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W/SiC纳米多层膜的调制结构及调制界面
被引量:
5
1
作者
李戈扬
韩增虎
+1 位作者
田家万
张惠娟
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期47-50,共4页
采用 XRD和 HREM技术研究了多靶磁控溅射法制备的 W/Si C纳米多层膜的微结构 .结果表明 ,在多层膜中 ,Si C调制层为非晶态 ;W调制层在大调制周期时为纳米晶 ,随调制周期减小逐渐转变为非晶态 .W/Si C纳米多层膜的调制结构界面平直、清...
采用 XRD和 HREM技术研究了多靶磁控溅射法制备的 W/Si C纳米多层膜的微结构 .结果表明 ,在多层膜中 ,Si C调制层为非晶态 ;W调制层在大调制周期时为纳米晶 ,随调制周期减小逐渐转变为非晶态 .W/Si C纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好 ,而在原子尺度上 。
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关键词
w
/sic
纳米多层膜
调制结构
调制界面
钨/碳化硅
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职称材料
W/SiC纳米多层膜的制备及表征
2
作者
李戈扬
辛挺辉
+2 位作者
吴亮
李鹏兴
张流强
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1999年第4期279-282,共4页
采用多靶磁控溅射制备了 W/SiC纳米多层膜。并用 XRD和 TEM研究了 W/SiC纳米多层膜的微结构。研究表明,W/SiC纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好;SiC调制层为非晶态,W调制层在大调制周期为纳米...
采用多靶磁控溅射制备了 W/SiC纳米多层膜。并用 XRD和 TEM研究了 W/SiC纳米多层膜的微结构。研究表明,W/SiC纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好;SiC调制层为非晶态,W调制层在大调制周期为纳米晶,并随调制周期减小逐渐转变为非晶态。
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关键词
纳米
多层膜
多靶溅射
调制结构
钨
碳化硅
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职称材料
调幅W(Mo)/Cu纳米多层膜He^+离子辐照响应行为
被引量:
1
3
作者
植超虎
刘波
+2 位作者
任丁
杨斌
林黎蔚
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第15期357-362,共6页
用磁控溅射技术制备不同调幅波长(L)的W(Mo)/Cu纳米多层膜,所制膜系在60keV氦离子(He+)辐照条件下注入不同剂量:0,1×1017He+/cm2,5×1017He+/cm2.用X射线衍射仪(XRD)和高分辨透射电子显微镜(TEM)表征W(Mo)/Cu纳米多层膜辐照前...
用磁控溅射技术制备不同调幅波长(L)的W(Mo)/Cu纳米多层膜,所制膜系在60keV氦离子(He+)辐照条件下注入不同剂量:0,1×1017He+/cm2,5×1017He+/cm2.用X射线衍射仪(XRD)和高分辨透射电子显微镜(TEM)表征W(Mo)/Cu纳米多层膜辐照前后微观结构.研究结果表明:1)He+离子轰击引起温升效应是导致沉积态亚稳相β-W转变成稳态α-W相的主因,而与调幅波长无明确关联;2)纳米多层结构中W(Mo)和Cu膜显现出的辐照耐受性与调幅波长相关,调幅波长越小,抗He+的辐照性能越强;3)在5×1017He+/cm2注入条件下,观察到He团簇/泡在纳米结构W(Mo)和Cu膜中的积聚行为存在明显差异:在W(Mo)膜中He团簇/泡的分布与晶粒取向相关,He团簇/泡倾向于沿W(211)晶面分布;而Cu膜非晶化且He团簇/泡在其体内呈均匀分布.
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关键词
w
(Mo)/Cu纳米多层膜
He+辐照
He团簇/泡
相转变
原文传递
题名
W/SiC纳米多层膜的调制结构及调制界面
被引量:
5
1
作者
李戈扬
韩增虎
田家万
张惠娟
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
上海交通大学教育部高温材料及高温测试开放实验室
出处
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期47-50,共4页
文摘
采用 XRD和 HREM技术研究了多靶磁控溅射法制备的 W/Si C纳米多层膜的微结构 .结果表明 ,在多层膜中 ,Si C调制层为非晶态 ;W调制层在大调制周期时为纳米晶 ,随调制周期减小逐渐转变为非晶态 .W/Si C纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好 ,而在原子尺度上 。
关键词
w
/sic
纳米多层膜
调制结构
调制界面
钨/碳化硅
Keywords
w/sic nanometer multilayers
multi target sputtering
modulation structure
modulation interface
分类号
O484.43 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
W/SiC纳米多层膜的制备及表征
2
作者
李戈扬
辛挺辉
吴亮
李鹏兴
张流强
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
中国科学院上海冶金研究所
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1999年第4期279-282,共4页
文摘
采用多靶磁控溅射制备了 W/SiC纳米多层膜。并用 XRD和 TEM研究了 W/SiC纳米多层膜的微结构。研究表明,W/SiC纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好;SiC调制层为非晶态,W调制层在大调制周期为纳米晶,并随调制周期减小逐渐转变为非晶态。
关键词
纳米
多层膜
多靶溅射
调制结构
钨
碳化硅
Keywords
w
/sic
nanomenter
multilayers
,Multi-target sputtering,Modulation structure
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
O484.8 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
调幅W(Mo)/Cu纳米多层膜He^+离子辐照响应行为
被引量:
1
3
作者
植超虎
刘波
任丁
杨斌
林黎蔚
机构
四川大学原子核科学技术研究所
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第15期357-362,共6页
基金
科技部国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项
偏滤器关键技术研究(批准号:2011GB110005)
+2 种基金
国家自然科学基金(批准号:11075112
11005076)
教育部博士重点基金(批准号:20100181120112)资助的课题~~
文摘
用磁控溅射技术制备不同调幅波长(L)的W(Mo)/Cu纳米多层膜,所制膜系在60keV氦离子(He+)辐照条件下注入不同剂量:0,1×1017He+/cm2,5×1017He+/cm2.用X射线衍射仪(XRD)和高分辨透射电子显微镜(TEM)表征W(Mo)/Cu纳米多层膜辐照前后微观结构.研究结果表明:1)He+离子轰击引起温升效应是导致沉积态亚稳相β-W转变成稳态α-W相的主因,而与调幅波长无明确关联;2)纳米多层结构中W(Mo)和Cu膜显现出的辐照耐受性与调幅波长相关,调幅波长越小,抗He+的辐照性能越强;3)在5×1017He+/cm2注入条件下,观察到He团簇/泡在纳米结构W(Mo)和Cu膜中的积聚行为存在明显差异:在W(Mo)膜中He团簇/泡的分布与晶粒取向相关,He团簇/泡倾向于沿W(211)晶面分布;而Cu膜非晶化且He团簇/泡在其体内呈均匀分布.
关键词
w
(Mo)/Cu纳米多层膜
He+辐照
He团簇/泡
相转变
Keywords
w
(Mo)/Cu
nanometer
multilay
er film
He^+ irradiation
helium cluster/bubble
phse transformation
分类号
O484.43 [理学—固体物理]
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
W/SiC纳米多层膜的调制结构及调制界面
李戈扬
韩增虎
田家万
张惠娟
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
W/SiC纳米多层膜的制备及表征
李戈扬
辛挺辉
吴亮
李鹏兴
张流强
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1999
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
调幅W(Mo)/Cu纳米多层膜He^+离子辐照响应行为
植超虎
刘波
任丁
杨斌
林黎蔚
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
1
原文传递
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