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Recent advances in lithographic fabrication of micro-/nanostructured polydimethylsiloxanes and their soft electronic applications 被引量:2
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作者 Donghwi Cho Junyong Park +1 位作者 Taehoon Kim Seokwoo Jeon 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第11期48-65,共18页
The intensive development of micro-/nanotechnologies offers a new route to construct sophisticated architectures of emerging soft electronics.Among the many classes of stretchable materials,micro-/nanostructured poly(... The intensive development of micro-/nanotechnologies offers a new route to construct sophisticated architectures of emerging soft electronics.Among the many classes of stretchable materials,micro-/nanostructured poly(dimethylsiloxane)(PDMS)has emerged as a vital building block based on its merits of flexibility,stretchability,simple processing,and,more importantly,high degrees of freedom of incorporation with other functional materials,including metals and semiconductors.The artificially designed geometries play important roles in achieving the desired mechanical and electrical performances of devices and thus show great potential for applications in the fields of stretchable displays,sensors and actuators as well as in health-monitoring device platforms.Meanwhile,novel lithographic methods to produce stretchable platforms with superb reliability have recently attracted research interest.The aim of this review is to comprehensively summarize the progress regarding micro-/nanostructured PDMS and their promising soft electronic applications.This review is concluded with a brief outlook and further research directions. 展开更多
关键词 lithographic technique microstructure NANOSTRUCTURE POLYDIMETHYLSILOXANE SOFT electronics
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Fabrication of Anti-reflecting Si Nano-structures with Low Aspect Ratio by Nano-sphere Lithography Technique 被引量:1
2
作者 Shenghua Sun Peng Lu +4 位作者 Jun Xu Ling Xu Kunji Chen Qimin Wang Yuhua Zuo 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CAS 2013年第1期18-25,共8页
Nano-structured photon management is currently an interesting topic since it can enhance the optical absorption and reduce the surface reflection which will improve the performance of many kinds of optoelectronic devi... Nano-structured photon management is currently an interesting topic since it can enhance the optical absorption and reduce the surface reflection which will improve the performance of many kinds of optoelectronic devices, such as Si-based