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UV/PMS和UV/H_(2)O_(2)降解偶氮染料橙黄G的对比研究
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作者 李星豪 黄旭 +1 位作者 李爱民 代露溪 《山东化工》 CAS 2024年第17期282-286,共5页
随着社会的发展与人民生活的需求,染料被广泛应用于纺织、印刷与皮革加工等工业生产当中,因而产生了大量富含染料的印染废水。其中,偶氮染料在染料生产与使用市场中占比最高,亟需高效的技术来消除此类毒害污染物。本文以橙黄G为例,深入... 随着社会的发展与人民生活的需求,染料被广泛应用于纺织、印刷与皮革加工等工业生产当中,因而产生了大量富含染料的印染废水。其中,偶氮染料在染料生产与使用市场中占比最高,亟需高效的技术来消除此类毒害污染物。本文以橙黄G为例,深入对比分析了UV/PMS和UV/H_(2)O_(2)两种紫外高级氧化工艺对偶氮染料废水的降解与矿化效能。结果表明,中性条件下UV/PMS工艺更具优势,当氧化剂浓度为5 mmol/L,OG质量浓度为50 mg/L时在20 min内能去除100%的橙黄G与46.4%的TOC。 展开更多
关键词 uv/pms uv/H_(2)O_(2) 偶氮染料 污染物矿化
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镁离子强化UV/PMS体系降解染料的探究
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作者 袁琳 张静 胡嘉敏 《工业水处理》 CSCD 北大核心 2017年第10期31-34,共4页
用酸性橙7(AO7)模拟染料废水,探究了Mg^(2+)对UV/PMS体系降解染料废水的强化作用,及其影响因素和主要氧化物种。实验结果表明,Mg^(2+)的加入会显著增强UV/PMS体系的氧化能力。底物浓度与AO7的降解效果成负相关;PMS投量、Mg^(2+)投量和... 用酸性橙7(AO7)模拟染料废水,探究了Mg^(2+)对UV/PMS体系降解染料废水的强化作用,及其影响因素和主要氧化物种。实验结果表明,Mg^(2+)的加入会显著增强UV/PMS体系的氧化能力。底物浓度与AO7的降解效果成负相关;PMS投量、Mg^(2+)投量和紫外灯功率与AO7的降解效果成正相关;pH的升高对该体系起到一定的抑制作用。Mg^(2+)/UV/PMS体系主要氧化物种是硫酸根自由基(SO4·-)和少量羟基自由基(·OH)。 展开更多
关键词 镁离子 uv/pms体系 染料废水
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基于UV/PMS工艺降解水中高效氟吡甲禾灵研究 被引量:2
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作者 晏江波 杨秀英 +2 位作者 徐春燕 何勇 刘祖文 《资源开发与市场》 CAS CSSCI 2017年第4期481-484,共4页
针对普通方法难以降解水中农药废水的问题,运用紫外(UV)/过氧硫酸氢钾(PMS)系统降解高效氟吡甲禾灵,探讨溶液中反应污染物的初始浓度、氧化剂PMS添加量、腐殖酸浓度、初始pH值和常见无机阴离子等的影响因素。结果显示:UV通过催化PMS产... 针对普通方法难以降解水中农药废水的问题,运用紫外(UV)/过氧硫酸氢钾(PMS)系统降解高效氟吡甲禾灵,探讨溶液中反应污染物的初始浓度、氧化剂PMS添加量、腐殖酸浓度、初始pH值和常见无机阴离子等的影响因素。结果显示:UV通过催化PMS产生氧化性很强的活性自由基(·SO_4^-、·OH),能有效降解水中高效氟吡甲禾灵,降解反应符合拟一级动力学模型(R^2>0.98),反应污染物的初始浓度与降解速率呈负相关;氧化剂PMS添加量与降解速率呈正相关。添加的腐殖酸浓度越高,抑制降解反应的作用越明显,中性和弱碱条件下降解效果较好。当pH=7.41时,具有最大去除率(56.82%);少量的HCO_3^-对降解高效氟吡甲禾灵具有促进作用,高浓度则会抑制降解。在c(HCO_3^-)=10mmol/L时最大,Cl^-会抑制其降解;添加乙醇和叔丁醇淬灭剂,kobs均大量减小,UV/PMS的活性氧化物主要是·SO_4^-。 展开更多
关键词 高效氟吡甲禾灵 紫外/过氧硫酸氢钾 降解反应 硫酸根自由基
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H_(2)O_(2)对O_(3)-PMS体系降解碘帕醇的效能优化
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作者 程莹 臧纪 +2 位作者 李伟平 谢荣焕 刘桂建 《环境化学》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期2133-2141,共9页
碘化造影剂(ICMs)作为一种典型的药品和个人护理品(PPCPs)广泛应用于医疗行业,常规的水处理工艺很难将其有效去除,而目前报道中多采用的高级氧化工艺也仍存在不足.以碘帕醇(IPM)为例,通过实验模拟研究O_(3)、O_(3)-PMS、O_(3)-PMS-H_(2)... 碘化造影剂(ICMs)作为一种典型的药品和个人护理品(PPCPs)广泛应用于医疗行业,常规的水处理工艺很难将其有效去除,而目前报道中多采用的高级氧化工艺也仍存在不足.以碘帕醇(IPM)为例,通过实验模拟研究O_(3)、O_(3)-PMS、O_(3)-PMS-H_(2)O_(2)3种高级氧化体系的降解规律及消毒副产物生成情况,探究了H_(2)O_(2)浓度、初始pH、氯离子、碳酸氢根离子、有机质对IPM降解效果的影响,并对IPM的可能降解途径进行了分析.结果表明,在O_(3)-PMS体系中投加H_(2)O_(2)可以提升对IPM的降解效率,还能减少溴酸盐的产生;O_(3)-PMS-H_(2)O_(2)体系在不同pH条件下对IPM均表现出良好的降解效果;Cl^(-)、天然有机质的存在对O_(3)-PMS-H_(2)O_(2)体系均具有抑制作用;CO_(3)^(2-)/HCO_(3)−形成缓冲体系则可以显著促进IPM的降解;O_(3)-PMS-H_(2)O_(2)体系可以通过强氧化作用和取代脱碘的路径将IPM进行有效降解.本研究可以为ICMs污染水体的修复提供理论依据. 展开更多
