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Thermal engineering in ALD-grown ZGO thin films for high-performance photodetectors
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作者 Si-Tong Ding Yu-Chang Chen +8 位作者 Cai-Yu Shi Lei Shen Qiu-Jun Yu Lang-Xi Ou Ze-Yu Gu Na Chen Ting-Yun Wang DavidWei Zhang Hong-Liang Lu 《Journal of Materials Science & Technology》 2025年第6期19-26,共8页
Doped gallium oxide-based thin films are a class of wide-band semiconductor materials with the ad-vantages of chemically stable,tunable bandgap,and offer the benefit of ultraviolet response.In order to obtain photodet... Doped gallium oxide-based thin films are a class of wide-band semiconductor materials with the ad-vantages of chemically stable,tunable bandgap,and offer the benefit of ultraviolet response.In order to obtain photodetectors(PDs)with superior response,higher demands are placed on the quality of growth and processing of doped films.In this work,Zn-doped ternary metal oxide ZnGaO(ZGO)thin films were grown using the atomic layer deposition technique and annealed at different temperatures under an oxy-gen atmosphere.The results showed that the high-quality ZGO films with good uniformity,high visible light transmittance,low roughness,and significant reduction of oxygen vacancies were obtained after an-nealing.Subsequently,metal-semiconductor-metal PDs were prepared based on the studied ZGO films.The responsivity(R),detectivity(D^(∗)),and external quantum efficiency(EQE)of the optimized device are 61.8 A W^(-1),1.2×10^(12) Jones,and 255.9%,respectively.Compared to the unannealed device,the an-nealed ZGO PD achieves a maximum 309-fold increase in responsivity.This thermal engineering work may provide a strong reference for the development of low-cost,large-area,high-performance ultraviolet detection.And it also broadens the application of ternary metal oxides in optoelectronics. 展开更多
关键词 Atomic layer deposition Oxygen annealing zgo thin films PHOTODETECTOR Ultraviolet detection
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SiC膜对ZGO膜耐腐蚀性能的研究
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作者 姬杨玲 庄大明 张弓 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第2期21-24,共4页
利用中频磁控溅射方法,采用氧化锌镓ZGO(97.5%ZnO+2.5%Ga2O3)陶瓷靶材和SiC陶瓷靶材,制备了ZGO和SiC/ZGO复合薄膜。考察了制备SiC膜时的沉积时间、氩气压强、基底温度对其耐腐蚀保护性能的影响,同时考察了SiC薄膜对ZGO薄膜功能特性的影... 利用中频磁控溅射方法,采用氧化锌镓ZGO(97.5%ZnO+2.5%Ga2O3)陶瓷靶材和SiC陶瓷靶材,制备了ZGO和SiC/ZGO复合薄膜。考察了制备SiC膜时的沉积时间、氩气压强、基底温度对其耐腐蚀保护性能的影响,同时考察了SiC薄膜对ZGO薄膜功能特性的影响。试验结果表明,提高溅射气体的压力可以增强SiC膜对ZGO薄膜的耐腐蚀保护作用,提高基底温度对提高SiC/ZGO的耐腐蚀性能的效果显著,SiC薄膜的存在对ZGO的红外反射性能有增强作用。基底温度260℃,沉积SiC膜160s能对ZGO膜起到防腐保护作用。 展开更多
关键词 氧化锌镓薄膜 SIC薄膜 磁控溅射 耐腐蚀性
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Si基薄膜太阳电池绒面ZGO透明导电膜的研究 被引量:8
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作者 隋妍萍 姜元建 +4 位作者 蔡宏琨 陶科 王林申 赵静芳 张德贤 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期1018-1020,共3页
采用孪生对靶直流磁控溅射的方法在室温下制备高质量的Ga掺杂ZnO(ZGO)透明导电薄膜,用HCl腐蚀的方法获得满足光散射特性的绒面ZGO薄膜。制备的ZGO样品为具有六角纤锌矿结构的多晶膜,具有(002)方向的择优取向。腐蚀后,绒面ZGO薄膜的晶粒... 采用孪生对靶直流磁控溅射的方法在室温下制备高质量的Ga掺杂ZnO(ZGO)透明导电薄膜,用HCl腐蚀的方法获得满足光散射特性的绒面ZGO薄膜。制备的ZGO样品为具有六角纤锌矿结构的多晶膜,具有(002)方向的择优取向。腐蚀后,绒面ZGO薄膜的晶粒度减小,电阻率基本不变。在可见光范围内,绒面ZGO的反射率比平面ZGO的反射率下降了10%左右。将绒面ZGO薄膜应用于p-i-n型非晶Si薄膜太阳电池中,有效提高了太阳电池性能,使得电池的短路电流提高到17.79 mA/cm2,电池的转换效率增加到7.23%。 展开更多
关键词 Ga掺杂ZnO(zgo) 绒面zgo 对靶磁控溅射 太阳电池
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功率密度对中频磁控溅射制备的氧化锌镓薄膜性能的影响 被引量:4
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作者 赵方红 庄大明 +1 位作者 张弓 查杉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期222-224,237,共4页
利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为6.7wt%的氧化锌镓陶瓷靶材,在低温下(约40℃)制备了ZGO薄膜。考察了溅射功率密度对ZGO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响。结果表明:溅射功率密度对薄膜的结构、红外反射以及导电性能有较大影... 利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为6.7wt%的氧化锌镓陶瓷靶材,在低温下(约40℃)制备了ZGO薄膜。考察了溅射功率密度对ZGO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响。结果表明:溅射功率密度对薄膜的结构、红外反射以及导电性能有较大影响。当溅射功率密度为3.58W/cm2,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率低达1.5×10-3Ω·cm,方块电阻为23Ω时,可见光(λ=400nm~800nm)平均透过率高于90%。 展开更多
关键词 磁控溅射 zgo薄膜 溅射功率密度 电阻率 透过率
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基体温度对中频磁控溅射制备的氧化锌镓薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 赵方红 庄大明 +1 位作者 张弓 姬杨玲 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期404-407,共4页
利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为5.7 wt.%的氧化锌镓陶瓷靶材,在不同的基体温度下制备了ZGO薄膜。研究了基体温度对ZGO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响。结果表明:基体温度对薄膜的晶体结构、近红外反射率和透射率曲线以及... 利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为5.7 wt.%的氧化锌镓陶瓷靶材,在不同的基体温度下制备了ZGO薄膜。研究了基体温度对ZGO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响。结果表明:基体温度对薄膜的晶体结构、近红外反射率和透射率曲线以及薄膜的导电性能有较大影响。当基体温度为400℃,溅射功率密度为2.93 W/cm2,氩气压力为0.5 Pa时,薄膜的电阻率低达4.5×10-4Ω.cm,方块电阻为13Ω,平均可见光(λ=400 nm^800 nm)透射率高于90%。 展开更多
关键词 基体温度 zgo薄膜 磁控溅射 电阻率 透射率
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