线性折射率系数在10^(-10)cm^2/W数量级。实验结果表明,通过改变nc-Ge的尺寸可以使材料的非线性光学折射率由自散焦转变为自聚焦特性,而负的非线性折射率系数可归因于两步吸收产生的自由载流子散射效应。当激发光强增大时,在锗层厚度为6 nm的多层膜中同时存在两步吸收过程和饱和吸收过程。两种非线性光学吸收过程之间的竞争是样品呈现不同非线性光学特性的主要原因。 展开更多
关键词 nc-ge/SiNx多层膜 饱和吸收 两步吸收过程 自由载流子散射
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光子晶体对nc-Ge/Si岛发光增强的模拟 被引量:4
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作者 唐海侠 王启明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期435-441,共7页
在Si基集成光电子学的发展中,高效的Si基光源是人们不懈追求的目标。但是Si材料的间接带隙特性导致其发光效率低,更谈不上受激发射。于是人们探索了多种Si基材料体系来提高Si材料的发光效率,并在不同程度上取得了重要的进展。在众多... 在Si基集成光电子学的发展中,高效的Si基光源是人们不懈追求的目标。但是Si材料的间接带隙特性导致其发光效率低,更谈不上受激发射。于是人们探索了多种Si基材料体系来提高Si材料的发光效率,并在不同程度上取得了重要的进展。在众多的Si基发光材料体系中,Ge/Si量子点材料,不仅生长工艺与标准的CMOS工艺有很好的兼容性,而且发光波长能够覆盖重要的光通信波段即1.3—1.55μm,因此成为实现Si基发光器件的重要途径之一。但是目前这种材料的发光效率仍很低,所以提高其发光效率自然成为人们关注的焦点。如果将光子晶体引入到nc—Ge/Si材料中,它不仅可以改变材料本身的自发发射特性,而且可以改变发射的光子的提取效率,从而使材料的发光效率得到增强。提出了在Ge/Si量子点材料中引入光子晶体结构来提高其发光效率,包括光子晶体点缺陷腔结构和带边模式工作的完整光子晶体结构,并从理论上分析了发光效率提高的原理。针对发光波长在1.5μm附近的材料结构,模拟出了相应的光子晶体的结构参数。从模拟结果可以看出,对于缺陷腔的光子晶体结构,采用单点缺陷微腔很好地实现了单模运作,但是微腔内有源材料的体积很小,因此得到的发光效率很低。而采用耦合缺陷腔的结构和H2腔都增加了腔内有源区的体积。但是耦合腔与H2腔相比,谐振腔模减少,主谐振模式的峰值强度增加,更容易实现单模发光。因而更适用于提高nc—Ge/Si的发光效率。而带边模式工作的光子晶体结构,尺寸较大,不需引入缺陷,工艺上更容易实现。 展开更多
关键词 光子晶体 光子带隙 谐振腔 nc—Ge/Si岛 量子点
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嵌埋在SiO_2基质中的nc-Ge的制备及其发光现象 被引量:4
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作者 贺振宏 陈坤基 冯端 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期1153-1160,共8页
采用等离子体化学汽相淀积技术生长aGexSi1-x∶H薄膜,然后在800℃,105Pa下于传统开口管式炉中氧化热处理,制备嵌埋在SiO2中的ncGe微晶粒.利用傅里叶变换红外光谱、喇曼光谱和X射线衍射谱分析样品的... 采用等离子体化学汽相淀积技术生长aGexSi1-x∶H薄膜,然后在800℃,105Pa下于传统开口管式炉中氧化热处理,制备嵌埋在SiO2中的ncGe微晶粒.利用傅里叶变换红外光谱、喇曼光谱和X射线衍射谱分析样品的微结构,研究aGexSi1-x∶H薄膜的氧化过程中发生的化学和物理变化,并用平衡态化学反应热理论加以解释.在某些样品中观察到室温下的光致发光现象,采用Brus电子空穴三维限制模型,结合ncGe的微结构。 展开更多
关键词 nc-ge 半导体纳米材料 薄膜 光致发光
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1.54 μm photoluminescence enhancenment of Er^(3+) -doped ZnO films containing nc-Ge: joint effect from Er^(3+) local environment changing and energy transfer of nc-Ge
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作者 RANRAN FAN FEI LU KAIKAI LI 《Photonics Research》 SCIE EI 2017年第6期86-89,共4页
ZnO films containing Er and Ge nanocrystals(nc-Ge) were synthesized and their photoluminescence(PL) properties were studied. Visible and near-infrared PL intensities are found to be greatly increased in nc-Ge-containi... ZnO films containing Er and Ge nanocrystals(nc-Ge) were synthesized and their photoluminescence(PL) properties were studied. Visible and near-infrared PL intensities are found to be greatly increased in nc-Ge-containing film. Er-related 1.54 μm emission has been investigated under several excitation conditions upon different kinds of Ge, Er codoped ZnO thin films. 1.54 μm PL enhancement accompanied by the appearance of nc-Ge implies a significant correlation between nc-Ge and PL emission of Er^(3+). The increased intensity of 1.54 μm in Ge:Er:ZnO film is considered to come from the joint effect of the local potential distortion around Er^(3+)and the possibleenergy transfer from nc-Ge to Er^(3+). 展开更多
关键词 local environment changing and energy transfer of nc-ge ZNO
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纳米锗镶嵌二氧化硅薄膜的光学性质及其应用的研究 被引量:1
