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一种含浮栅的肖特基场效应晶体管特性研究 被引量:2
1
作者 王继祥 靳晓诗 任国琛 《微处理机》 2025年第1期20-23,共4页
本文提出一种源漏浮栅型场效应晶体管,针对传统PN结型器件在纳米尺度下结变陡的问题,采用金属-本征硅接触形成肖特基势垒,并在器件内部设计可充电的编程浮栅。研究表明,在N型工作模式下,当控制栅加正向电压且浮栅充入正电荷时,可增强栅... 本文提出一种源漏浮栅型场效应晶体管,针对传统PN结型器件在纳米尺度下结变陡的问题,采用金属-本征硅接触形成肖特基势垒,并在器件内部设计可充电的编程浮栅。研究表明,在N型工作模式下,当控制栅加正向电压且浮栅充入正电荷时,可增强栅极与源漏极重叠部分的电场强度,提高导通电流;当控制栅加反向电压时,浮栅中的正电荷减小了重叠区电场强度,降低了能带弯曲程度,从而减小反向漏电。该器件具有高导通电流和低反向漏电特性,且在纳米尺度下制作工艺简单,在未来集成电路中具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 浮栅型场效应晶体管 肖特基势垒 低反向漏电
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用于手机砷化镓MMIC射频开关的研制 被引量:2
2
作者 蒋幼泉 陈继义 +5 位作者 李拂晓 高建峰 徐中仓 邵凯 陈效建 杨乃彬 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期326-328,共3页
报道一种用于手机的高功率、低插损砷化镓 MMIC射频开关。该产品在 870~ 970 MHz下 ,线性功率容量 >3 3 d Bm,插入损耗 (IL) <0 .6d B,隔离度 (Iso)≥ 1 7d B,反向三阶交调 (PT0 1 )≥ 70 d Bm,控制电压 :(0 ,-4) V。
关键词 手机 砷化镓单片集成电路 双刀双掷开关 多栅场效应晶体管
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减小VDMOS密勒电容和反向恢复电荷的研究 被引量:6
3
作者 肖志强 向军利 +4 位作者 衡草飞 陈林 曾天志 陈万军 张波 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期305-307,共3页
提出了在VDMOSFET中减小密勒电容和反向恢复电荷的一种新结构,该结构结合了肖特基接触和分段多晶硅栅的方法。数值分析仿真结果表明,在相同器件单元尺寸下,该结构优于常规VDMOSFET,密勒电容Cgd可减少73.25%,Qgd和导通电阻优值减小65.02%... 提出了在VDMOSFET中减小密勒电容和反向恢复电荷的一种新结构,该结构结合了肖特基接触和分段多晶硅栅的方法。数值分析仿真结果表明,在相同器件单元尺寸下,该结构优于常规VDMOSFET,密勒电容Cgd可减少73.25%,Qgd和导通电阻优值减小65.02%,显示出很好的QgdRds(on)改善性能;同时,反向恢复电荷减少了40.76%。 展开更多
关键词 VDMOS FET 栅电荷 密勒电容 导通电阻 反向恢复电荷
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C波段单片矢量调制器 被引量:1
4
作者 沈亚 过常宁 +1 位作者 林金庭 陈克金 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第4期302-306,共5页
报道了C波段单片矢量调制器的设计和制作。采用双栅场效应晶体管(DGFET)放大器作为控制器。偏置电路在芯片内。采用集总薄膜电容、电感、电阻作为匹配元件。采用离子注入、背面通孔接地、空气桥跨接等先进工艺技术。描述了DG... 报道了C波段单片矢量调制器的设计和制作。采用双栅场效应晶体管(DGFET)放大器作为控制器。偏置电路在芯片内。采用集总薄膜电容、电感、电阻作为匹配元件。采用离子注入、背面通孔接地、空气桥跨接等先进工艺技术。描述了DGFET器件S参数的提取步骤。两路放大器和90°相移网络制作在3.15mm×2.5mm×0.1mm的芯片上,同相功分器制作在1.6(1.8)mm×2.9mm×0.1mm的芯片上。电路可获得在0~87°内连续变化的相移量,输出幅度可控。 展开更多
关键词 微波元件 集成电路 矢量调制器 移相器
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12 GHz GaAs/InGaAs异质结双栅功率场效应晶体管 被引量:1
5
作者 王玉林 吴仲华 +1 位作者 徐中仓 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1997年第2期110-113,共4页
