期刊文献+
共找到9篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
西安渭河公轨两用桥顶推施工控制关键技术
1
作者 郭晓程 刘虎虎 《山西建筑》 2026年第6期152-156,190,共6页
西安地铁10号线渭河公轨两用桥为(124+132+132+168+300+168+132+132+124) m连续钢桁梁桥。施工采用两岸往跨中多点同步顶推工艺,按主梁合龙、加劲弦安装、整体落梁完成体系转换。针对不对称纵坡与复杂竖曲线构造,重点分析节点高差与定... 西安地铁10号线渭河公轨两用桥为(124+132+132+168+300+168+132+132+124) m连续钢桁梁桥。施工采用两岸往跨中多点同步顶推工艺,按主梁合龙、加劲弦安装、整体落梁完成体系转换。针对不对称纵坡与复杂竖曲线构造,重点分析节点高差与定位精度影响机制,将墩顶支反力与结构应力控制在安全阈值内,实现钢桁梁顶推受力均衡与结构安全。力学响应分析表明,支点高差变化会使反力重分配,应力增幅随抄垫量增加呈非线性增长;主桁节点偏距对结构力学行为影响显著,腹板应力随偏距增大呈指数级增长,为施工控制提供理论基础。 展开更多
关键词 数值计算 钢桁梁桥 顶推控制 节点高差 节点偏距
在线阅读 下载PDF
Edge termination study and fabrication of a 4H-SiC junction barrier Schottky diode 被引量:3
2
作者 陈丰平 张玉明 +3 位作者 张义门 汤晓燕 王悦湖 陈文豪 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第11期446-450,共5页
The 4H-SiC junction barrier Schottky (JBS) diodes terminated by field guard rings and offset field plate are designed, fabricated and characterized. It is shown experimentally that a 3-μm P-type implantation window... The 4H-SiC junction barrier Schottky (JBS) diodes terminated by field guard rings and offset field plate are designed, fabricated and characterized. It is shown experimentally that a 3-μm P-type implantation window spacing gives an optimum trade-off between forward drop voltage and leakage current density for these diodes, yielding a specific on-resistance of 8.3 mΩ-cm2. A JBS diode with a turn-on voltage of 0.65 V and a reverse current density less than 1 A/cm2 under 500 V is fabricated, and the reverse recovery time is tested to be 80 ns, and the peak reverse current is 28.1 mA. Temperature-dependent characteristics are also studied in a temperature range of 75 °C-200 °C. The diode shows a stable Schottky barrier height of up to 200°C and a stable operation under a continuous forward current of 100 A/cm2. 展开更多
关键词 4H-SIC junction barrier Schottky offset field plate electrical characteristics
原文传递
激光二极管正向电特性的精确检测 被引量:6
3
作者 丛红侠 冯列峰 +4 位作者 王军 朱传云 王存达 谢雪松 吕长志 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期105-109,共5页
采用正向交流特性结合I-V特性的方法,检测了激光二极管的串联电阻、理想因子、结电压和结电容与外加电压或电流的关系.首次发现,激光二极管的结电压、串联电阻、理想因子和结电容在阈值附近同时出现了明显的阶跃,之后结电压呈现饱和.此... 采用正向交流特性结合I-V特性的方法,检测了激光二极管的串联电阻、理想因子、结电压和结电容与外加电压或电流的关系.首次发现,激光二极管的结电压、串联电阻、理想因子和结电容在阈值附近同时出现了明显的阶跃,之后结电压呈现饱和.此外还观察到,在较低的测试频率和较大的正向电压下,激光二极管的结电容具有负值. 展开更多
关键词 正向交流特性 激光二极管 激光阈值 阶跃 结电压饱和 负电容
在线阅读 下载PDF