solar cells and light emitting diodes. Here, we report the fabrication of periodically nano-patterned Si structures by using polystyrene nano-sphere lithography technique. By changing the diameter of nano-spheres and the dry etching parameters, such as etching time and etching power, the morphologies of formed Si nano-structures can be well controlled as revealed by atomic force microscopy.A good broadband antireflection property has been achieved for the formed periodically nano-patterned Si structures though they have the low aspect ratio(<0.53). The reflection can be significantly reduced compared with that of flat Si substrate in a wavelength range from 400 nm to 1200 nm. The weighted mean reflection under the AM1.5 solar spectrum irradiation can be as low as 3.92% and the corresponding optical absorption is significantly improved, which indicates that the present Si periodic nano-structures can be used in Si-based thin film solar cells. 展开更多
关键词 Nano-sphere lithograph Nano-patterned Si structures ANTIREFLECTION
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Master of the House of Ten Thousand Stones:A Note on Lithographer Sun Huang
3
《China & The World Cultural Exchange》 1998年第1期44-45,共2页
关键词 Master of the House of Ten Thousand Stones:A Note on lithographer Sun Huang
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Lithographic patterning of ferromagnetic FePt nanoparticles from a single-source bimetallic precursor containing hemiphasmidic structure for magnetic data recording media 被引量:1
4
作者 Zhengong Meng Cheuk-Lam Ho +5 位作者 Hon-Fai Wong Zhen-Qiang Yu Nianyong Zhu Guijun Li Chi-Wah Leung Wai-Yeung Wong 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2019年第4期566-576,共11页
Patterning of L10 FePt nanoparticles(NPs) with high coercivity offers a promising route to develop bit-patterned media(BPM) for the next generation magnetic data recording system, but the synthesis of monodisperse FeP... Patterning of L10 FePt nanoparticles(NPs) with high coercivity offers a promising route to develop bit-patterned media(BPM) for the next generation magnetic data recording system, but the synthesis of monodisperse FePt NPs and mass production of their nanopatterns has been a longstanding challenge. Here, highly efficient nanoimprint lithography was applied for large-scale universal patterning, which was achieved by imprinting the solution of a single-source bimetallic precursor. The rigid coplanar metallic cores and the surrounding flexible tails in the bimetallic complex permit the spontaneous molecular arrangements to form the highly ordered negative