报道了GaAs/InGaAs异质结双杨功率场效应晶体管的设计考虑、器件结构和制作,讨论了所采用的一些关键工艺,给出了器件性能。在12GHz下,最大输出功率≥130mW,增益≥12dB,功率附加效率≥30%。
关键词 异质结 双栅功率 场效应晶体管
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GaAs开关FET功率特性的研究 被引量:4
6
作者 王磊 马伟宾 刘帅 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第2期110-114,共5页
在GaAs单片微波集成电路(MMIC)设计中,开关场效应晶体管(FET)是研制开关、数控衰减器、数控移相器等电路的基础。基于0.15μm栅长GaAs开关FET,研究了GaAs开关FET在低频下的功率压缩特性。通过对开关FET的小信号等效电路和大信号模型的分... 在GaAs单片微波集成电路(MMIC)设计中,开关场效应晶体管(FET)是研制开关、数控衰减器、数控移相器等电路的基础。基于0.15μm栅长GaAs开关FET,研究了GaAs开关FET在低频下的功率压缩特性。通过对开关FET的小信号等效电路和大信号模型的分析,发现频率下降会降低开关FET的栅压,从而降低开关FET低频下的功率容量。通过增加栅极电阻来提高栅极电压,进而增加开关FET功率容量。最后通过实际的开关电路验证了增大栅极电阻可有效提高开关电路的功率容量,对今后的开关类器件设计工作起到一定的指导意义。 展开更多
关键词 砷化镓 场效应晶体管(FET) 栅极电阻 功率容量 功率压缩
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碳纳米管场效应晶体管设计与应用 被引量:8
7
作者 许高斌 陈兴 +1 位作者 周琪 王鹏 《电子测量与仪器学报》 CSCD 2010年第10期969-978,共10页
碳纳米管具有一些独特的电学性质,在纳米电子学有很好的应用前景。随着纳米技术的发展,新的工艺技术也随之产生。纳米器件的"由下至上"制作工艺,是在纳米技术和纳米材料的基础之上发展起来的,在新工艺基础之上,可以利用纳米... 碳纳米管具有一些独特的电学性质,在纳米电子学有很好的应用前景。随着纳米技术的发展,新的工艺技术也随之产生。纳米器件的"由下至上"制作工艺,是在纳米技术和纳米材料的基础之上发展起来的,在新工艺基础之上,可以利用纳米管、纳米线的性质制作成各种新的电子器件。由于碳纳米管可以和硅在电子电路中扮演同样的角色,随着基于碳纳米管的纳米电路研究的深入发展,电子学将在真正意义上从微电子时代进入纳电子时代。从分析碳纳米管分立场效应晶体管典型结构特点入手,分析阐述了碳纳米管构建的典型纳米逻辑电路结构特征及碳纳米管在柔性纳米集成电路方面的应用。 展开更多
关键词 碳纳米管 场效应晶体管 纳米逻辑门电路 柔性纳米集成电路 纳米电子学
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氧化锌纳米线晶体管的电学特性研究 被引量:3
8
作者 付晓君 张海英 徐静波 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第10期778-781,785,共5页
成功制作了氧化锌纳米线沟道场效应晶体管器件,所制作器件的电学性能通过I-V测试进行了分析。使用了水浴法生长了单晶性完整的氧化锌纳米线,该纳米线被用作背栅场效应晶体管的沟道,采用光刻方式制备的器件具有良好的直流特性,进行退火... 成功制作了氧化锌纳米线沟道场效应晶体管器件,所制作器件的电学性能通过I-V测试进行了分析。使用了水浴法生长了单晶性完整的氧化锌纳米线,该纳米线被用作背栅场效应晶体管的沟道,采用光刻方式制备的器件具有良好的直流特性,进行退火后进一步改善器件的源漏接触,提高器件性能,最终制备成功的场效应晶体管显示出p型MOS的特性,其开关态电流比达到105。在Vds=2.5 V时,跨导峰值为0.4μS,栅氧电容约为0.9 fF,器件夹断电压Vth为0.6 V,沟道迁移率约为87.1 cm2/V.s,计算得到氧化锌纳米线载流子浓度ne=6.8×108 cm-3。在Vgs=0 V时,器件沟道电阻率为100Ω.cm。 展开更多
关键词 氧化锌 纳米线 场效应晶体管 背栅 退火
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SiN_xH_y/SiO_2氢离子敏器件及其特性 被引量:1
9
作者 钟雨乐 赵守安 骆伙有 《暨南大学学报(自然科学与医学版)》 CAS CSCD 1992年第3期39-43,共5页
新型的氢离子敏器件采用 PECVD 法淀积含氢量较高的 SiN_xH_y 膜,同时作为敏感膜与二次钝化保护膜,改善了器件的密封性能.器件敏感灵敏度在56~60 mV/pH 之间,较 LPCVD 法淀积的 Si_3N_4 膜高14%.敏感灵敏度的线性度也有明显的改善.