关键词 过氧化氢 O_(3)-pms 高级氧化 碘帕醇 溴酸盐
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UV/PMS/H_(2)O_(2)体系对他汀类药物的去除作用及机制研究 被引量:1
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作者 赵孟雷 袁守军 《广州化工》 CAS 2022年第13期46-50,共5页
随着全球老龄人口数量的逐年递增,各类疾病、特别是心脑血管疾病发病率逐年提高,降血脂类高效药他汀类药物的消耗量逐年增加,且在被使用后以药物原形及其代谢产物通过市政管网进入到环境到中,从而危害到水生生物。本文研究了他汀类药物... 随着全球老龄人口数量的逐年递增,各类疾病、特别是心脑血管疾病发病率逐年提高,降血脂类高效药他汀类药物的消耗量逐年增加,且在被使用后以药物原形及其代谢产物通过市政管网进入到环境到中,从而危害到水生生物。本文研究了他汀类药物在UV/PMS/H_(2)O_(2)体系中的去除效果及机理。结果表明,在UV/PMS/H_(2)O_(2)体系中,瑞舒伐他汀钙(ROSC)和阿托伐他汀(ATV)的降解规律符合伪一级动力学模型(R^(2)>0.95);pH值、腐殖酸、阴离子(Cl^(-)、HCOR_(3)^(-))等因素对他汀类药物的降解效果存在影响作用。UV催化生成的SO_(4)^(-)·和OH·对他汀类药物具有良好的氧化降解作用,在初始度为10 mg/L、pH中性条件下,ATV和ROSC的去除率分别为48.74%和88.66%。UV/PMS/H_(2)O_(2)体系无法使他汀类药物达到完全矿化,废水中仍残留大量含有羧基、羰基和酰胺基的小分子有机物。 展开更多
关键词 他汀类药物 高级氧化 降解产物 紫外催化
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UV/Cu(Ⅱ)/亚硫酸盐自氧化工艺去除水中典型新污染物布洛芬
6
作者 林常春 徐栋 +1 位作者 王昕 邓靖 《净水技术》 2025年第4期81-87,共7页
【目的】全球城市化进程加速与工业活动密集化的背景下,新污染物在水环境中的残留及迁移转化规律已成为水处理领域的研究焦点。因其在污水处理厂中的不完全去除及环境持久性,已在全球地表水中广泛检出,亟需开发兼具高效降解能力与环境... 【目的】全球城市化进程加速与工业活动密集化的背景下,新污染物在水环境中的残留及迁移转化规律已成为水处理领域的研究焦点。因其在污水处理厂中的不完全去除及环境持久性,已在全球地表水中广泛检出,亟需开发兼具高效降解能力与环境相容性的新型水处理工艺。【方法】文章研究了紫外(UV)/Cu(Ⅱ)/亚硫酸盐自氧化工艺对水中典型新污染物布洛芬(IBP)的降解规律,探讨了溶液pH、亚硫酸盐与Cu(Ⅱ)用量对IBP降解的影响,分析了不同自由基的作用机制,提出了IBP可能的降解途径。【结果】结果表明,UV/Cu(Ⅱ)/亚硫酸盐自氧化工艺对IBP的降解符合准一级动力学模型,Cu(Ⅱ)有效促进了UV/亚硫酸盐工艺对IBP的降解,降解速率常数由0.04764 min^(-1)增加至0.13051 min^(-1),同时亚硫酸盐分解速率提升。IBP的降解速率与亚硫酸盐浓度呈正相关,弱碱性pH值(8.0)以及较低浓度(5μmol/L)Cu(Ⅱ)均有利于降解。硫酸根自由基(SO_(4)^(·-))是降解IBP主要的活性自由基,贡献率高达51.64%,而羟基自由基(·OH)的贡献率仅为15.45%。【结论】CuOH^(+)与亚硫酸盐络合协同UV活化亚硫酸盐,导致更多的SO_(4)^(·-)和·OH产生,加速了IBP降解。在UV/Cu(Ⅱ)/亚硫酸盐自氧化工艺中,共检出13种IBP的降解产物,由此提出了4种可能的转化途径,包括羟基化、脱羧化、羰基化和脱甲基化反应。 展开更多
关键词 紫外(uv) 亚硫酸盐 二价铜离子 自氧化工艺 布洛芬
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基于UV胶光固化制备馆藏陈列细菌平板标本的新方法
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作者 张金梅 李彬语 +4 位作者 闫春美 吴畏 李重言 周智威 孙群 《四川师范大学学报(自然科学版)》 2025年第5期666-671,共6页
传统细菌平板标本制作方法在样品透光性、泛白和长期室温保存方面有局限,在博物馆展陈时一般达不到相应要求.以Escherichia coli和Planomicrobium okeanokoites两种细菌为代表,研发基于UV胶光固化反应的细菌平板标本制作新方法,并通过... 传统细菌平板标本制作方法在样品透光性、泛白和长期室温保存方面有局限,在博物馆展陈时一般达不到相应要求.以Escherichia coli和Planomicrobium okeanokoites两种细菌为代表,研发基于UV胶光固化反应的细菌平板标本制作新方法,并通过优化培养基配方和UV胶性能实现标本的长期室温馆藏.研究结果表明,优化后的培养基使标本亮度(L^(*))显著提升,在E.coli体系和P.okeanokoites体系中,低盐或抗结晶物质添加使两种体系的L^(*)分别由39.36增至40.75(E.coli)、38.15增至40.35(P.okeanokoites),综合色差ΔE^(*)分别为0.82和0.76,满足视觉保真要求(ΔE^(*)<3.0).BTA改性UV胶使黄移指数(Δb^(*))降低79.3%,综合色差ΔE^(*)为1.50,抑制了UV胶的黄化现象.本研究采用低盐培养基优化、抗结晶培养基配方改进以及苯并三氮唑(BTA)改性UV胶的协同策略,显著提升了标本的透光性和光学稳定性,可以满足馆藏展品的视觉要求. 展开更多
关键词 uv胶光固化 色差分析 工艺优化 细菌标本
