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磁流变抛光可塑性对彗尾疪病的影响 被引量：4
1
作者 郭忠达 王新海 +3 位作者 阳志强 刘卫国 杭凌侠 陈智利 《西安工业大学学报》 CAS 2010年第2期112-116,共5页
分析了彗尾疪病产生的原因及去除方法.通过研究磁流变抛光的可塑性问题,从可塑性方面分析了彗尾疪病现象产生的过程.利用工艺实验研究彗尾疪病现象的消除方法,在自主设计的磁流变抛光装置上,采用磁场强度值分别为240 kA/m,210 kA/m,180 ... 分析了彗尾疪病产生的原因及去除方法.通过研究磁流变抛光的可塑性问题,从可塑性方面分析了彗尾疪病现象产生的过程.利用工艺实验研究彗尾疪病现象的消除方法,在自主设计的磁流变抛光装置上,采用磁场强度值分别为240 kA/m,210 kA/m,180 kA/m,150 kA/m,90 kA/m的五阶段优化磁场强度法后,使K9玻璃表面粗糙度值达到0.49 nm,消除了磁流变抛光过程中的彗尾疪病现象.实验表明磁场强度的大小影响链条结构的稳定,影响抛光粉颗粒对材料的去除,减小磁场强度可以有效的去除彗尾疵病. 展开更多
关键词 磁流变抛光 可塑性 彗尾疪病 磁场强度
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磁流变抛光中表面彗尾状缺陷的生成与演变行为 被引量：7
2
作者 袁胜豪 张云飞 +5 位作者 余家欣 李凯隆 王超 田东 海阔 黄文 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期740-748,共9页
为了研究磁流变抛光后元件表面"彗尾状缺陷"的生成和演变机理,本文以石英玻璃为样品,分析了磁流变抛光时抛光液中抛光颗粒浓度与水分含量对彗尾状缺陷的影响。研究表明,彗尾状缺陷的生成与元件表面存在的原始缺陷相关,抛光颗... 为了研究磁流变抛光后元件表面"彗尾状缺陷"的生成和演变机理,本文以石英玻璃为样品,分析了磁流变抛光时抛光液中抛光颗粒浓度与水分含量对彗尾状缺陷的影响。研究表明,彗尾状缺陷的生成与元件表面存在的原始缺陷相关,抛光颗粒在缺陷处的堆积是造成原始缺陷转变成彗尾状缺陷的主要原因。随着抛光颗粒浓度的增加,抛光颗粒在原始缺陷处的堆积明显,生成的彗尾状缺陷数量增加;然而随着水分含量的增加,抛光液的流动性增强,抛光颗粒在缺陷处堆积效应减弱,彗尾状缺陷出现的数量降低。在磁流变抛光过程中,原始凹坑缺陷首先演变成彗尾状缺陷,彗尾状缺陷的头部凹坑深度相对于原始缺陷表现出先增加再降低的趋势;而凹坑的边缘角度随抛光的进行单调增加,直到缺陷被完全去除。本文的研究结果为磁流变抛光中抑制元件表面彗尾状缺陷的生成奠定了理论基础,有助于后期研发控制彗尾状缺陷的抛光液和工艺优化方法。 展开更多
关键词 光学加工 磁流变抛光 彗尾缺陷 堆积效应 石英玻璃
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