关键词 PECVD 氢离子敏器件 敏感膜
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三维晶体管和后CMOS器件的进展 被引量:2
10
作者 赵正平 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第1期1-11,共11页
2012年当量产的集成电路的特征尺寸进入22 nm时,三维晶体管新结构成为纳电子发展的主流,标志纳电子学的发展由应力Si时代进入三维晶体管时代。介绍了多栅晶体管的发展过程,包括双栅、鳍栅、Pi型栅、Ω型栅、三栅和环形栅等FET关键技术... 2012年当量产的集成电路的特征尺寸进入22 nm时,三维晶体管新结构成为纳电子发展的主流,标志纳电子学的发展由应力Si时代进入三维晶体管时代。介绍了多栅晶体管的发展过程,包括双栅、鳍栅、Pi型栅、Ω型栅、三栅和环形栅等FET关键技术的突破和由于栅极控制沟道电子能力增加而导致的器件性能的改善。同时,还介绍了后CMOS器件的新进展,包含InGaAs n沟道鳍栅FET、环栅纳米线FET、Ge n/p沟道鳍栅FET、碳纳米管FET、石墨烯FET、隧穿FET、单电子晶体管和自旋电子学等,以及后CMOS器件的评定和终结CMOS器件模型。 展开更多
关键词 鳍栅FET 三栅FET InGaAs鳍栅FET 环栅纳米线FET Ge鳍栅FET 碳纳米管FET 石墨烯FET 隧穿FET 自旋器件
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纳米MOSFET的多栅结构和应变硅纳米线结构 被引量:1
11
作者 李小明 韩伟华 +2 位作者 张严波 陈燕坤 杨富华 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第11期689-696,共8页
介绍了在进入22nm技术节点后MOSFET器件的两个发展方向,即多栅结构和应变硅纳米线结构。首先通过分析特征长度与有效栅极数量的关系,表明多栅结构器件可以有效增强栅极对沟道的控制,抑制短沟道效应,接近理想的亚阈值斜率;然后分析了应... 介绍了在进入22nm技术节点后MOSFET器件的两个发展方向,即多栅结构和应变硅纳米线结构。首先通过分析特征长度与有效栅极数量的关系,表明多栅结构器件可以有效增强栅极对沟道的控制,抑制短沟道效应,接近理想的亚阈值斜率;然后分析了应变对能带结构的影响,从理论上论述了应变沟道可以显著提高载流子迁移率;最后介绍了悬浮硅纳米线通过热氧化诱导形成应变沟道的方法,并对应力来源进行了分析。纳米结构CMOS晶体管由平面沟道结构向立体沟道结构转变,将成为器件未来主流的发展方向。 展开更多
关键词 场效应晶体管 多栅结构 应变 硅纳米线 围栅
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半导体量子线场效应管研究现状及趋势 被引量:4
12
作者 闫发旺 张文俊 张荣桂 《半导体情报》 2000年第6期25-28,共4页
综述了 - 族化合物半导体量子线场效应管的研究进展情况 ,阐述了量子线结构场效应管的制作工艺原理、制备方法、材料结构及器件的电学性能。指出了当前存在的工艺困难 ,并展望了进一步的发展趋势。
关键词 量子线场效应管 平面栅场效应管 半导体场效应管
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平面天线在场效应晶体管太赫兹探测器中的应用 被引量:6
13
作者 王晓东 颜伟 +3 位作者 李兆峰 张博文 黄镇 杨富华 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期1-13,共13页
为了提高场效应晶体管太赫兹探测器的响应度并降低噪声等效功率,需要对探测器集成平面天线的结构进行合理设计与优化,本文对集成平面天线结构的场效应晶体管太赫兹探测器的研究进行了深入调研。首先,对场效应晶体管太赫兹探测器的工作... 为了提高场效应晶体管太赫兹探测器的响应度并降低噪声等效功率,需要对探测器集成平面天线的结构进行合理设计与优化,本文对集成平面天线结构的场效应晶体管太赫兹探测器的研究进行了深入调研。首先,对场效应晶体管太赫兹探测器的工作原理进行了分析,介绍了集成平面天线如何解决耦合太赫兹波效率低的问题。然后,介绍了一些常用的平面天线结构,包括偶极子天线、贴片天线、缝隙天线、grating-gate和其他类型的结构,比较了各种天线的性能以及引入后对太赫兹探测器响应度的影响。通过对比不同天线结构的探测器响应度和噪声等效功率等参数指标,发现:采用平面天线结构之后,场效应晶体管太赫兹探测器的响应度有了大幅度的提升,各种类型的天线对探测器响应度都有不同程度的提升。本文着重介绍了几种集成于场效应晶体管的平面天线结构,包括各种天线的性能和研究进展,最后分析了场效应晶体管太赫兹探测器存在的问题和发展趋势。 展开更多