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作者 林正怀 张培 王加贤 《量子光学学报》 CSCD 北大核心 2012年第4期377-381,共5页
采用射频磁控溅射技术与热退火处理制备了纳米锗镶嵌二氧化硅(nc-Ge/SiO2)复合薄膜。对薄膜的光吸收谱进行分析,得到了纳米Ge晶粒的光学带隙。单光束Z-扫描的实验结果表明薄膜具有较强的可饱和吸收特性。将薄膜作为可饱和吸收体插入LD... 采用射频磁控溅射技术与热退火处理制备了纳米锗镶嵌二氧化硅(nc-Ge/SiO2)复合薄膜。对薄膜的光吸收谱进行分析,得到了纳米Ge晶粒的光学带隙。单光束Z-扫描的实验结果表明薄膜具有较强的可饱和吸收特性。将薄膜作为可饱和吸收体插入LD端面抽运的Nd:YVO4激光器内,分别实现1 342nm和1 064nm激光的被动调Q,得到脉宽分别为29ns和22ns的脉冲序列。理论分析认为,纳米Ge晶粒形成的界面态和缺陷态对1 342nm激光产生的饱和吸收作用,是导致被动调Q的主要原因。 展开更多
关键词 nc-ge SIO2薄膜 磁控溅射技术 非线性吸收 被动调Q
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纳米Ge-SiO_2薄膜对1342nm激光的被动调Q 被引量:2
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作者 王燕飞 王加贤 +1 位作者 张培 杨先才 《华侨大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2011年第4期385-388,共4页
采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅(Ge-SiO2)薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺寸约为16.4 nm.将纳米Ge-SiO2薄膜作为可饱和吸收体插入激... 采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅(Ge-SiO2)薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺寸约为16.4 nm.将纳米Ge-SiO2薄膜作为可饱和吸收体插入激光二极管泵浦的平-凹腔Nd∶YVO4激光器内,实现1 342 nm激光的被动调Q运转,获得脉冲宽度约为40 ns,重复频率为33.3 kHz的调Q脉冲序列输出.根据实验现象并结合薄膜结构,认为纳米Ge-SiO2薄膜的界面态和缺陷态是产生调Q的主要原因. 展开更多
关键词 激光技术 Nd∶YVO4激光器 纳米锗镶嵌二氧化硅薄膜 被动调Q 可饱和吸收体
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基于UML的一种开放式数控软件系统建模与界面实现研究 被引量:3
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作者 时兵 金烨 程松 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2008年第3期41-46,共6页
针对开放式数控系统的软件和硬件等特点及其功能要求,采用固高(公司)运动控制器,基于面向对象的软件开发过程,提出了一种适用于NC嵌入PC型的开放式数控软件系统框架模型。建立了系统模型的用例图、时序图以及类图,描述了系统的功能要求... 针对开放式数控系统的软件和硬件等特点及其功能要求,采用固高(公司)运动控制器,基于面向对象的软件开发过程,提出了一种适用于NC嵌入PC型的开放式数控软件系统框架模型。建立了系统模型的用例图、时序图以及类图,描述了系统的功能要求及实现流程、视图与功能模块的对应交互关系等,提高了开放式数控软件系统开发的质量和效率。并利用VC++编程语言实现了该开放式数控软件系统的界面。 展开更多
关键词 开放式数控系统 NC嵌入PC型 固高运动控制器 UML建模
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Ge-SiO_2与Si-SiO_2薄膜中颗粒形成的对比研究
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作者 成珏飞 吴雪梅 诸葛兰剑 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期245-248,共4页
以Ge SiO2 和Si SiO2 复合靶作为溅射靶 ,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge SiO2 和Si SiO2 薄膜。然后分别在N2 气氛中经过 6 0 0℃— 10 0 0℃的不同温度的退火。通过X射线衍射 (XRD) ,透射电子显微镜 (TEM) ,光... 以Ge SiO2 和Si SiO2 复合靶作为溅射靶 ,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge SiO2 和Si SiO2 薄膜。然后分别在N2 气氛中经过 6 0 0℃— 10 0 0℃的不同温度的退火。通过X射线衍射 (XRD) ,透射电子显微镜 (TEM) ,光电子能谱 (XPS)分析等测试手段 ,将两种薄膜进行了比较。在Ge SiO2 样品中 ,随退火温度的升高 ,会发生GeOx 的热分解或者与Si发生化学反应 ,引起部分氧原子逸出和Ge原子的扩散和聚集 ,从而形成纳米Ge的晶粒。在Si SiO2 薄膜样品中 ,由于Si的成核长大速率较低 ,因而颗粒长大的速率较慢 ,薄膜内不易形成Si颗粒。只有经 10 0 0℃高温退火后样品中才有少量单质Si颗粒形成。 展开更多
关键词 SIO2薄膜 射频磁控溅射技术 光电子能谱 氧原子 双离子束溅射 颗粒 溅射靶 速率 高温退火 退火温度
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用拉曼散射光谱估算纳米Ge晶粒平均尺寸 被引量:8
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作者 王印月 郑树凯 +3 位作者 杨映虎 郭永平 奇莉 甘润今 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第9期1265-1268,共4页
用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc-Ge/SiO2)。测量了不同温度退火后该复合膜的拉曼散射光谱,其结果与晶体Ge的拉曼谱相比,纳米Ge的拉曼峰位红移峰形变宽;用拉曼谱的参数... 用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc-Ge/SiO2)。测量了不同温度退火后该复合膜的拉曼散射光谱,其结果与晶体Ge的拉曼谱相比,纳米Ge的拉曼峰位红移峰形变宽;用拉曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。 展开更多
关键词 拉曼散射光谱 纳米锗 晶粒尺寸 声子限域理论
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