morphology replicated from the soft template.In-situ pyrolysis study was then investigated by one-pot pyrolysis of the precursor under an Ar/H2 atmosphere, and the resultant NPs were fully characterized to identify the phase,morphology and magnetic properties. Finally, highly-ordered patterns on certain substrates were preserved perfectly after pyrolysis and could be potentially utilized in magnetic data recording media. 展开更多
关键词 FEPT nanoparticles single-source BIMETALLIC precursors ONE-POT pyrolysis lithographic PATTERNING magnetic data recording media
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薄膜铌酸锂复杂波导的光刻工艺参数优化
5
作者 石照耀 唐长发 +2 位作者 杨登才 杨锋 李子琰 《北京工业大学学报》 北大核心 2025年第9期1121-1128,共8页
近年来不断有新技术应用于光刻来提升光刻分辨率,由于研究和资金等方面的问题,其技术难度呈指数级增长,研究如何改进光刻工艺技术,寻找更优秀的工艺方法,已成为当前优化光刻图形、提升光刻最小分辨率的研究方向。提出了一种光刻参数优... 近年来不断有新技术应用于光刻来提升光刻分辨率,由于研究和资金等方面的问题,其技术难度呈指数级增长,研究如何改进光刻工艺技术,寻找更优秀的工艺方法,已成为当前优化光刻图形、提升光刻最小分辨率的研究方向。提出了一种光刻参数优化方法,该方法通过定义最大允许时差的概念,来表征光刻工艺参数之间的相互关系。分别选用图案线宽为1.5、2.0、2.5μm的掩模版,用优化前后的光刻参数在SUSS MJB4光刻机下套刻。经过实验测试,用优化后光刻参数套刻得到的线条宽度窄于同样条件下未优化光刻参数套刻得到的线条宽度。 展开更多
关键词 薄膜铌酸锂 光波导 光刻分辨率 光刻工艺 最大允许时差 优化设计
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基于光刻掩膜的光强梯度势阱设计及其光束指向控制应用验证
6
作者 于锦锦 潘丽康 +5 位作者 杨旭 李自强 余航 谷亮 耿超 李新阳 《光电工程》 北大核心 2025年第6期25-33,共9页
随着光纤激光相控阵技术向更多阵列单元发展,阵列光束间的指向误差成为影响光束合成效果的关键因素。针对基于光强梯度势阱的光束指向控制方法中光强梯度势阱调制片的制备难题,提出并采用光刻掩膜工艺制备基于环形条纹组合图样的光强梯... 随着光纤激光相控阵技术向更多阵列单元发展,阵列光束间的指向误差成为影响光束合成效果的关键因素。针对基于光强梯度势阱的光束指向控制方法中光强梯度势阱调制片的制备难题,提出并采用光刻掩膜工艺制备基于环形条纹组合图样的光强梯度势阱调制片,实测光强透过率与设计值相符,归一化透过率的均方根误差为0.0166。基于随机并行梯度下降算法和自适应光纤准直器,通过仿真和实验手段实现扩展区域内光束指向误差的快速闭环校正,在平均光束指向误差约702.00μrad的初始条件下,校正后的指向残差均值小于10.00μrad。该研究为针对扩展目标的光束合成和激光指向控制提供重要参考。 展开更多
关键词 光束合成 光强梯度势阱 指向误差 光刻掩膜
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基于图族建模与图神经网络的热点检测算法
7
作者 梁珑曦 蔡述庭 张慧 《广东工业大学学报》 2025年第6期34-43,共10页
随着集成电路工艺推进至先进节点,版图结构复杂度大幅上升,制造良率维持难度显著增加,对光刻热点检测提出更高要求。针对现有检测方法在版图建模表达力、增强样本区分性与模型检测能力方面的问题,本文提出一种基于图族建模与图神经网络... 随着集成电路工艺推进至先进节点,版图结构复杂度大幅上升,制造良率维持难度显著增加,对光刻热点检测提出更高要求。针对现有检测方法在版图建模表达力、增强样本区分性与模型检测能力方面的问题,本文提出一种基于图族建模与图神经网络的热点检测算法,实现结构表达力与模型判别性能的协同提升。首先,面向光刻版图片段提出一种多尺度图族建模方法,通过局部子图与全局大图联合构建图族结构,能有效提升版图结构与语义属性的表达能力,同时增强样本在数据增强处理下的可分性。其次,在图族结构作为样本输入的基础上,设计了分层图神经网络热点检测模型,提升了多层次特征提取能力与对核心区域的结构聚焦能力。最后,本文图族建模方法的tSNE嵌入可视化实验结果表明,在样本分布均匀性与结构区分性方面具有显著优势,相比传统图像建模,其平均最近邻距离(Mean Nearest Neighbor Distance,MNND)提升了206个百分点、Shannon分布熵提升了16个百分点。本文图神经网络模型使用ICCAD'19 TNSB竞赛数据集进行测试,在保持结构层次化的同时实现了优异的检测效果,召回率达到99.91%,误报率仅为1.12%,为光刻版图片段的数据增强表达能力、复杂热点感知能力的提升与光刻热点检测问题的解决提供创新算法。 展开更多
关键词 光刻热点检测 图神经网络 多尺度图族建模 图族结构 数据增强表达能力
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利用软模板和紫外光固化技术制备超疏水表面 被引量:38
8
