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纳秒激光复合离子束刻蚀技术的CVD金刚石抛光研究
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作者 冯昱森 赵智炎 +3 位作者 于颜豪 徐颖 徐地华 李爱武 《激光杂志》 北大核心 2025年第1期214-221,共8页
高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光... 高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光复合离子束刻蚀技术抛光CVD金刚石,开展了多晶CVD金刚石激光抛光实验研究,针对激光功率和扫描速度两种激光参数研究其对CVD金刚石烧蚀深度和表面粗糙度的影响,在此基础上对激光抛光后的CVD金刚石进行离子束蚀刻抛光,研究了离子束抛光下的金刚石表面粗糙度变化,并对离子束抛光后的金刚石表面成分进行分析。通过所述方法实现了CVD金刚石样品表面粗糙度从6.687μm降到0.804μm的优异的抛光效果。此研究提供了一种旨在红外窗口、微型铣床和航天航空等领域具有应用价值的金刚石抛光方法。 展开更多
关键词 激光光学 纳秒激光抛光 离子束抛光 cvd金刚石 粗糙度
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CVD金刚石膜应力的产生、抑制、应用及测量 被引量:1
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作者 李成明 周闯 +5 位作者 刘鹏 郑礼平 赖泳机 陈良贤 刘金龙 魏俊俊 《无机材料学报》 北大核心 2025年第11期1188-1200,共13页
金刚石具有优异的性能,在光学、电子器件热管理及宽禁带半导体领域有着广阔的应用前景,被誉为终代半导体。作为光学窗口,需要大尺寸、厚度2 mm以上的CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)金刚石自支撑厚膜;在半导体散热中,则需... 金刚石具有优异的性能,在光学、电子器件热管理及宽禁带半导体领域有着广阔的应用前景,被誉为终代半导体。作为光学窗口,需要大尺寸、厚度2 mm以上的CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)金刚石自支撑厚膜;在半导体散热中,则需要4英寸(1英寸=2.54 cm)以上、100μm厚的金刚石自支撑膜与GaN等半导体材料进行键合。但由于技术限制,大面积CVD金刚石膜的合成及应用依旧存在较大困难。一方面,沉积过程中应力会导致金刚石膜发生破裂;另一方面,残余应力会导致金刚石膜发生翘曲,键合质量变差。因此,控制金刚石膜的应力成为目前金刚石膜规模化、大范围应用的一个关键问题。本文综述了CVD金刚石应力的分类、来源以及影响应力的各种因素,详细介绍了抑制金刚石膜应力的措施。同时,总结了通过人为施加应力来改善金刚石性能的研究,包括应力改变金刚石带隙、应力提高金刚石热导率等。最后,给出了评价金刚石应力大小的方法及理论计算公式,并分析了未来金刚石膜应力研究的趋势。 展开更多
关键词 cvd金刚石 膜应力 应力抑制 应力应用 应力测量 综述
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VO_(2)对刀具CVD金刚石涂层热应力的调节作用研究
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作者 徐洛 杜星祝 +2 位作者 吴超逸 金坚 卢文壮 《表面技术》 北大核心 2025年第12期145-151,共7页
目的通过降低热应力的方式,解决刀具CVD金刚石涂层在切削过程中易脱落的问题。方法使用热致相变材料VO_(2)作为硬质合金刀具与CVD金刚石涂层的中间层。建立M相VO_(2)(333)晶胞模型和VO_(2)/金刚石涂层体系模型,采用分子动力学模拟的方法... 目的通过降低热应力的方式,解决刀具CVD金刚石涂层在切削过程中易脱落的问题。方法使用热致相变材料VO_(2)作为硬质合金刀具与CVD金刚石涂层的中间层。建立M相VO_(2)(333)晶胞模型和VO_(2)/金刚石涂层体系模型,采用分子动力学模拟的方法,模拟VO_(2)的相变过程并计算升温过程中涂层体系的热应力变化情况。制备了VO_(2)/CVD金刚石涂层,使用X射线应力分析仪对升温过程中的涂层应力变化进行实时测量。结果建立的VO_(2)模型在330 K附近发生相变,体系能量突变,内部原子位置发生变化。仿真结果显示,VO_(2)/金刚石界面模型热应力在323.15~373.15 K发生突变,涂层应力降低约400 MPa;试验结果显示,涂层VO_(2)在323.15~328.15 K发生突变,热应力降低约300 MPa,VO_(2)的相变温度和应力调控的试验结果与仿真结果趋势一致。结论加入VO_(2)中间层可降低CVD金刚石涂层的热应力,对提高刀具CVD金刚石涂层抗剥落能力具有重要意义。 展开更多
关键词 cvd金刚石涂层 VO_(2) 热应力 热致相变材料 调节
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无色和粉色CVD合成钻石的颜色成因及光谱学特征
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作者 赵星棋 卢琪 +1 位作者 顾玮铭 秦府鑫 《宝石和宝石学杂志(中英文)》 2025年第4期99-109,共11页
