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碳-硅异质集成ALU芯片的设计
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作者 郑彩萍 陈铖颖 +1 位作者 高鹰 陈隽毓 《厦门理工学院学报》 2026年第1期1-9,共9页
针对传统互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)工艺面临的性能瓶颈,设计出一款基于90 nm CNTFET与TSMC 90 nm CMOS工艺的碳-硅异质集成三维算术逻辑单元(arithmetic logic unit,ALU)芯片。该芯片采用3D... 针对传统互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)工艺面临的性能瓶颈,设计出一款基于90 nm CNTFET与TSMC 90 nm CMOS工艺的碳-硅异质集成三维算术逻辑单元(arithmetic logic unit,ALU)芯片。该芯片采用3D堆叠结构,上层使用90 nm CNTFET工艺提升关键路径速度与散热能力,下层采用TSMC 90 nm CMOS工艺以确保成本控制与工艺可行性;基于Cadence Integrity3DIC平台,实现该芯片的3D结构搭建,包括创建3D结构、bump设计和各个die的2D实现。实验结果表明,与纯碳基、纯硅基结构的ALU芯片相比,碳硅融合结构在散热和时序性能上均表现出优势,温度梯度较小,最高温度为53.24℃,最低温度为51.16℃,总延时为0.482 ns,时间裕度为4.382 ns。 展开更多
关键词 三维算术逻辑单元(ALU)芯片 三维集成电路(3DIC) 碳硅融合 异质集成 碳纳米管 Integrity_3DIC软件
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