作者 刘斌 傅叶勍 +2 位作者 阮维青 和亚宁 王晓工 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第2期155-160,共6页
研究了一种制备超疏水表面的新方法.该方法以复制了荷叶表面结构的聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体为软模板.利用可紫外光交联预聚物在模板压印条件下固化成型,得到了具有微乳突结构的仿荷叶表面.制备的仿荷叶表面表现出了超疏水性能.通过... 研究了一种制备超疏水表面的新方法.该方法以复制了荷叶表面结构的聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体为软模板.利用可紫外光交联预聚物在模板压印条件下固化成型,得到了具有微乳突结构的仿荷叶表面.制备的仿荷叶表面表现出了超疏水性能.通过对紫外光固化体系中的单体含量、交联剂含量、引发剂含量、以及紫外曝光时间等因素的研究,得到了使仿荷叶表面的疏水性优化的条件. 展开更多
关键词 软模板 超疏水 接触角 紫外光固化 聚二甲基硅氧烷(PDMS)
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高数值孔径投影光刻物镜的光学设计 被引量:10
9
作者 徐明飞 庞武斌 +2 位作者 徐象如 王新华 黄玮 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期740-746,共7页
针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的... 针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的优劣进行对比分析,选择了同轴式结构作为最终的设计方案。分析了系统在不同NA情况下可变光阑与其远心度之间的关系,提出了用双可变曲面光阑的设计方案来优化系统的远心度。实验表明,应用本文设计方案,光刻物镜的波像差小于1nm,畸变小于1nm;新型的可变光阑使系统NA在0.85~1.35变化时的最大远心度由5.83~17.57mrad降低至0.26~3.21mrad。本文提出的设计方案为45nm节点高数值孔径投影光刻物镜的研制提供了有益的理论依据和指导。 展开更多
关键词 光学设计 高数值孔径(NA)投影光刻物镜 深紫外投影光刻物镜 远心度 曲面光阑
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光刻投影物镜中的透镜X-Y柔性微动调整机构 被引量:22
10
作者 赵磊 巩岩 赵阳 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1425-1433,共9页
针对光刻投影物镜中透镜X-Y调整机构调整量程小、调整精度高的特点,提出了一种基于柔性铰链的X-Y微动调整机构,并将其应用在光刻投影物镜模型中进行了实验验证。首先,基于机构自由度和机构瞬心等概念介绍了该机构的工作原理。然后,用柔... 针对光刻投影物镜中透镜X-Y调整机构调整量程小、调整精度高的特点,提出了一种基于柔性铰链的X-Y微动调整机构,并将其应用在光刻投影物镜模型中进行了实验验证。首先,基于机构自由度和机构瞬心等概念介绍了该机构的工作原理。然后,用柔性铰链代替传统铰链完成了该机构的结构设计,并对该机构的运动方向刚度、位移输入-输出比以及固有频率和阵型等进行了仿真分析。分析结果表明:该机构X,Y方向的刚度值为1.99μm/N和1.96μm/N,X,Y方向的位移输入-输出比值分别为-2.5和-2.56,机构X,Y方向运动的原理误差分别为实际量的8.22%和6.68%。最后,将研制的X-Y微动调整机构用于光刻投影物镜验证模型中,给出了X-Y调整机构补偿前后的系统波像差。结果显示:模型补偿前后的系统波像差RMS分别为50.864nm和25.933nm。由此表明,本文设计的柔性微动调整机构补偿效果明显,能够满足光刻投影物镜高精度X-Y调整补偿要求。 展开更多
关键词 光刻物镜 柔性铰链 微动调整机构 系统波像差
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古钾盐成矿条件和塔里木盆地找钾研究 被引量:9
11
作者 姚远 马海州 +2 位作者 谭红兵 董亚萍 马万栋 《盐湖研究》 CSCD 2004年第2期8-13,共6页
我国已发现的钾盐矿床不能满足国民经济发展的需求,寻找新的大型钾盐矿床是一项紧迫的任务,塔里木盆地西部,在地史时期接受多次海侵,且盆地内广泛出露岩盐矿,是一有利的成矿区。古盐湖演化的最后阶段,浓度程度高的卤水汇聚到盆地的次级... 我国已发现的钾盐矿床不能满足国民经济发展的需求,寻找新的大型钾盐矿床是一项紧迫的任务,塔里木盆地西部,在地史时期接受多次海侵,且盆地内广泛出露岩盐矿,是一有利的成矿区。古盐湖演化的最后阶段,浓度程度高的卤水汇聚到盆地的次级拗陷中,最后形成钾盐矿床,所以确定盐湖演化阶段盆地的次级拗陷位置对寻找钾盐矿至关重要。在详细查阅和消化前人资料的基础上,结合最近的野外考察认识和室内样品分析的数据,确立库车盆地的拜城—轮台地区和莎车盆地的喀什—和田、乌恰—阿克陶地区为找矿重点区域。 展开更多
关键词 钾盐矿床 成矿条件 塔里木盆地 岩相古地理 次级拗陷 海侵
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精密光学系统的热像差 被引量:6
12
作者 张巍 于新峰 +3 位作者 周连生 王学亮 倪明阳 彭海峰 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期3033-3040,共8页