选取来自两家企业的无色及粉色CVD合成钻石样品及其种晶,采用偏光显微镜、DiamondView TM、红外光谱、拉曼光谱、紫外-可见吸收光谱和多激发光源低温光致发光光谱等测试方法,系统研究了样品的颜色成因与光谱学特征。结果表明,所有样品... 选取来自两家企业的无色及粉色CVD合成钻石样品及其种晶,采用偏光显微镜、DiamondView TM、红外光谱、拉曼光谱、紫外-可见吸收光谱和多激发光源低温光致发光光谱等测试方法,系统研究了样品的颜色成因与光谱学特征。结果表明,所有样品在正交偏光下普遍存在异常消光,表明其晶体存在应力差异;DiamondView TM显示粉色CVD合成钻石样品表现出由NV 0中心主导的橙红色荧光,无色样品则表现为以H3中心为主的绿色荧光;红外光谱测试结果可将样品划分为Ⅰb型,粉色样品均出现与辐照及退火处理相关的1450 cm^(-1)处(H1a中心)吸收峰,部分样品出现高温高压(HPHT)相关的1510 cm^(-1)处吸收峰;根据1332 cm^(-1)处的钻石拉曼本征峰处的半高宽(FWHM)显示,晶体质量从高到低依次为种晶>无色样品>粉色样品;紫外-可见光谱与光致发光光谱测试结果进一步揭示粉色CVD合成钻石样品中存在NV 0及SiV-等中心。研究表明,CVD合成钻石样品具有强异常消光和层状生长现象,粉色CVD钻石样品经过辐照和高温高压处理,其颜色主要源于NV 0中心的形成,并在DiamondView TM下呈橙红色荧光。研究测试结果可为CVD合成钻石的检测及颜色特征判定提供一些参考依据,对于提高合成钻石处理识别的准确性及理解其光谱特征的形成机制具有借鉴意义。 展开更多
关键词 cvd合成钻石 偏光特征 发光性 晶格缺陷 光谱学特征 颜色成因
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粉色CVD合成钻石的光致变色及光谱特征
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作者 岳素伟 李坤 +1 位作者 高诗佳 金莉莉 《光谱学与光谱分析》 北大核心 2025年第11期3190-3197,共8页
无色合成钻石可经高温高压、辐照、低温退火多阶段处理形成NV色心而呈粉色,少量化学气相沉积法(CVD)合成钻石有NVH 0与SiV^(-)色心致粉色。不同机理致粉色合成钻石经短波紫外线(225 nm)照射后发生变色,选取粉色CVD合成钻石进行短波紫外... 无色合成钻石可经高温高压、辐照、低温退火多阶段处理形成NV色心而呈粉色,少量化学气相沉积法(CVD)合成钻石有NVH 0与SiV^(-)色心致粉色。不同机理致粉色合成钻石经短波紫外线(225 nm)照射后发生变色,选取粉色CVD合成钻石进行短波紫外线(225 nm)与钻石分级荧光灯(6500 K)照射实验,分析颜色变化、恢复时长及照射前后红外光谱(IR)、紫外-可见光谱(UV-Vis)、光致发光光谱(PL)特征,结果显示:样品在短波紫外线(225 nm)照射后,明度降低,整体变灰,颜色恢复需7~30 min;IR有极弱的N_(s)^(+)所致1332与950 cm^(-1)吸收峰/带,N_(s)^(0)所致1344与1130 cm^(-1)吸收峰/带,显示样品含氮量极低,可归为Ⅱa型,短波紫外线(225 nm)照射后,1344 cm^(-1)增强,1332 cm^(-1)减弱;UV-Vis显示样品为NV色心致粉色,短波紫外线(225 nm)照射后,637 nm(NV^(-))吸收强度变弱,NV^(0)与NV^(-)吸收强度与各自吸收边带中心位置的变化,是颜色发生变化的主要原因;PL可见强575与637 nm发光峰,NV^(0)峰强度为NV^(-)的2.5~6.5倍,多数样品见弱736.6与736.9 nm双峰(SiV^(-)),短波紫外线(225 nm)照射后NV^(0)、NV^(-)与SiV^(-)强度呈不同程度降低,NV^(-)与其发光边带最明显,指示NV^(0)、NV^(-)与SiV^(-)色心浓度呈不同程度降低,NV^(-)降低最为明显。综合分析认为,样品经短波紫外线(225 nm)照射,存在N^(+)+NV^(-)N^(0)+NV^(0)与N^(+)+SiV^(-)N^(0)+SiV^(0),以及N^(0)+NV^(0)N^(-)+NV^(+)或X^(+/0)+NV^(0)←→X^(0/-)+NV^(+),导致部分NV^(0)形成无光谱特征的NV^(+);NV^(0/-)色心的零声子线强度和吸收边带中心变化,导致样品颜色发生变化,白色光照可使其颜色恢复至初始状态。 展开更多
关键词 粉色cvd合成钻石 NV色心 光致变色 光谱特征
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维生素D缺乏促进CVD患者血管钙化的机制研究
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作者 朱欣然 张爽 段亚君 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第1期112-118,126,共8页