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基于UV的高级氧化工艺对水环境中抗生素抗性基因削减的研究进展
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作者 姜德坤 何桂琳 +3 位作者 张琳静 刘宝震 杜振齐 王永磊 《净水技术》 2025年第7期1-12,100,共13页
【目的】由于抗生素的大量使用,水环境中抗生素抗性基因(ARGs)被频繁检出,由此带来的水质健康风险也引起越来越多关注。传统污水处理工艺无法有效去除这些污染物,因此,UV(紫外)-AOPs(高级氧化工艺)成为研究热点,尤其是其在削减水环境中A... 【目的】由于抗生素的大量使用,水环境中抗生素抗性基因(ARGs)被频繁检出,由此带来的水质健康风险也引起越来越多关注。传统污水处理工艺无法有效去除这些污染物,因此,UV(紫外)-AOPs(高级氧化工艺)成为研究热点,尤其是其在削减水环境中ARGs方面的潜力。【方法】文章综述了UV与过氧化氢(H_(2)O_(2))、过硫酸盐(PS)、氯(Cl_(2))、芬顿(Fenton)试剂和二氧化钛(TiO2)等工艺的组合,不同程度上实现了ARGs的有效去除,重点分析了其工作原理、削减机制以及削减效果,并进一步探讨了不同的UV-AOPs工艺如何通过产生高活性氧自由基[如羟基自由基(·OH)、硫酸根自由基(SO_(4)^(·-))]和含氯活性物种,破坏细胞表面和脱氧核糖核酸(DNA)结构,从而达到灭活细菌和消除ARGs的目的。【结果】其中,UV/H_(2)O_(2)工艺利用·OH降解ARGs,UV/PS展现了更广的pH适用范围,UV/Cl_(2)通过光解Cl_(2)生成活性物质增强了ARGs去除效果,UV/Fenton反应生成大量·OH,具有较高的去除效率,而UV/TiO2则通过光催化产生活性氧抑制ARGs的传播。通过对不同水环境中的应用效果进行对比,文章探讨了这些工艺的优劣以及其在实际应用中的可行性。结果显示,尽管UV-AOPs在削减水环境中ARGs方面显示出显著效果,但不同工艺的降解效率受水质条件、氧化剂投加量以及工艺配置等多种因素的影响。【结论】总体而言,UV-AOPs是一种具有广泛应用前景的水处理技术,为ARGs的削减提供了有效手段。然而,在其实际应用过程中,需进一步研究不同工艺的联合效应以及如何优化各类参数以提升处理效率,并确保其在多变的水环境中具有稳定的性能,同时减少潜在的二次污染,以期为水环境保护和公共健康安全提供技术参考。 展开更多
关键词 抗生素抗性基因(ARGs) 高级氧化工艺(AOPs) 紫外光(uv)催化 水环境 污染控制
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Generation of carbon dioxide anion radical by UV/small molecular monocarboxylic acid system for reductive dechlorination of chlorinated alkanes
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作者 Li-Zhi Huang Jingjing Lin +4 位作者 Weiguo Chen WeiWang Yitao Dai Ivan P.Pozdnyakov Bingbing Hu 《Journal of Environmental Sciences》 2025年第12期50-59,共10页
The persistence of chlorinated alkanes in aquatic environments poses significant health risks due to its biotoxicity and high volatility,which contributes to both water and air pollution.This study investigates the ef... The persistence of chlorinated alkanes in aquatic environments poses significant health risks due to its biotoxicity and high volatility,which contributes to both water and air pollution.This study investigates the efficacy of carbon dioxide radical anion(CO_(2)·^(-))mediated advanced reduction processes(ARPs)for the reductive dechlorination of chlorinated alkanes using small molecular monocarboxylic acids(SMAs)under UV irradiation.The study focused on formic acid(HCOOH),acetic acid(CH_3COOH),and propionic acid(CH_3CH_(2)COOH)to generate CO_(2)·^(-),revealing that UV/HCOOH system exhibits a notably high chloroform(CF)degradation efficiency of 97.8%in 90 min.Kinetic studies indicated a linear relationship between the HCOOH concentrations and the observed reaction rate constants(k_(obs)),demonstrating that CO_(2)·^(-)production is crucial for CF degradation.Electron paramagnetic