为了精确控制与补偿物镜的热像差,设计了一套三镜实验光学系统,基于该系统验证了热像差计算方法的准确性。介绍了热像差分析方法及验证实验方案。开展不同热载工况下热像差测试实验,并与仿真结果进行了对比。最后,综合实验与仿真结果,... 为了精确控制与补偿物镜的热像差,设计了一套三镜实验光学系统,基于该系统验证了热像差计算方法的准确性。介绍了热像差分析方法及验证实验方案。开展不同热载工况下热像差测试实验,并与仿真结果进行了对比。最后,综合实验与仿真结果,分析了特定热载条件下系统热像差中非轴对称像差成分以及系统最佳焦面的变化趋势,获得了热像差的瞬态特性。实验结果显示:在输入热载大小之比为1∶4∶9的情况下,实验和仿真获得的热像差均方根(RMS)值之比分别为1∶3.75∶9和1∶4.01∶9.01,光学系统所加热载和热像差之间呈线性关系;在实验热载荷作用下,系统最佳焦面的稳态时间小于450min,而热像差中一阶像散(标准Zernike Z4)的稳态时间小于48min,一阶四叶(标准Zernike Z11)的稳态时间小于9min,最佳焦面稳态时间远大于非轴对称成分的稳态时间。基于该三镜实验光学系统所获得的热像差特性能够为投影光刻物镜或其它精密光学系统的热像差控制与补偿提供有力支撑。 展开更多
关键词 精密光学系统 激光辐照 投影光刻物镜 热像差
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支撑应力对光刻透镜透射波前畸变的影响 被引量:7
13
作者 王平 田伟 +1 位作者 王汝冬 王立朋 《中国光学》 EI CAS 2013年第1期57-63,共7页
为了设计光刻物镜的支撑结构,建立了支撑应力对透镜透射波前影响的模型,研究了该模型中支撑应力与折射率的关系及支撑应力对透镜透射波前畸变的影响。首先,根据晶体理论,建立了融石英透镜波前畸变与支撑应力之间关系的仿真模型。然后,... 为了设计光刻物镜的支撑结构,建立了支撑应力对透镜透射波前影响的模型,研究了该模型中支撑应力与折射率的关系及支撑应力对透镜透射波前畸变的影响。首先,根据晶体理论,建立了融石英透镜波前畸变与支撑应力之间关系的仿真模型。然后,分析了不同支撑结构下支撑应力与融石英透镜波前的关系。最后,分析了支撑应力造成的透射波前畸变的性质,并选择合适的物镜支撑结构。研究结果表明:光刻物镜支撑结构的支撑应力对透镜的透射波前有很大的影响:3点支撑的波前畸变PV值为3.69 nm;随着支撑点数量的增加,支撑应力造成的透射波前畸变逐渐减少;采用大于9点的支撑结构即可满足光刻投影物镜的元件支撑需求。 展开更多
关键词 光学设计 光刻投影物镜 波前畸变 应力双折射 融石英 元件支撑
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运放对压电陶瓷驱动电路系统精度影响的研究 被引量:10
14
作者 王学亮 李佩玥 +1 位作者 郑楠 崔洋 《电子测量技术》 2014年第10期33-36,共4页
为了在光刻机投影物镜中使用压电陶瓷对像质补偿镜组进行精密定位,设计了一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动电路。针对光刻物镜中压电陶瓷的亚微米量级高精度定位要求,研究了驱动电路的系统精度要求,并对系统误差进行分解,着重分... 为了在光刻机投影物镜中使用压电陶瓷对像质补偿镜组进行精密定位,设计了一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动电路。针对光刻物镜中压电陶瓷的亚微米量级高精度定位要求,研究了驱动电路的系统精度要求,并对系统误差进行分解,着重分析了运算放大器放对系统精度的影响。首先,分析运放失调误差的影响;其次,使用PSpice仿真获得运放的固有频率特性,分析工作带宽下运放有限开环增益的影响;然后,对运放反馈网络的影响进行分析;最后,分析运放输出噪声的影响。计算表明,在最坏情况下该压电陶瓷驱动电路中由运算放大器引起的系统误差小于130mV,满足系统误差分配的要求。试制了系统样机并进行了验证实验,实验结果表明由运放引起的系统误差不超过100mV,与理论分析的结果符合。 展开更多
关键词 光刻物镜 压电陶瓷 驱动电路 误差分析 亚微米
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6-PSS型光学元件精密轴向调节机构 被引量:15
15
作者 郭抗 巩岩 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2648-2655,共8页
设计了一种采用6-PSS型并联机构的光学元件精密轴向调节机构,以使光刻物镜中光学元件的调节行程达微米级,调节精度达纳米级。将6-PSS型并联机构中的6个移动副改进为3个,减少了驱动器的使用数量,提高了轴向调节机构的可靠性;设计了一种... 设计了一种采用6-PSS型并联机构的光学元件精密轴向调节机构,以使光刻物镜中光学元件的调节行程达微米级,调节精度达纳米级。将6-PSS型并联机构中的6个移动副改进为3个,减少了驱动器的使用数量,提高了轴向调节机构的可靠性;设计了一种圆角薄柔性铰链结构作为6-PSS型并联机构中的球铰副,实现了轴向调节机构的结构一体化,简化了光机组件的装调过程,提高了机构的机械精度;利用空间矢量法分析了机构输入构件与输出构件之间的位置关系,推导出了机构的传动比表达式,为机构主要结构尺寸的选取提供了依据。轴向调节机构的验证试验结果表明:机构传动比的理论计算值接近于实测值;轴向调节机构的调节行程为74.4μm,调节精度在40nm以内,满足光刻物镜中光学元件轴向调节机构的使用需求。 展开更多
关键词 光刻物镜 光学元件 调节机构 并联机构 一体化结构 6-PSS
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光刻投影物镜中柔性多弹片支撑方式的性能分析 被引量:6
16
作者 彭海峰 巩岩 赵磊 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期71-75,共5页