为探究维生素D缺乏对血管钙化(vascular calcification,VC)的作用机制,文章对心血管疾病(cardiovascular disease,CVD)患者的血清学指标进行临床研究分析,发现血清维生素D、纤维母细胞生长因子23(fibroblast growth factor 23,FGF23)、K... 为探究维生素D缺乏对血管钙化(vascular calcification,VC)的作用机制,文章对心血管疾病(cardiovascular disease,CVD)患者的血清学指标进行临床研究分析,发现血清维生素D、纤维母细胞生长因子23(fibroblast growth factor 23,FGF23)、Klotho水平均与血管钙化相关;采用HASMC细胞构建钙化模型,在去除或回补维生素D的条件下,观察钙化相关分子在蛋白和mRNA水平的表达情况。结果表明,维生素D缺乏会引起循环系统、血管组织、肾脏组织中Klotho水平下降,导致FGF23-Klotho轴紊乱,从而产生FGF23抵抗,抑制FGF23对磷酸盐的代谢过程,导致体内磷酸盐代谢紊乱,加速血管钙化的发生发展。 展开更多
关键词 维生素D FGF23-Klotho轴 血管钙化(VC) 心血管疾病(cvd) FGF23抵抗
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CVD金刚石薄膜与涂层制备技术及关键领域应用研究进展
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作者 吴勇 郭于洋 +3 位作者 孙清云 陈辉 杨甫 夏思瑶 《表面技术》 北大核心 2025年第16期18-38,共21页
金刚石因其优异的理化性质,在众多领域都有着广阔的应用前景,化学气相沉积则是金刚石薄膜与涂层常用的制备技术之一。详细阐述了CVD金刚石的生长机理,包括气体输送与活化、表面吸附与分解、成核与生长等过程。介绍了多种CVD金刚石制备技... 金刚石因其优异的理化性质,在众多领域都有着广阔的应用前景,化学气相沉积则是金刚石薄膜与涂层常用的制备技术之一。详细阐述了CVD金刚石的生长机理,包括气体输送与活化、表面吸附与分解、成核与生长等过程。介绍了多种CVD金刚石制备技术,如热丝化学气相沉积、微波等离子体化学气相沉积和直流等离子体增强化学气相沉积,并对其原理与特点进行了比较。在工艺调控方面,分析了气源体系选择、沉积参数调控等对金刚石膜质量和性能的影响。通过优化碳源气体种类、浓度、反应气氛以及沉积气压和温度等参数,可以显著提升金刚石膜的生长速率和质量,精准调控这些参数是实现高质量金刚石生长的关键。在应用方面,阐述并分析了金刚石薄膜在量子技术、光学、能源领域,以及金刚石涂层在机械加工、生物医学、航天领域的应用场景。尽管CVD金刚石技术已实现多领域突破应用,但其仍面临规模化生产、长期生物安全性验证及复杂工况性能优化等挑战。未来研究将聚焦多功能涂层开发、低成本制备、生物安全性验证及极端环境性能突破,进一步攻克大尺寸单晶生长、低温高质量沉积及智能化工艺控制等关键技术,以满足高端制造与科技发展需求。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 金刚石涂层 化学气相沉积 热丝化学气相沉积 微波等离子体化学气相沉积 cvd金刚石应用
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Structural and electronic properties of nitrogen-doped ultrananocrystalline diamond films grown by microwave plasma CVD
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作者 Venkateswara Rao Sodisetti Somnath Bhattacharyya 《新型炭材料(中英文)》 北大核心 2025年第5期1169-1183,I0058-I0064,共22页
Nitrogen doping in chemical vapor deposition-derived ultrananocrystalline diamond(UNCD)films in-creases the electronic conductivity,yet its microstructural effects on electron transport are insufficiently understood.W... Nitrogen doping in chemical vapor deposition-derived ultrananocrystalline diamond(UNCD)films in-creases the electronic conductivity,yet its microstructural effects on electron transport are insufficiently understood.We investigated the formation of nitrogen-induced diaph-ite structures(hybrid diamond-graphite phases)and their role in changing the conductivity.Nitrogen doping in a hy-drogen-rich plasma environment promotes the emergence of unique sp^(3)-sp^(2)bonding interfaces,where diamond grains are covalently