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ZnO/ZnCdO和ZnO/ZnMgO超晶格的子带研究 被引量:1
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作者 雷红文 张红 +4 位作者 王雪敏 赵妍 阎大伟 沈昌乐 吴卫东 《太赫兹科学与电子信息学报》 2013年第3期480-483,共4页
ZnO是具有3.37 eV的宽禁带半导体材料,近年来引起了众多研究者的兴趣。Zn1-xCdxO和Zn1-xMgxO很好地实现了对ZnO能带的减小和增大。采用较为简单的一维K P势模型结合有效质量理论得到了ZnO/Zn1-xCdxO及ZnO/Zn1-xMgxO多量子阱的能量色散关... ZnO是具有3.37 eV的宽禁带半导体材料,近年来引起了众多研究者的兴趣。Zn1-xCdxO和Zn1-xMgxO很好地实现了对ZnO能带的减小和增大。采用较为简单的一维K P势模型结合有效质量理论得到了ZnO/Zn1-xCdxO及ZnO/Zn1-xMgxO多量子阱的能量色散关系,以及子带的MeV跃迁与超晶格带阶、阱垒宽度之间的关系。将该多量子阱应用于太赫兹量子级联激光器(THz QCL)有源区,对粒子数反转和跃迁矩阵进行了相关讨论。 展开更多
关键词 zncdo ZNMGO 量子级联激光器 粒子数反转 跃迁矩阵
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ZnCdO/ZnO单量子阱结构及其荧光发射特性
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作者 易有根 王瑜英 +6 位作者 胡奇峰 张彦彬 彭勇宜 雷红文 彭丽萍 王雪敏 吴卫东 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期310-314,共5页
采用激光分子束外延方法在Al_2O_3(0001)单晶衬底上进行了Zn_(1-x)Cd_xO/Zn_O单量子阱结构的生长,通过控制基底温度、氧气分压等,获得了阱宽约为1.0,1.5和4.0 nm的单量子阱结构,研究了量子阱组分、表面形貌、荧光发射特性.结果表明,通... 采用激光分子束外延方法在Al_2O_3(0001)单晶衬底上进行了Zn_(1-x)Cd_xO/Zn_O单量子阱结构的生长,通过控制基底温度、氧气分压等,获得了阱宽约为1.0,1.5和4.0 nm的单量子阱结构,研究了量子阱组分、表面形貌、荧光发射特性.结果表明,通过脉冲激光烧蚀陶瓷靶的方法获得的Zn_(1-x)Cd_xO中Cd含量x约为2%,外延膜表面平整均匀,界面质量良好,在325 nm He-Cd激光激发下,获得了非常强的光致荧光发射,1.0 nm量子阱结构荧光发射峰半高宽达到60 meV,通过量子阱宽度的调控,量子阱的发射峰从3.219 eV红移到3.158 eV,且随着阱宽的增加,量子限制效应变弱(阱宽4.0 nm样品),通过生长温度、气压条件的控制,量子阱的缺陷密度可控制在较低水平. 展开更多
关键词 zncdo量子阱 荧光光谱 激光分子束外延 量子限制效应
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高晶体质量ZnCdO薄膜和ZnCdO/ZnO多量子阱的生长及光学性能 被引量:1
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作者 蒋杰 朱丽萍 +1 位作者 李洋 郭艳敏 《中国科技论文》 CAS 北大核心 2013年第6期518-520,共3页
分别在石英衬底和c面蓝宝石衬底上制备了ZnCdO薄膜和ZnCdO/ZnO多量子阱结构。XRD和PL测试分析表明该ZnCdO薄膜具有单一取向和高晶体质量。对多量子阱结构进行低温PL测试得到较强的势阱层发光峰和较弱的势垒层发光峰,表明高质量的多量子... 分别在石英衬底和c面蓝宝石衬底上制备了ZnCdO薄膜和ZnCdO/ZnO多量子阱结构。XRD和PL测试分析表明该ZnCdO薄膜具有单一取向和高晶体质量。对多量子阱结构进行低温PL测试得到较强的势阱层发光峰和较弱的势垒层发光峰,表明高质量的多量子阱结构。变温PL测试表明该多量子阱结构在室温下仍然具有优良的光学性能。 展开更多
关键词 zncdo薄膜 量子阱 脉冲激光沉积 光致发光
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柔性衬底PET上低温沉积ZnxCd(1-x)O透明导电薄膜 被引量:2
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作者 季振国 陈敏梅 +1 位作者 张品 周强 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期361-363,共3页
利用直流反应磁控溅射在柔性衬底(聚乙烯对苯二酸脂,PET)上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的Zn_xCd_(1-x)O薄膜,并研究了Zn含量x对Zn_xCd_(1-x)O薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能的影响.XRD分析结果表明,当x<0.65时,薄膜为CdO... 利用直流反应磁控溅射在柔性衬底(聚乙烯对苯二酸脂,PET)上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的Zn_xCd_(1-x)O薄膜,并研究了Zn含量x对Zn_xCd_(1-x)O薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能的影响.XRD分析结果表明,当x<0.65时,薄膜为CdO结构,但x>0.65时,薄膜为高度取向的ZnO结构.Hall效应测试显示,当x≤0.5时,薄膜的载流子浓度很高,电阻率为10^(-3)Ω·cm的数量级;迁移率随x增加先增大,在x=0.5处达到极大值,然后随x的增加而降低.紫外可见透射谱表明,掺Zn后的Zn_xCd_(1-x)O薄膜在整个可见光波段内的透过率远远高于纯CdO薄膜的透过率.综合分析结果表明,x=0.5是低温制备的低阻、高透光性能薄膜的最佳Zn含量. 展开更多
关键词 直流磁控溅射 柔性衬底 zncdo薄膜 透明导电膜
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Investigation of Zn(1-x)CdxO films bandgap and Zn(1-x)CdxO/ZnO heterojunctions band offset by x-ray photoelectron spectroscopy
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作者 陈杰 王雪敏 +4 位作者 张继成 尹泓卜 俞健 赵妍 吴卫东 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第8期433-437,共5页