大口径光学元件的支撑技术是精密光学仪器的关键技术之一,在精密光学仪器的光学元件支撑中,多弹片支撑因其能使光学元件均匀受力且能够较好的消除热像差而得到很多应用。本文针对一种L形多弹片光学元件支撑结构做了结构设计,并对通过相... 大口径光学元件的支撑技术是精密光学仪器的关键技术之一,在精密光学仪器的光学元件支撑中,多弹片支撑因其能使光学元件均匀受力且能够较好的消除热像差而得到很多应用。本文针对一种L形多弹片光学元件支撑结构做了结构设计,并对通过相应的理论推导,得到其力学性能与主要几何参数的关系;以一种典型镜片为例,对镜片在三十六点支撑方式下发生的轴向位移和镜片面形的变化做了分析,得到了轴向位移和镜片面形与弹片的三个主要几何参数的关系。结果表明,在通光口径允许情况下,可以使支撑点距离中心的距离和弹片的宽度缩短以使镜片的面型变好。本文的研究结果为这种支撑结构的实际应用提供了支持和参考。 展开更多
关键词 光刻投影物镜 多弹片支撑结构 自重变形 面形分析
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深紫外光刻投影物镜的三维偏振像差 被引量:3
17
作者 贺文俊 贾文涛 +3 位作者 冯文田 郑阳 刘智颖 付跃刚 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第8期237-244,共8页
深紫外光刻投影物镜是光刻机的核心部件,然而无论是照明光场偏振态的空间分布,还是光刻投影物镜自身的偏振像差都将改变光束的紧聚焦特性,对成像质量造成不可忽略的影响。基于三维琼斯矩阵,把偏振像差函数推广到三维空间,建立了三维相... 深紫外光刻投影物镜是光刻机的核心部件,然而无论是照明光场偏振态的空间分布,还是光刻投影物镜自身的偏振像差都将改变光束的紧聚焦特性,对成像质量造成不可忽略的影响。基于三维琼斯矩阵,把偏振像差函数推广到三维空间,建立了三维相干光场中偏振像差的评价方法,并分析了典型的偏振敏感光学系统——深紫外光刻投影物镜的三维偏振像差,详细阐述了其物理意义。研究发现:三维偏振像差函数的光瞳分布与视场、光学薄膜以及光学系统的自身结构密切相关。深入讨论了光学薄膜及偏振效应对光刻投影物镜成像质量的影响,进一步研究了照明光场的偏振态分布与光学系统波像差的关系,研究表明:光学薄膜引入的附加位相将导致光刻投影物镜的像质明显下降,而采用径向矢量光场照明可以改善成像质量。 展开更多
关键词 偏振 光刻投影物镜 偏振像差 像质评价 波像差
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光刻物镜光学零件制造关键技术概述 被引量:9
18
作者 戴一帆 彭小强 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第17期10-18,共9页
光刻物镜制造是当前超精密光学加工领域的发展前沿,其加工精度要求达到纳米甚至亚纳米量级。围绕光刻物镜纳米精度制造、超光滑表面生成和特殊材料加工等要求,提出纳米精度制造的关键性理论和方法。基于Sigmund溅射理论,研究高效原子量... 光刻物镜制造是当前超精密光学加工领域的发展前沿,其加工精度要求达到纳米甚至亚纳米量级。围绕光刻物镜纳米精度制造、超光滑表面生成和特殊材料加工等要求,提出纳米精度制造的关键性理论和方法。基于Sigmund溅射理论,研究高效原子量级材料去除可控性,为纳米精度生成提供了基础;提出材料添加和去除相结合的方法,克服传统误差高点去除光学制造理论局限,为纳米精度和超光滑表面生成提供了思路;针对单晶CaF2纳米制造的各向异性,研究可控柔体抛光理论,克服传统刚性盘抛光差异性适应能力局限,建立各向异性材料的一致性去除理论。在自行研制的装备上进行相关的工艺试验,实现了光学零件的超高精度加工,从加工角度看,已基本掌握193 nm光刻物镜光学零件加工的理论、工艺和装备技术。 展开更多
关键词 微电子制造 光刻物镜 磁流变抛光 离子束抛光
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等离子体软x射线源及其用于微细加工的探讨 被引量:2
19
作者 郭小明 罗承沐 +2 位作者 周兆英 叶雄英 李成榕 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1995年第1期1-6,44,共7页
喷气式Z箍缩等离子体装置可产生较强的脉冲软x射线,利用此x射线进行了初步曝光实验。另外,本文对此装置用于微细加工从理论上进行了初步探讨。
关键词 等离子体 软X线 光刻 微细加工
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光刻物镜中压电陶瓷驱动器的动态性能研究 被引量:6
20
作者 王学亮 巩岩 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期1071-1075,共5页
针对压电陶瓷在光刻机投影物镜中作为像质补偿镜组促动器的特定应用要求,对一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动器的动态性能进行了研究.首先,针对驱动器系统中集成运放固有频率特性对动态性能的影响进行了分析,确定了外部补偿网络... 针对压电陶瓷在光刻机投影物镜中作为像质补偿镜组促动器的特定应用要求,对一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动器的动态性能进行了研究.首先,针对驱动器系统中集成运放固有频率特性对动态性能的影响进行了分析,确定了外部补偿网络的参量.然后,针对驱动器系统大容性负载对动态性能的影响进行了分析,提出了隔离电阻的补偿方法.最后,讨论了驱动器系统中寄生电容对动态性能的影响.计算表明:补偿后的压电陶瓷驱动器系统相位裕量为79°,阶跃响应无超调量,调节时间为5μs.基本满足压电陶瓷在光刻物镜中作为像质补偿镜组促动器的稳定性强、响应快速、超调量小等动态要求. 展开更多
关键词 光刻物镜 压电陶瓷 动态性能
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