integrated with graphitic domains,facilitating a structure-driven electronic transition.High-resolution transmis-sion electron microscopy and selected area electron diffraction reveal five-fold,six-fold and twelve-fold symmetries,along with an atypical{200}crystallographic reflection,confirming diaphite formation in 5%and 10%N-doped UNCD films,while high-er doping levels(15%and 20%)result in extensive graphitization.Raman spectroscopy tracks the evolution of sp^(2)bonding with increasing nitrogen content,while atomic force microscopy and X-ray diffraction indicate a consistent diamond grain size of~8 nm.Cryogenic electronic transport measurements reveal a conductivity increase from 8.72 to 708 S/cm as the nitrogen dop-ing level increases from 5%to 20%,which is attributed to defect-mediated carrier transport and 3D weak localization.The res-ulting conductivity is three orders of magnitude higher than previously reported.These findings establish a direct correlation between diaphite structural polymorphism and tunable electronic properties in nitrogen-doped UNCD films,offering new ways for defect-engineering diamond-based electronic materials. 展开更多
关键词 cvd diamond Nitrogen doping Diamond-graphene composite 3D Weak Localization Diamond electronics
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CVD金刚石厚膜刀具及应用研究 被引量:6
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作者 邓福铭 卢学军 +2 位作者 赵志岩 刘瑞平 李文铸 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2010年第2期29-34,共6页
热丝CVD法沉积金刚石厚膜为全晶质纯多晶金刚石材料,是制造切削刀具的理想材料。本文针对国内外CVD金刚石厚膜焊接刀具研究与应用中存在的关键技术问题,结合我所近期相关技术研究进展,重点介绍了其制造工艺及关键技术。
关键词 化学气相沉积(cvd) cvd金刚石厚膜 刀具
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CVD金刚石薄膜涂层整体式刀具的制备与应用 被引量:18
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作者 沈彬 孙方宏 +2 位作者 张志明 沈荷生 郭松寿 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2011年第1期1-5,共5页
化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜具有硬度高、摩擦系数低、耐磨性强以及表面化学性能稳定等优异的机械及摩擦学性能,这使其在硬质合金工模具领域具有广阔的应用前景。本文采用热丝化学气相沉积法(hot filament c... 化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜具有硬度高、摩擦系数低、耐磨性强以及表面化学性能稳定等优异的机械及摩擦学性能,这使其在硬质合金工模具领域具有广阔的应用前景。本文采用热丝化学气相沉积法(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD),在具有复杂形状的硬质合金整体式铣刀表面沉积了一层均匀、光滑的金刚石薄膜,并采用石墨以及碳化硅铝基增强复合材料作为工件材料对比考察了金刚石薄膜涂层铣刀和未涂层硬质合金铣刀的切削性能。铣削实验结果显示,在硬质合金整体式铣刀表面沉积一层CVD金刚石薄膜能够大幅提高铣刀的耐磨性,从而提高硬质铣刀的寿命。 展开更多
关键词 cvd金刚石薄膜 热丝cvd 金刚石薄膜涂层刀具 石墨 碳化硅铝基增强复合材料