关键词 场效应晶体管太赫兹探测器 平面天线 grating-gate结构 响应度 噪声等效功率
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Ku波段高功率GaAs FET
14
作者 陈克金 周焕文 李祖华 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1996年第1期1-4,共4页
报导Ku波段高功率GaAsFET的制造技术,包括全离子注入、0.5μm自对准栅、高可靠欧姆接触、干法生长和刻蚀、背面通孔、内匹配和合成技术。器件由两个9.6mm栅宽的芯片组成,在11.2~11.7GHz频带内,一分口... 报导Ku波段高功率GaAsFET的制造技术,包括全离子注入、0.5μm自对准栅、高可靠欧姆接触、干法生长和刻蚀、背面通孔、内匹配和合成技术。器件由两个9.6mm栅宽的芯片组成,在11.2~11.7GHz频带内,一分口增益压缩输出功率8W,增益6dB,功率附加效率24%。 展开更多
关键词 离子注入 自对准栅 功率FET 砷化镓 KU波段
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Si纳米线场效应晶体管研究进展 被引量:2
15
作者 张严波 熊莹 +2 位作者 杨香 韩伟华 杨富华 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第11期641-648,663,共9页
从Si纳米线场效应晶体管(SiNWFET)的结构原理、Si纳米线的制作工艺以及器件电学性能的改善措施三个方面介绍了SiNWFET的研究进展。通过分析SiNWFET的漏极电压对沟道电势的影响,表明SiNWFET自身的细沟道和围栅结构对于改善亚阈值特性和... 从Si纳米线场效应晶体管(SiNWFET)的结构原理、Si纳米线的制作工艺以及器件电学性能的改善措施三个方面介绍了SiNWFET的研究进展。通过分析SiNWFET的漏极电压对沟道电势的影响,表明SiNWFET自身的细沟道和围栅结构对于改善亚阈值特性和抑制短沟道效应起着关键作用。针对Si纳米线的制备,介绍了光刻、刻蚀与热氧化等自上而下的方法和气-液-固生长这种自下而上的方法。分析了SiNWFET的电学性能,探讨了为改善电学性能而进行的器件结构和工艺的改进,包括选择沟道取向,采用多条纳米线、应变纳米线或新材料作为沟道以及减小源-漏接触电阻等措施。最后对SiNWFET所面临的挑战和前景作了展望。 展开更多
关键词 纳米线 场效应晶体管 短沟道效应 围栅 自限制氧化
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STUDY OF F^--ISFET
16
作者 何杏君 《Journal of Electronics(China)》 1992年第1期83-87,共5页
The fluorine ion sensitive field-effect transistor(F<sup>-</sup>-ISFET)is made by depositingvery thin LaF<sub>3</sub> film on grid of field-effect transistor with sputter method.The operating... The fluorine ion sensitive field-effect transistor(F<sup>-</sup>-ISFET)is made by depositingvery thin LaF<sub>3</sub> film on grid of field-effect transistor with sputter method.The operating principle,measuring method and measured results of F<sup>-</sup>-ISFET are given.The measured results show thatthis kind of sensor has higher sensitivity,shorter response time and better linearity.On the basisof experimental results,the factor of influencing the steadiness and repeatability of F<sup>-</sup>-ISFETare conjectured. 展开更多