resonance spectroscopy identified CO_(2)·^(-)and hydroxyl radicals(HO·)as the active species,with the former playing a predominant role in CF degradation.The study also explored the influence of carbon chain length in SMAs on CF degradation,finding that longer chains decrease the degradation efficiency,potentially due to reduced UV activation.A higher reaction rate constant(k_(obs))under acidic conditions,with a marked decrease in efficiency as the pH exceeds 3.7,where HCOO^(-)becomes predominant.This study enhances our understanding of CO_(2)·^(-)mediated ARPs and explores potential applications in environmental remediation,providing insights into the pathways and mechanisms of CF degradation.The UV/SMAs systems offer advantages for practical applications,such as milder reaction conditions and higher efficiency compared to traditional methods. 展开更多
关键词 CHLOROFORM Reductive dechlorination Carbon dioxide radical anion Advanced reduction processes uv photolysis
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UV转印提升家电与汽车内饰高端市场竞争力的路径
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作者 周文强 《丝网印刷》 2025年第7期30-32,共3页
UV转印工艺以其高精度和环保特点,在家电与汽车内饰的高端市场中占据了关键位置,尤其是在外观设计、色彩还原度和耐用性方面具有显著优势。案例分析UV转印工艺在家电与汽车内饰行业中的应用,探讨其在提升产品附加值、创新设计以及消费... UV转印工艺以其高精度和环保特点,在家电与汽车内饰的高端市场中占据了关键位置,尤其是在外观设计、色彩还原度和耐用性方面具有显著优势。案例分析UV转印工艺在家电与汽车内饰行业中的应用,探讨其在提升产品附加值、创新设计以及消费者体验中的作用。为UV转印工艺在现代制造过程中如何提升高端市场的竞争力,提出了优化发展路径的对策。 展开更多
关键词 uv转印工艺 家电 汽车内饰 高端市场
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UV/H_(2)O_(2)高级氧化工艺对去除饮用水中2-MIB和GSM效果的分析
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作者 付雨 姚恒军 +4 位作者 赵学志 郑群 郑春源 韩京龙 潘章斌 《净水技术》 2025年第6期54-61,共8页
【目的】针对饮用水中2-甲基异莰醇(2-MIB)和土臭素(GSM)等典型嗅味物质难以有效控制的问题,【方法】文章开展了紫外/过氧化氢(H_(2)O_(2))高级氧化中试试验验证。【结果】发现2-MIB和GSM初始浓度、H_(2)O_(2)的投加量、进水水量等均对2... 【目的】针对饮用水中2-甲基异莰醇(2-MIB)和土臭素(GSM)等典型嗅味物质难以有效控制的问题,【方法】文章开展了紫外/过氧化氢(H_(2)O_(2))高级氧化中试试验验证。【结果】发现2-MIB和GSM初始浓度、H_(2)O_(2)的投加量、进水水量等均对2-MIB和GSM的去除率有着重要影响,在该试验条件下,当H_(2)O_(2)投加量从0提高到12 mg/L时,2-MIB的去除率从7.54%提高至87.24%,GSM的去除率从22.77%提高至89.66%;当进水量减半(紫外剂量加倍),H_(2)O_(2)投加量从0提高到12 mg/L时,2-MIB的去除率从7.49%提高至92.86%,GSM的去除率从17.13%提高至90.98%。【结论】研究表明,H_(2)O_(2)的存在能显著提升嗅味物质的去除率,而嗅味物质的去除过程中羟基自由基起到了关键作用,也表明H_(2)O_(2)在紫外灯的照射下能够生成更多的羟基自由基。该研究可为饮用水中的嗅味物质去除提供有力的技术支持。 展开更多
关键词 2-甲基异莰醇(2-MIB) 土臭素(GSM) 紫外/过氧化氢 高级氧化工艺 中试
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烧结工艺对PSN-PZN-PMS-PZT瓷性能的影响 被引量:3
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作者 陆翠敏 孙清池 +1 位作者 胜鹏 徐明霞 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2004年第8期11-13,共3页