A series of Zn_(1-x)Cd_xO thin films have been fabricated on sapphire by pulsed-laser deposition(PLD), successfully. To investigate the effect of Cd concentration on structural and optical properties of Zn_(1-x)... A series of Zn_(1-x)Cd_xO thin films have been fabricated on sapphire by pulsed-laser deposition(PLD), successfully. To investigate the effect of Cd concentration on structural and optical properties of Zn_(1-x)Cd_xO films, x-ray diffraction(XRD),ultraviolet-visible spectroscopy(UV-vis), and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS) are employed to characterize the films in detail. The XRD pattern indicates that the Zn_(1-x)Cd_xO thin films have high single-orientation of the c axis. The energy bandgap values of ZnCdO thin films decrease from 3.26 eV to 2.98 eV with the increasing Cd concentration(x)according to the(αhν)~2–hν curve. Furthermore, the band offsets of Zn_(1-x)Cd_xO/ZnO heterojunctions are determinated by XPS, indicating that a type-I alignment takes place at the interface and the value of band offset could be tuned by adjusting the Cd concentration. 展开更多
关键词 zncdo film zncdo/ZnO heterojunction optical bandgap band offset
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Microstructure of ternary Zn_(1-x)Cd_xO films on silicon substrate
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作者 卢焕明 叶志镇 +3 位作者 马德伟 黄靖云 朱丽萍 赵炳辉 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2005年第1期135-138,共4页
Ternary Zn1-xCdxO alloying films were deposited on silicon substrates by a reactive magnetron sputtering method. The structures of the films were characterized by transmission electron microscopy(TEM) and X-ray diff... Ternary Zn1-xCdxO alloying films were deposited on silicon substrates by a reactive magnetron sputtering method. The structures of the films were characterized by transmission electron microscopy(TEM) and X-ray diffraction(XRD) analysis, respectively. The XRD measurement shows that the wurtzite-type structure of (Zn1-xCdxO) can be stabilized up to Cd content of x=0.53 without a cubic CdO phase separation. The TEM measurement shows that the films have a columnar structure and the grains are highly c-axis oriented perpendicularly on silicon substrate although some grain boundaries are slightly tilted. High resolution TEM observation indicates that a native layer of amorphous SiO2 exists at the ZnCdO/Si interface and that ZnCdO grains with c-axis preferred orientation nucleate directly on substrate surface. 展开更多
关键词 钆氧化锌合金 微观结构 反应溅射法 硅基薄膜 半导体
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掺Cd氧化锌的电子结构及相结构稳定性的第一性原理研究 被引量:6
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作者 濮春英 唐鑫 +1 位作者 吕海峰 张庆瑜 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期546-554,共9页
采用基于密度泛函理论结合投影缀加平面波方法的VASP软件包,在考虑所有掺杂原子构型的前提下,对Cd掺杂ZnO合金的晶格常数、禁带宽度、电子态密度和形成焓进行了计算,分析了Cd含量和掺杂原子构型对纤锌矿wz-Zn1-xCdxO合金的电子结构和结... 采用基于密度泛函理论结合投影缀加平面波方法的VASP软件包,在考虑所有掺杂原子构型的前提下,对Cd掺杂ZnO合金的晶格常数、禁带宽度、电子态密度和形成焓进行了计算,分析了Cd含量和掺杂原子构型对纤锌矿wz-Zn1-xCdxO合金的电子结构和结构稳定性的影响.计算结果表明:随着Cd含量的不断增加,纤锌矿ZnCdO合金的平均晶格常数a,c均线性增加,但c/a的比值不会发生显著的变化;纤锌矿ZnCdO合金的能带宽度随着Cd含量增加而减小,满足Eg(x)=3.28-5.04x+4.60x2,与实验结果相符合.但是,不同掺杂原子构型的禁带宽度之间存在比较明显的差异,是ZnCdO合金PL光谱宽化的重要因素之一;Cd掺杂导致纤锌矿ZnCdO合金的导带电子态密度分布整体向低能方向移动,引起带隙宽度变小;Cd的5s电子态是能带窄化的主要贡献;纤锌矿、闪锌矿和熔岩矿三种相结构的ZnCdO合金形成焓对比分析发现:当CdO掺杂比例在0.25—0.75的范围内时,纤锌矿和闪锌矿ZnCdO存在共生的可能;当CdO掺杂比例达到0.75时,ZnCdO合金开始发生从纤锌矿结构到熔岩矿的结构相变. 展开更多
关键词 密度泛函理论 zncdo合金 电子结构 形成焓
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