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LPCVD制备二氧化硅薄膜工艺中防颗粒污染技术
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作者 樊坤 黄志海 +2 位作者 王理正 王志伟 苏子懿 《电子工艺技术》 2025年第2期52-55,共4页
二氧化硅(SiO_(2))薄膜制备作为集成电路制造工艺中重要的一个步骤,在芯片的制造过程中具有多种用途,但易受颗粒污染造成产品不良。对采用TEOS源LPCVD法沉积SiO_(2)膜颗粒污染的方法进行了探索,设计了一种用于防颗粒污染的机构,该机构... 二氧化硅(SiO_(2))薄膜制备作为集成电路制造工艺中重要的一个步骤,在芯片的制造过程中具有多种用途,但易受颗粒污染造成产品不良。对采用TEOS源LPCVD法沉积SiO_(2)膜颗粒污染的方法进行了探索,设计了一种用于防颗粒污染的机构,该机构主要包括微环境系统和温度控制系统,重点介绍了立式LPCVD设备工艺颗粒来源、微环境系统和温度控制系统结构组成,以及微环境系统和温度控制系统的应用效果。 展开更多
关键词 半导体 cvd 温度控制 微环境 颗粒污染 二氧化硅
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CVD法制备无硫膨胀石墨/碳纳米管复合材料及其导热性能研究
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作者 王振廷 王传波 +1 位作者 尹吉勇 刘昊洋 《山东化工》 2025年第3期8-11,共4页
通过电化学法制备膨胀石墨,采用CVD法以硝酸铁为催化剂,乙炔为碳源在膨胀石墨层间原位生长碳纳米管,经过碳化石墨化提纯,二辊压延机辊压增密处理后制备出一种复合导热膜。并通过XRD、SEM、EDS对复合材料的组织结构进行表征分析,使用激... 通过电化学法制备膨胀石墨,采用CVD法以硝酸铁为催化剂,乙炔为碳源在膨胀石墨层间原位生长碳纳米管,经过碳化石墨化提纯,二辊压延机辊压增密处理后制备出一种复合导热膜。并通过XRD、SEM、EDS对复合材料的组织结构进行表征分析,使用激光导热仪对复合膜进行导热性能测试。研究结果表明,使用硝酸铁作为催化剂,乙炔为碳源成功在膨胀石墨间隙中生长出碳纳米管,管径为20 nm左右。随着通入碳源的减少,碳纳米管的产量也随之减少。制备的复合导热膜的导热性能相对于膨胀石墨膜大幅提高,导热系数提高到804.21 W/(m·K)。 展开更多
关键词 cvd 膨胀石墨 碳纳米管 制备工艺
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甲基硅烷CVD法制备碳化硅粉体及其温度依赖性研究
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作者 何雷晶 耿金春 +2 位作者 罗国邦 姜汪航 顾小康 《化工生产与技术》 2025年第6期5-8,48,I0002,共6页
为优化甲基硅烷化学气相沉积(CVD)法制备碳化硅粉体的工艺,在700~1000℃温度范围内以甲基硅烷为原料制备碳化硅(SiC)粉体,系统考察了沉积温度对产物组成、结构及性能的影响。结果表明:随着温度由700℃升至1000℃,SiC粉体收率从80.11%提... 为优化甲基硅烷化学气相沉积(CVD)法制备碳化硅粉体的工艺,在700~1000℃温度范围内以甲基硅烷为原料制备碳化硅(SiC)粉体,系统考察了沉积温度对产物组成、结构及性能的影响。结果表明:随着温度由700℃升至1000℃,SiC粉体收率从80.11%提高至86.35%,平均粒径(D_(50))由2.387μm降至0.751μm,振实密度由0.85 g/cm^(3)增至0.95 g/cm^(3),XRD显示β-SiC结晶特征逐渐增强;副反应随之加剧,致使SiC质量分数从97.21%略降至95.83%,游离碳与游离硅含量相应增加,而SiO_(2)含量维持在稳定范围(w=0.05%~0.08%)。综合各项性能,1000℃为较优沉积温度条件。本研究明确了温度在甲基硅烷CVD过程中的关键调控作用,为相关工业化生产提供了可行的工艺参考。 展开更多
关键词 碳化硅 甲基硅烷 化学气相沉积(cvd) 沉积温度 粉体性能 择优取向
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CVD法与PCVD法TiN薄膜研究 被引量:17
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作者 刘齐成 刘培英 +1 位作者 陶冶 刘利 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第12期22-25,共4页
用等离子体增强化学气相沉积 (PCVD)法和化学气相沉积 (CVD)法分别制备 Ti N系薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪研究分析薄膜的微观结构、相结构和薄膜的力学性能 ,并采用电极电位法测定了薄膜的耐腐蚀性能。研究表明 :... 用等离子体增强化学气相沉积 (PCVD)法和化学气相沉积 (CVD)法分别制备 Ti N系薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪研究分析薄膜的微观结构、相结构和薄膜的力学性能 ,并采用电极电位法测定了薄膜的耐腐蚀性能。研究表明 :PCVD法 Ti N系薄膜的微观组织形态明显优于同类的 CVD法薄膜 ,PCVD法薄膜晶粒尺寸细小、均匀 ,形态圆整 ,组织致密 ;CVD法薄膜晶粒形态为多边形 ,尺寸较粗大、不均匀 ,组织致密性差 ;PCVD法 Ti N系薄膜的韧性和结合力等力学性能可达到或优于同类 CVD法薄膜 ;虽然 PCVD法薄膜的氯含量 (约为 2 % )远高于 CVD法薄膜 (约为 0 .5 % ) ,但 PCVD法薄膜的耐蚀性能却明显优于 CVD法薄膜。还研究分析了 PCVD法和CVD法成膜模式对薄膜微观结构和性能的影响机理。 展开更多