采用二次合成工艺得到了Pb(Sn1/3Nb2/3)0.03(Zn1/3Nb2/3)0.03(Mn1/3Sb2/3)0.04Zr0.435Ti0.465O3(PSN-PZN-PMS-PZT)五元系压电陶瓷。分析讨论了压电陶瓷的烧结温度与体密度、气孔率、晶粒大小及介电、压电性能的关系。并研究升温速度,保... 采用二次合成工艺得到了Pb(Sn1/3Nb2/3)0.03(Zn1/3Nb2/3)0.03(Mn1/3Sb2/3)0.04Zr0.435Ti0.465O3(PSN-PZN-PMS-PZT)五元系压电陶瓷。分析讨论了压电陶瓷的烧结温度与体密度、气孔率、晶粒大小及介电、压电性能的关系。并研究升温速度,保温时间对介电、压电性能的影响。结果表明,升温速度过快时材料致密性下降;烧结温度1 260℃保温3 h,得到一种综合性能优良的压电材料。其主要参数:r为1 390,d33为300 pC/N,kp为55.1%,Qm为1 180,tg为0.30?02。 展开更多
关键词 无机陶瓷材料 (PSN-PZN-pms-PZT)压电陶瓷 二次合成工艺 烧结温度 升温速度 保温时间
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基于MATLAB的PMS航测数据处理方法的研究与实现 被引量:1
13
作者 胡向峰 吴志会 +2 位作者 孙玉稳 董晓波 邓育鹏 《气象水文海洋仪器》 2016年第2期1-6,共6页
机载粒子测量系统PMS(Particle Measurement System)的探测资料是进行人工增雨科学研究的基础,因此对PMS探测资料进行分析和研究有着十分重要的意义。利用MATLAB设计了PMS的一维探头PCASP、FSSP以及云凝结核计数器CCN等资料的数据处理... 机载粒子测量系统PMS(Particle Measurement System)的探测资料是进行人工增雨科学研究的基础,因此对PMS探测资料进行分析和研究有着十分重要的意义。利用MATLAB设计了PMS的一维探头PCASP、FSSP以及云凝结核计数器CCN等资料的数据处理程序。利用该程序对2008-10-19气溶胶数据进行处理,得到了气溶胶微物理量的垂直、水平分布特征。研究发现,处理结果准确直观地反映了大气气溶胶的空间分布特征,符合大气物理学原理。最后对数据处理程序的效率进行了测试。结果表明,该方法完全满足研究人员分析处理PMS探测数据的需求。 展开更多
关键词 pms 数据处理 滑动平均 效率
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Formaldehyde degradation by UV/TiO_2/O_3 process using continuous flow mode 被引量:12
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作者 QI Hong SUN De-zhi CHI Guo-qing 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第9期1136-1140,共5页
The degradation of formaldehyde gas was studied using UV/TiO2/O3 process under the condition of continuous flow mode. The effects of humidity, initial formaldehyde concentration, residence time and ozone adding amount... The degradation of formaldehyde gas was studied using UV/TiO2/O3 process under the condition of continuous flow mode. The effects of humidity, initial formaldehyde concentration, residence time and ozone adding amount on degradation of formaldehyde gas were investigated. The experimental results indicated that the combination of ozonation with photocatalytic oxidation on the degradation of formaldehyde showed a synergetic action, e.g,, it could considerably increase decomposing of formaldehyde. The degradation efficiency of formaldehyde was between 73.6% and 79.4% while the initial concentration in the range of 1.84--24 mg/m^3 by O3/TiO2flJV process. The optimal humidity was about 50% in UV/TiO2/O3 processs and degradation of formaldehyde increases from 39.0% to 94.1% when the ozone content increased from 0 to 141 mg/m^3. Furthermore, the kinetics of formaldehyde degradation reaction could be described by Langmuir-Hinshelwood model. The rate constant k of 46.72 mg/(m^3.min) and Langmuir adsorption coefficient K of 0.0268 m^3/mg were obtained. 展开更多
关键词 uv/TiO2/O3 process FORMALDEHYDE continuous flow mode
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Process analysis of PM_(2.5) pollution events in a coastal city of China using CMAQ 被引量:21
