期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
外电场和双轴应变对MoSH/WSi2N4肖特基结势垒的调控 被引量:1
1
作者 梁前 钱国林 +2 位作者 罗祥燕 梁永超 谢泉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期274-282,共9页
鉴于实验上最新合成的二维半导体材料WSiN(WSN)和二维金属材料MoSH(MSH),构建了金属-半导体MSH/WSN肖特基结.在实际的金属-半导体接触应用中,肖特基势垒的存在严重降低了器件的性能.因此,获得较小的肖特基势垒甚至是欧姆接触至关重要.... 鉴于实验上最新合成的二维半导体材料WSiN(WSN)和二维金属材料MoSH(MSH),构建了金属-半导体MSH/WSN肖特基结.在实际的金属-半导体接触应用中,肖特基势垒的存在严重降低了器件的性能.因此,获得较小的肖特基势垒甚至是欧姆接触至关重要.本文使用第一性原理计算研究了在外电场和双轴应变作用下MSH/WSN肖特基结势垒的变化.计算结果表明,外电场和双轴应变均可以有效地调控MSH/WSN肖特基结势垒.正向外电场能实现MSH/WSN肖特基结p型与n型肖特基接触之间的动态转化,而负向外电场可实现MSH/WSN肖特基结向欧姆接触的转化.此外,较大的双轴应变可实现MSH/WSN肖特基结p型与n型肖特基接触的相互转化.此项工作为基于WSN半导体的肖特基功能器件及场效应晶体管提供理论指导. 展开更多
关键词 wsi2n4 MoSH 金属-半导体接触 肖特基接触
在线阅读 下载PDF
原位反应制备WSi_2/Si_3N_4复合材料的研究 被引量:1
2
作者 沈建兴 孟宪娴 +1 位作者 刘迎凯 毕方智 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期615-619,共5页
研究了Si3N4/WSi2复合陶瓷材料的特殊制备工艺过程及其显微结构。用XRD、SEM、EDX以及气孔测试仪,对每一制备过程步骤中发生的显微结构变化进行了分析。结果表明预烧过程原位生成了WSi2,氮化反应使Si相几乎全部转化为Si3N4和WSi2,热压使... 研究了Si3N4/WSi2复合陶瓷材料的特殊制备工艺过程及其显微结构。用XRD、SEM、EDX以及气孔测试仪,对每一制备过程步骤中发生的显微结构变化进行了分析。结果表明预烧过程原位生成了WSi2,氮化反应使Si相几乎全部转化为Si3N4和WSi2,热压使α-Si3N4转化为β-Si3N4,相组成为β-Si3N4、WSi2以及少量的W5Si3。机械强度随温度上升而增加,1200℃强度达988.3MPa。 展开更多
关键词 热压烧结 WSi2/Si3N4 复合材料
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部