关键词 FIELD-EFFECT transistor(FET) FLUORINE ion sensitive-FET Insulated gate-fet
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基于Internet的电力电子实验系统的硬件设计
17
作者 许焰 朱善安 林峰 《机电工程》 CAS 2008年第1期105-107,110,共4页
给出了浙江大学网络实验室中基于Internet的电力电子实验系统的硬件设计和实现方法。介绍了网络实验室的整体构架和原理。同时对电力电子实验系统的各功能模块给予了详细的说明,并详细介绍了设计原理和器件性能。对交流调压电路,功率场... 给出了浙江大学网络实验室中基于Internet的电力电子实验系统的硬件设计和实现方法。介绍了网络实验室的整体构架和原理。同时对电力电子实验系统的各功能模块给予了详细的说明,并详细介绍了设计原理和器件性能。对交流调压电路,功率场效应管(MOSFET)和绝缘栅双极型晶体管(IGBT)电路进行了深入地研究,详细分析了信号采集和信号处理以及数字滤波的软、硬件功能模块。同时与传统实验进行了比较,充分展现出了网络实验室的优点。 展开更多
关键词 网络实验室 电力电子实验 交流调压 功率场效应管 绝缘栅双极型晶体管
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GaAs MMIC MESFET混频器性能比较 被引量:5
18
作者 孙晓玮 程知群 夏冠群 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期110-115,共6页
给出了几种 Ga As MESFET单片混频器结构与芯片测试结果比较。实验表明 ,在相同本振功率激励下 Ga As MMIC双栅混频器具有良好变频特性 ,栅混频器指标次之 ,漏混频器结构最简单 ,但变频特性不如前两种。另外 ,单片巴仑双平衡混频器具有... 给出了几种 Ga As MESFET单片混频器结构与芯片测试结果比较。实验表明 ,在相同本振功率激励下 Ga As MMIC双栅混频器具有良好变频特性 ,栅混频器指标次之 ,漏混频器结构最简单 ,但变频特性不如前两种。另外 ,单片巴仑双平衡混频器具有高的动态范围和宽频段工作特点。 展开更多
关键词 砷化镓 单片集成电路 场效应晶体管 混频器
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三栅FET的总剂量辐射效应研究 被引量:1
19
作者 刘诗尧 贺威 +1 位作者 曹建明 黄思文 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期119-123,共5页
通过对赝MOS进行不同剂量的辐射,得到不同辐射条件下赝MOS器件的I-V特性曲线,并通过中带电压法进行分析,得出在不同辐射下SOI材料的埋氧层中产生的陷阱电荷密度和界面态电荷密度参数。采用这些参数并结合Altal三维器件模拟软件模拟了硅... 通过对赝MOS进行不同剂量的辐射,得到不同辐射条件下赝MOS器件的I-V特性曲线,并通过中带电压法进行分析,得出在不同辐射下SOI材料的埋氧层中产生的陷阱电荷密度和界面态电荷密度参数。采用这些参数并结合Altal三维器件模拟软件模拟了硅鳍(FIN)宽度不同的三栅FET器件的总剂量辐射效应,分析陷阱电荷在埋氧层的积累和鳍宽对器件电学特性的影响。 展开更多
关键词 绝缘体上硅 总剂量效应 赝金属氧化物半导体场效应晶体管 三栅场效应晶体管
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双栅MOSFET的研究与发展 被引量:3
20
作者 沈寅华 李伟华 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2000年第5期290-293,共4页
具有特殊结构的双栅 MOSFET是一种高速度、低功耗 MOSFET器件 ,符合未来集成电路发展的方向。文章介绍了多种双栅 MOSFET的结构、优点 ,以及近年来国内外对双栅 MOSFET的研究成果。
关键词 双栅结构 MOSFET SOI 集成电路
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