15
作者 Qiang Zhang Di Xue +2 位作者 Xiaohuan Liu Xiang Gong Huiwang Gao 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第5期225-238,共14页
US EPA's Community Multiscale Air Quality modeling system(CMAQ) with Process Analysis tool was used to simulate and quantify the contribution of individual atmospheric processes to PM_(2.5) concentration in Qingda... US EPA's Community Multiscale Air Quality modeling system(CMAQ) with Process Analysis tool was used to simulate and quantify the contribution of individual atmospheric processes to PM_(2.5) concentration in Qingdao during three representative PM_(2.5) pollution events in the winter of 2015 and 2016. Compared with the observed surface PM_(2.5) concentrations, CMAQ could reasonably reproduce the temporal and spatial variations of PM_(2.5) during these three events. Process analysis results show that primary emissions accounted for 72.7%–93.2% of the accumulation of surface PM_(2.5) before and after the events.When the events occurred, primary emissions were still the major contributor to the increase of PM_(2.5) in Qingdao, however the contribution percentage reduced significantly,which only account for 51.4%–71.8%. Net contribution from horizontal and vertical transport to the accumulation of PM_(2.5) was also positive and its percentage increased when events occurred. Only 1.1%–4.6% of aerosol accumulation was due to PM processes and aqueous chemical processes before and after events. When the events occurred,contribution from PM processes and aqueous chemistry increased to 6.0%–11.8%. Loss of PM_(2.5) was mainly through horizontal transport, vertical transport and dry deposition, no matter during or outside the events. Wet deposition would become the main removal pathway of PM_(2.5), when precipitation occurred. 展开更多
关键词 CMAQ process analysis pm2.5 Qingdao
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一种基于UV-ESA自校准和高精度的PM电学测量方法 被引量:2
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作者 亓林 刘宇 +2 位作者 邹新海 唐笠 张萍 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第11期2284-2288,共5页
电光相位调制器(Phase Modulator,PM)因无需偏置,线性调制和插损小等优点,被广泛应用于相干光通信、微波信号产生、处理和测量等领域.调制指数和半波电压是评估PM性能的关键参数.传统基于(Optical Spectrum Analyzer,OSA)的方法面临测... 电光相位调制器(Phase Modulator,PM)因无需偏置,线性调制和插损小等优点,被广泛应用于相干光通信、微波信号产生、处理和测量等领域.调制指数和半波电压是评估PM性能的关键参数.传统基于(Optical Spectrum Analyzer,OSA)的方法面临测量分辨率低和存在测量盲区问题.为此,本文提出了一种基于电谱分析(Unequal Voltage based on Electrical Spectrum Analyzer,UV-ESA)的自校准、高精度的PM特性参数测量方法.该方法利用同频、不同驱动电压比的情况下,通过分析失谐光学载波和调制边带分别与载波拍音电谱,实现PM调制指数和半波电压的高频特性参数测量.该方法不需改变测量链路结构,无需辅助宽带微波源或电光调制器,验证了所提方法的有效性,并对比OSA方法对结果的准确性进行了验证. 展开更多
关键词 电光相位调制器 电谱分析 调制指数 半波电压
