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利用空间光调制器的衍射特性提高VLC输出相关峰值
被引量：
3
1
作者
沈学举
姚广涛
+1 位作者
胡文刚
杜柏钢
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第11期2110-2113,共4页
Vander Luget相关器(VLC)中,由于空间光调制器(SLM)像素的周期性结构,在匹配滤波面上会产生目标图像的多级衍射谱。为了提高VLC输出的相关峰值,在不同级衍射谱处同时加载了匹配滤波器进行匹配滤波。理论分析表明,各级谱输出的相关点在...
Vander Luget相关器(VLC)中,由于空间光调制器(SLM)像素的周期性结构,在匹配滤波面上会产生目标图像的多级衍射谱。为了提高VLC输出的相关峰值,在不同级衍射谱处同时加载了匹配滤波器进行匹配滤波。理论分析表明,各级谱输出的相关点在输出面上位置相同,相干叠加的结果会使输出相关峰值提高。实验结果表明,和只对0级谱进行匹配滤波的情况相比,对目标图像的多级衍射谱同时进行匹配滤波可使平均输出相关峰值提高约32%,该方法能有效提高VLC的输出相关峰值。
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关键词
光学相关识别
Vander
Luget相关器
空间光调制器
相关峰
干涉
衍射
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职称材料
原位变温X射线衍射测试技术及其影响因素
被引量：
3
2
作者
毛晶
郭倩颖
+3 位作者
马利利
龙丽霞
韩雅静
马晓晖
《分析测试技术与仪器》
CAS
2023年第1期111-116,共6页
在X射线衍射仪中引入加热台,可以实现原位变温X射线衍射分析.原位试验是研究材料在加热或冷却过程中材料动力学的有效手段.对变温X射线衍射测试样品的要求、测量方法的原理、布鲁克D8 advance衍射仪原位变温的测试步骤以及测试过程中样...
在X射线衍射仪中引入加热台,可以实现原位变温X射线衍射分析.原位试验是研究材料在加热或冷却过程中材料动力学的有效手段.对变温X射线衍射测试样品的要求、测量方法的原理、布鲁克D8 advance衍射仪原位变温的测试步骤以及测试过程中样品的收缩问题、背底衍射峰干扰等常见影响因素进行了详细的说明,为变温X射线衍射测试提供了具体的试验指导.
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关键词
原位变温X射线衍射
样品体积收缩
背底干扰
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量：
5
3
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
利用空间光调制器的衍射特性提高VLC输出相关峰值
被引量：
3
1
作者
沈学举
姚广涛
胡文刚
杜柏钢
机构
军械工程学院
[
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第11期2110-2113,共4页
基金
河北省自然科学基金资助项目(No.F200700815)
文摘
Vander Luget相关器(VLC)中,由于空间光调制器(SLM)像素的周期性结构,在匹配滤波面上会产生目标图像的多级衍射谱。为了提高VLC输出的相关峰值,在不同级衍射谱处同时加载了匹配滤波器进行匹配滤波。理论分析表明,各级谱输出的相关点在输出面上位置相同,相干叠加的结果会使输出相关峰值提高。实验结果表明,和只对0级谱进行匹配滤波的情况相比,对目标图像的多级衍射谱同时进行匹配滤波可使平均输出相关峰值提高约32%,该方法能有效提高VLC的输出相关峰值。
关键词
光学相关识别
Vander
Luget相关器
空间光调制器
相关峰
干涉
衍射
Keywords
optical correlation recognition
Vander Luget Correlator（VLC）
Space Light Modulator（SLM）
correlation peak
interference
diffraction
分类号
O438.2 [机械工程—光学工程]
TP391 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
原位变温X射线衍射测试技术及其影响因素
被引量：
3
2
作者
毛晶
郭倩颖
马利利
龙丽霞
韩雅静
马晓晖
机构
天津大学材料科学与工程学院
出处
《分析测试技术与仪器》
CAS
2023年第1期111-116,共6页
基金
天津大学校级教改项目“材料学科大型仪器平台原位测试系统的开发”(LAB2021-23)。
文摘
在X射线衍射仪中引入加热台,可以实现原位变温X射线衍射分析.原位试验是研究材料在加热或冷却过程中材料动力学的有效手段.对变温X射线衍射测试样品的要求、测量方法的原理、布鲁克D8 advance衍射仪原位变温的测试步骤以及测试过程中样品的收缩问题、背底衍射峰干扰等常见影响因素进行了详细的说明,为变温X射线衍射测试提供了具体的试验指导.
关键词
原位变温X射线衍射
样品体积收缩
背底干扰
Keywords
in-situ variable temperature X-ray
diffraction
volume shrinkage
of
sample
interference of diffraction peaks from substrate
分类号
O657 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量：
5
3
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
interference
lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful micr
of
abrication technology because
of
its ease
of
repetition and suitability for large-area fabrication[1].The
diffraction
limit,however,restricts the fabrication scale
of
photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling
of
the imprint template and the
substrate
during the printing process,which determines the uniformity
of
the imprint result,is a challenging issue
of
this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale
of
a few tens
of
nanometers
from
the mask.In recent years,the use
of
surface-plasmon polaritons(SPPs) instead
of
photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP
interference
,such as SPP resonant
interference
nanolithography[8] and SPP-assisted
interference
nanolithography[9],achieved a sub-100nm
interference
pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area
interference
.To avoid the fabrication
of
the metal grating,a prism-based SPP maskless
interference
lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach
of
fers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations
of
the parameters are allowed to obtain an effective
interference
.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless
interference
lithography systemThe SPP maskless
interference
lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless
interference
lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h
of
metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3
of
medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
利用空间光调制器的衍射特性提高VLC输出相关峰值
沈学举
姚广涛
胡文刚
杜柏钢
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
原位变温X射线衍射测试技术及其影响因素
毛晶
郭倩颖
马利利
龙丽霞
韩雅静
马晓晖
《分析测试技术与仪器》
CAS
2023
3
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下载PDF
职称材料
3
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
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