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基于广度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
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作者 杨欣华 江一鹏 +7 位作者 李思坤 廖陆峰 张双 张利斌 张生睿 施伟杰 韦亚一 王向朝 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期131-141,共11页
提出一种基于广度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。通过广度优先搜索算法得到所有图形数最少的关键图形组。以45 nm标准单元库测试图形集为例,采用商用计算光刻软件Tachyon Tflex对本文方法的筛选结果进行仿真验证。结... 提出一种基于广度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。通过广度优先搜索算法得到所有图形数最少的关键图形组。以45 nm标准单元库测试图形集为例,采用商用计算光刻软件Tachyon Tflex对本文方法的筛选结果进行仿真验证。结果表明,本文方法获得的关键图形组的工艺窗口优于Tachyon Tflex中的同类技术。相比于基于深度优先搜索的全芯片SMO关键图形筛选方法,本文方法只筛选出所有图形数量最少的关键图形组,图形筛选效率更高。 展开更多
关键词 集成光学 图形筛选 计算光刻 全芯片光源掩模联合优化 广度优先搜索
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