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2.5D封装关键技术的研究进展 被引量:1
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作者 马千里 马永辉 +3 位作者 钟诚 李晓 廉重 刘志权 《电子与封装》 2025年第5期78-86,共9页
随着摩尔定律指引下的晶体管微缩逼近物理极限,先进封装技术通过系统微型化与异构集成,成为突破芯片性能瓶颈的关键路径。作为先进封装的核心分支,2.5D封装通过硅/玻璃中介层实现高密度互连与多芯片异构集成,兼具高带宽、低延迟和小型... 随着摩尔定律指引下的晶体管微缩逼近物理极限,先进封装技术通过系统微型化与异构集成,成为突破芯片性能瓶颈的关键路径。作为先进封装的核心分支,2.5D封装通过硅/玻璃中介层实现高密度互连与多芯片异构集成,兼具高带宽、低延迟和小型化优势,广泛应用于人工智能、高性能计算及移动电子领域。系统阐述了2.5D封装的核心结构(如Co Wo S、EMIB和I-Cube)及其技术特征,重点剖析了Chiplet模块化设计、硅通孔(TSV)工艺优化、微凸点可靠性提升、铜-铜直接键合界面工程以及再布线层多物理场协同设计等关键技术的最新进展。未来研究需聚焦低成本玻璃基板、原子层沉积技术抑制界面氧化以及多物理场协同设计等方面,以突破良率和散热瓶颈,推动2.5D封装在后摩尔时代高算力场景中的广泛应用。 展开更多
关键词 2.5D封装 再布线层 微凸点 硅通孔 铜-铜直接键合
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一种用于微系统微焊点层的改进等效力学参数计算方法
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作者 李逵 邢睿思 +4 位作者 匡乃亮 杨宇军 王超 张跃平 高武 《微电子学与计算机》 2023年第11期112-120,共9页
随着电子产品不断向微型化、集成化发展,基于硅通孔(TSV)的2.5D和3D封装等先进封装技术被广泛应用于微系统集成.然而,数量众多的微米级焊点和毫米级管壳封装使得微系统结构呈现多尺度特征,极大增加了仿真分析难度、降低了计算效率,亟需... 随着电子产品不断向微型化、集成化发展,基于硅通孔(TSV)的2.5D和3D封装等先进封装技术被广泛应用于微系统集成.然而,数量众多的微米级焊点和毫米级管壳封装使得微系统结构呈现多尺度特征,极大增加了仿真分析难度、降低了计算效率,亟需通过微焊点层的等效力学参数均匀化计算以建立简化模型减少计算量.采用理论分析与有限元仿真两种方法分别计算微焊点层等效力学参数,并对比分析两种方法计算结果差异.最后,结合有限元方法计算值,提出了一种改进等效力学参数均匀化计算方法,高效且精确给出微焊点层等效力学参数,为微系统封装结构的仿真分析评估提供技术支撑. 展开更多
关键词 微系统 微焊点 结构多尺度 均匀化方法
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