关键词 cvd Pcvd 金属材料 氮化钛薄膜 表面防护
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晶化温度对CVD无定形碳化硅结构与性能的影响
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作者 吴希湖 宋晓蕾 +2 位作者 许胜霞 朱艳 何安新 《化工生产与技术》 2025年第6期9-12,I0003,共5页
针对化学气相沉积(CVD)法制备的碳化硅(SiC)粉体存在的无定形态、粒径偏小与振实密度较低等问题,采用在氩气保护气氛下对其进行高温晶化处理,系统探究了晶化温度对粉体晶型、化学成分、粒度及振实密度的影响。结果表明,晶化温度需高于1... 针对化学气相沉积(CVD)法制备的碳化硅(SiC)粉体存在的无定形态、粒径偏小与振实密度较低等问题,采用在氩气保护气氛下对其进行高温晶化处理,系统探究了晶化温度对粉体晶型、化学成分、粒度及振实密度的影响。结果表明,晶化温度需高于1500℃时,无定形SiC可完全转化为结晶良好的β-SiC,粉体颗粒呈现明显微晶结构,并伴随颗粒生长和致密团聚现象。在1600℃晶化条件下,可获得综合性能较优的SiC粉体,其中粒径(D_(50))为2.562μm,振实密度达1.04 g/cm^(3),SiC质量分数提升至97.84%,为无定形SiC的晶化行为与结构调控提供了依据,对后续深化处理与产业应用具有一定参考价值。 展开更多
关键词 无定形碳化硅 晶化温度 化学气相沉积(cvd) 振实密度 粒径 Β-SIC
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PCVD法制作高硅硅钢片的研究 被引量:4
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作者 王蕾 周树清 陈大凯 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2000年第6期46-47,共2页
用等离子体化学气相沉积方法 (PCVD) ,在 0 .1~ 0 .3mm厚的普通硅钢片表面涂硅 ,再进行短时间高温扩散 ,使硅钢平均含硅量达 6 .5 % ,磁性能超过或达到冷轧取向硅钢水平。
关键词 硅钢 Pcvd 涂层 cvd 含硅量 试验研究
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立式雾化辅助CVD系统的设计与实现
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作者 赵丹 向星承 +4 位作者 詹宇 陈茵豪 秦源涛 肖黎 龚恒翔 《微纳电子技术》 2025年第1期152-157,共6页
雾化辅助化学气相沉积(CVD)技术是一种高质量氧化物薄膜的低成本制备方法。设计并搭建了一套立式雾化辅助CVD系统,该系统包含了雾化源、立式反应腔体、加热、水冷和尾气处理模块。采用该系统制备了SnO_(2)薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)对... 雾化辅助化学气相沉积(CVD)技术是一种高质量氧化物薄膜的低成本制备方法。设计并搭建了一套立式雾化辅助CVD系统,该系统包含了雾化源、立式反应腔体、加热、水冷和尾气处理模块。采用该系统制备了SnO_(2)薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜样品进行分析,并用扫描电子显微镜(SEM)观察样品表面形貌。实验结果表明:采用所设计的立式雾化辅助CVD系统制备出了沿(200)晶面生长的SnO_(2)薄膜,其(200)衍射峰半高宽为0.22°。SnO_(2)薄膜表面较大的晶粒呈现类金字塔状,薄膜表面颗粒尺寸较为均匀。通过计算得出薄膜表面最大颗粒平均粒径为145 nm。所设计的系统结构合理、操作简单,制备的薄膜具有较高的质量。 展开更多
关键词 雾化辅助化学气相沉积(cvd) 薄膜沉积系统设计 立式腔体 SnO_(2)薄膜 结构与形貌
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高质量CVD金刚石薄膜涂层拉拔模的制备与应用研究 被引量:6
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作者 唐庆顺 姚建盛 +1 位作者 谢煌生 卢建湘 《龙岩学院学报》 2010年第5期40-43,共4页