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Photolysis pathway of nitroaromatic compounds in aqueous solutions in the UV/H_2O_2 process 被引量:2
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作者 GOH Ngoh Khang 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第6期1061-1064,共4页
Nitroaromatic compounds such as nitrobenzene and nitrophenols are largely synthesised and particularly often occur in water bodies as toxic pollutants. The degradation of these compounds in the environment via direct ... Nitroaromatic compounds such as nitrobenzene and nitrophenols are largely synthesised and particularly often occur in water bodies as toxic pollutants. The degradation of these compounds in the environment via direct photolysis and by biological treatment is difficult and usually slow. In our two previous published papers, we have discussed the advanced oxidation of nitrobenzene and nitrophenols in aqueous solutions irradiated by direct photolysis using polychromatic light and by means of UV/H2O2 process. The experimental results suggested the UV/H2O2 process is an effective and efficient technology for complete mineralization of these organic compounds. Based on the results therein, comprehensive reaction mechanism for nitrobenzene photolysis was proposed with detailed discussions. 展开更多
关键词 PHOTOLYSIS PATHWAY NITROBENZENE NITROPHENOLS uv/H2O2 process
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Enhanced debromination of 4-bromophenol by the UV/sulfite process:Efficiency and mechanism 被引量:14
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作者 Bihuang Xie Xuchun Li +3 位作者 Xianfeng Huang Zhe Xu Weiming Zhang Bingcai Pan 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第4期231-238,共8页
Halogenated aromatic compounds have attracted increasing concerns due to their toxicity and persistency in the environment, and dehalogenation is one of the promising treatment and detoxification methods. Herein, we s... Halogenated aromatic compounds have attracted increasing concerns due to their toxicity and persistency in the environment, and dehalogenation is one of the promising treatment and detoxification methods. Herein, we systematically studied the debromination efficiency and mechanism of para-bromophenol(4-BP) by a recently developed UV/sulfite process. 4-BP underwent rapid degradation with the kinetics accelerated with the increasing sulfite concentration, pH(6.1–10) and temperature, whereas inhibited by dissolved oxygen and organic solvents. The apparent activation energy was estimated to be 27.8 kJ/mol. The degradation mechanism and pathways of 4-BP were explored by employing N2O and nitrate as the electron scavengers and liquid chromatography/mass spectrometry to identify the intermediates. 