一种新型偏置栅MOS管漂移区表面电压和电场的分析模型 被引量:2
4
作者 孙伟锋 吴建辉 +1 位作者 陆生礼 时龙兴 《电子器件》 CAS 2002年第3期292-295,共4页
本文提出了偏置栅MOS管漂移区离子注入剂量对表面电压和PN结边界电场两者关系的一种新的分析模型 ,借助数学推导得到该模型的计算方程 ,通过仿真曲线图能清楚地看到它们之间的变化关系 。
关键词 偏置栅MOS 漂移区 表面电压 PN结边界电场
在线阅读 下载PDF
硅三极管电子辐照的残余电压效应
5
作者 巫晓燕 田野 +3 位作者 石瑞英 龚敏 温景超 王靳君 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期881-884,共4页
研究了双极型晶体管(BJT)高能电子(1.5MeV)辐照的总注量效应,电子辐照的总注量为5×1013~1.2×1016 cm-2。实验结果表明,三极管经电子辐照后,有残余电压产生,残余电压随电子总注量的增加而增大。认为是由于辐照后产生的缺陷能... 研究了双极型晶体管(BJT)高能电子(1.5MeV)辐照的总注量效应,电子辐照的总注量为5×1013~1.2×1016 cm-2。实验结果表明,三极管经电子辐照后,有残余电压产生,残余电压随电子总注量的增加而增大。认为是由于辐照后产生的缺陷能级导致的去载流子效应使得BC结自建电势差变化量大于BE结,以及缺陷能级使BC结导带差变化量大于BE结这两方面原因引起的。 展开更多
关键词 硅三极管 电子辐照 残余电压
在线阅读 下载PDF
一种低失调高压大电流集成运算放大器 被引量:14
6
作者 施建磊 杨发顺 +2 位作者 时晨杰 胡锐 马奎 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第1期8-14,共7页
基于结型场效应晶体管(JFET)和双极型晶体管(BJT)兼容工艺,设计了一种低失调高压大电流集成运算放大器。电路输入级采用p沟道JFET (p-JFET)差分对共源共栅结构;中间级以BJT作为放大管,采用复合有源负载结构;输出级采用复合npn达林顿管阵... 基于结型场效应晶体管(JFET)和双极型晶体管(BJT)兼容工艺,设计了一种低失调高压大电流集成运算放大器。电路输入级采用p沟道JFET (p-JFET)差分对共源共栅结构;中间级以BJT作为放大管,采用复合有源负载结构;输出级采用复合npn达林顿管阵列,与常规推挽输出结构相比,在输出相同电流的情况下,节省了大量芯片面积。基于Cadence Spectre软件对该运算放大器电路进行了仿真分析和优化设计,在±35 V电源供电下,最小负载电阻为6Ω时的电压增益为95 dB,输入失调电压为0.224 5 mV,输入偏置电流为31.34 pA,输入失调电流为3.3 pA,单位增益带宽为9.6 MHz,具有输出9 A峰值大电流能力。 展开更多
关键词 集成运算放大器 共源共栅结构 结型场效应晶体管(JFET) 双极型晶体管(BJT) 低失调 大电流
原文传递
一种高压精密低输入偏置电流JFET型放大器 被引量:2
7
作者 张键 胡辉勇 +1 位作者 周远杰 何峥嵘 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2023年第6期527-532,共6页
基于40 V高压互补双极性结型晶体管(BJT)兼容结型场效应晶体管(JFET)工艺,设计了一种高压精密低输入偏置电流JFET型放大器,介绍了放大器总体架构以及工作原理。电路内部采用JFET输入器件降低输入偏置电流,提高带宽,用修调电阻降低输入... 基于40 V高压互补双极性结型晶体管(BJT)兼容结型场效应晶体管(JFET)工艺,设计了一种高压精密低输入偏置电流JFET型放大器,介绍了放大器总体架构以及工作原理。电路内部采用JFET输入器件降低输入偏置电流,提高带宽,用修调电阻降低输入失调电压;采用四核跨导结构优化中间级提高运放的压摆率;输出级采用互补推挽输出结构防止交越失真,同时提高功率驱动能力;偏置电路利用JFET作恒流源,保证在不同工作电压下稳定供电。芯片流片测试结果表明,该放大器在±5~±13 V工作电压条件下,输入失调电压≤80μV;输入偏置电流≤1.5 pA;开环增益≥107 dB;增益带宽积≥25 MHz;压摆率≥50 V/μs。 展开更多
关键词 低失调电压 低输入偏置电流 高精度 结型场效应管输入放大器
原文传递
CuSCN作为石墨烯/硅异质结太阳能电池无机界面层的数值模拟
8
作者 张铃 杨钦如 +2 位作者 余梦 黄锐明 程其进 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期4001-4006,共6页
界面工程是改善石墨烯/硅异质结太阳能电池性能的有效方法之一,但目前常用的界面材料存在价格高、稳定性差等问题。本实验采用AFORS⁃HET软件对石墨烯/硅太阳能电池进行数值模拟,并引入无机界面材料CuSCN实现降低电池成本、优化器件性能... 界面工程是改善石墨烯/硅异质结太阳能电池性能的有效方法之一,但目前常用的界面材料存在价格高、稳定性差等问题。本实验采用AFORS⁃HET软件对石墨烯/硅太阳能电池进行数值模拟,并引入无机界面材料CuSCN实现降低电池成本、优化器件性能和稳定性的目的,研究了CuSCN界面层的作用、CuSCN层的空穴迁移率和CuSCN/n⁃Si的价带补偿对太阳能电池性能的影响。结果表明,引入CuSCN界面层和增加CuSCN层的空穴迁移率均有利于提高器件的光伏性能。当CuSCN/n⁃Si界面的价带补偿大于-0.1 eV时,CuSCN层可作为电子阻挡⁃空穴传输层;并且当CuSCN/n⁃Si界面的价带补偿为0.2 eV时,所构建的石墨烯/CuSCN/硅异质结太阳能电池模型取得了25.8%的最佳光电转换效率。本研究有助于揭示影响石墨烯/CuSCN/硅异质结太阳能电池性能的各种因素,为制备低成本、高效率的石墨烯/硅太阳能电池提供了有效途径。 展开更多