介绍化学气相法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备CVD金刚石薄膜涂层拉丝模方法,并在线材的拉拔生产过程中对其性能进行了应用研究。首先,采用热丝化学气相沉积法(HotFilament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)在硬质合金拉丝模的... 介绍化学气相法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备CVD金刚石薄膜涂层拉丝模方法,并在线材的拉拔生产过程中对其性能进行了应用研究。首先,采用热丝化学气相沉积法(HotFilament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)在硬质合金拉丝模的内表面(内孔直径为φ3.8 mm)沉积了高质量的CVD金刚石薄膜,并采用扫描电镜、拉曼光谱对沉积在模具内孔表面的CVD金刚石薄膜的表面形貌、薄膜质量进行了检测和评估。在实际拉拔生产线上对制备的CVD金刚石薄膜涂层拉拔模具进行了应用试验,结果表明,金刚石薄膜涂层拉丝模的工作寿命比传统硬质合金模具提高了8~10倍,并且拉制的线材具有更好的表面质量。 展开更多
关键词 cvd金刚石薄膜涂层拉拔模具 热丝cvd 拉拔加工
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Ultrahigh concentration of NV^(−)centers embedded in the CVD epi-diamond layer near the interface with an HPHT diamond substrate
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作者 Yuanjie Yang Shengran Lin +4 位作者 Jiaxin Zhao Changfeng Weng Liren Lou Wei Zhu Guanzhong Wang 《Chinese Physics B》 2025年第5期498-503,共6页
The negatively charged nitrogen vacancy(NV^(−))center ensemble in as-grown chemical vapor deposition(CVD)diamond is a promising candidate for quantum sensing due to its long coherence time and excellent optical proper... The negatively charged nitrogen vacancy(NV^(−))center ensemble in as-grown chemical vapor deposition(CVD)diamond is a promising candidate for quantum sensing due to its long coherence time and excellent optical properties.However,achieving a high concentration of NV^(−)centers in as-grown CVD diamond remains a critical challenge,which constrains the performance of NV^(−)based sensors.In this study,we observe that NV^(−)center formation efficiency is significantly enhanced during the initial growth phase,with a coherence time T_(2)^(*)of 1.1μs.These findings demonstrate that high-concentration NV^(−)centers can be achieved in as-grown diamonds,greatly enhancing their utility in high-performance magnetometers and quantum sensing. 展开更多
关键词 INTERFACE high concentration nitrogen vacancy centers chemical vapor deposition(cvd) DIAMOND
原文传递
纳米硅与CVD硅碳材料,谁能实现产业化?——专访天津师范大学张波研究员
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《中国粉体工业》 2025年第4期62-62,61,40,共3页
近年来,高性能负极材料成为目前锂离子电池的研究热点之一,硅基负极材料更是因其理论比容量远超石墨负极,成为行业突破能量密度瓶颈的核心方向。2025年6月24-25日,由中国粉体网主办的第二届硅基负极材料技术与产业高峰论坛暨2025CVD硅... 近年来,高性能负极材料成为目前锂离子电池的研究热点之一,硅基负极材料更是因其理论比容量远超石墨负极,成为行业突破能量密度瓶颈的核心方向。2025年6月24-25日,由中国粉体网主办的第二届硅基负极材料技术与产业高峰论坛暨2025CVD硅碳负极材料前沿技术论坛在安徽合肥举办。在此期间,中国粉体网采访到了天津师范大学张波研究员,就硅基负极材料产业化等一系列问题进行了探讨交流。 展开更多
关键词 纳米硅 产业化 cvd硅碳材料 锂离子电池
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