关键词 石墨烯 肖特基结 界面工程 硫氰酸亚铜 数值模拟 能带补偿
在线阅读 下载PDF
Numerical Optimization of Tunnel-recombination Junction and Optical Absorption Properties of a-Si:H/a-SiGe:H Double-junction Solar Cell
9
作者 KE Shaoying WANG Chong +3 位作者 PAN Tao WANG Zhaoqing YANG Jie YANG Yu 《Journal of the Chinese Ceramic Society》 2015年第1期1-11,共11页
The tunnel-recombination junction(TRJ) and optical absorption properties of a-Si:H/a-Si Ge:H double-junction solar cell were calculated by means of one dimensional simulator named AMPS-1D at the radiation of AM1.5G wi... The tunnel-recombination junction(TRJ) and optical absorption properties of a-Si:H/a-Si Ge:H double-junction solar cell were calculated by means of one dimensional simulator named AMPS-1D at the radiation of AM1.5G with a power density of 100 m W/cm2. Since the TRJ is the core component of the tandem solar cell, the optical absorption of the sub-cells and the electronic transport properties at the interface of the sub-cells are affected by the thickness and doping concentration of the TRJ. As a result, the TRJ parameters were optimized. The numerical results indicate that the maximum conversion efficiency(Eff) of 9.862% can be obtained when the thickness and doping concentration of the TRJ are 10 nm and 5*1019 cm–3, respectively. Based on the analysis of the contour map of short circuit current density, the optimal current matching can be achieved for 130 nm-thick top i-layer and 250 nm-thick bottom i-layer. In addition, four kinds of TRJ structures were also simulated for the comparison purpose. According to the calculated resistivity and band structures of the four TRJs, the efficiency of the solar cell with n-type μc-Si:H layer and p-type a-Si:H layer in TRJ structure is greater than that with other TRJ structures. It is assumed that the effect of the band offset that results in the formation of triangular barrier and backscattering behavior at the edge of the TRJ could be responsible to this phenomenon. 展开更多
关键词 a-Si:H/a-Si Ge:H tandem solar cell tunnel-recombination junction current matching band offset
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部