4-BP degradation proceeded via at least two pathways including direct photolysis and hydrated electron-induced debromination. The contributions of both pathways were distinguished by quantifying the quantum yields of 4-BP via direct photolysis and hydrated electron production in the system. 4-BP could be readily completely debrominated with all the substituted Br released as Br-, and the degradation pathways were also proposed. This study would shed new light on the efficient dehalogenation of brominated aromatics by using the UV/sulfite process. 展开更多
关键词 Debromination Brominated aromatics uv/sulfite process Hydrated electron Mechanism
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紫外辐射H2O2与PMS氧化准好氧矿化垃圾床渗滤液尾水 被引量:7
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作者 冯梅 陈炜鸣 +2 位作者 潘旭秦 李启彬 刘丹 《中国环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期3744-3753,共10页
采用紫外(UV)活化双氧水(H2O2)和过一硫酸盐(PMS)产生活性氧物种降解准好氧矿化垃圾床渗滤液尾水中有机污染物.结果表明,紫外辐射双氧水(UV-H2O2)和紫外辐射过一硫酸盐(UV-PMS)体系对有机污染物的降解相比于单独体系效果显著.初始pH值... 采用紫外(UV)活化双氧水(H2O2)和过一硫酸盐(PMS)产生活性氧物种降解准好氧矿化垃圾床渗滤液尾水中有机污染物.结果表明,紫外辐射双氧水(UV-H2O2)和紫外辐射过一硫酸盐(UV-PMS)体系对有机污染物的降解相比于单独体系效果显著.初始pH值和氧化剂投加量能够显著影响2种体系的降解效能,增加氧化剂投加量能够一定程度提高2种体系对渗滤液尾水中有机物的去除;2种体系均在酸性条件下效果较好,初始pH值的升高对2种体系过程有机物降解有抑制作用并且对UV-H2O2体系的抑制尤为显著.在最优条件下(初始pH值为3,氧化剂投量为0.084mol/L),UV-H2O2与UV-PMS体系处理后出水COD去除率分别达到了72.09%和56.22%.另外,UV-H2O2体系中主要活性氧物种是羟基自由基,而UV-PMS体系中主要是由羟基自由基和硫酸根自由基的共同作用.紫外-可见光谱与三维荧光光谱表明两体系中均能降解渗滤液尾水中难降解芳香类有机物质,并且UV-PMS较UV-H2O2体系对腐殖质的反应速率更快,但是两种体系对渗滤液尾水中腐殖质的降解途径存在显著差异.研究结果可为光化学氧化处理垃圾渗滤液中难降解有机物提供参考. 展开更多
关键词 紫外-过氧化氢 紫外-过一硫酸盐(uv-pms) 准好氧矿化垃圾床 垃圾渗滤液 自由基
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Degradation of metoprolol by UV/sulfite as an advanced oxidation or reduction process:The significant role of oxygen 被引量:3
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作者 Ying Cao Juan Li +4 位作者 Yanxin Zhao Yumeng Zhao Wei Qiu Suyan Pang Jin Jiang 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第6期107-116,共10页
The degradation of metoprolol(MTP)by the UV/sulfite with oxygen as an advanced reduction process(ARP)and that without oxygen as an advanced oxidation process(AOP)was comparatively studied herein.The degradation of MTP... The degradation of metoprolol(MTP)by the UV/sulfite with oxygen as an advanced reduction process(ARP)and that without oxygen as an advanced oxidation process(AOP)was comparatively studied herein.The degradation of MTP by both processes followed the first-order rate law with comparable reaction rate constants of 1.50×10^(-3)sec^(−1)and 1.20×10^(-3)sec^(−1),respectively.Scavenging experiments demonstrated that both e^(−)_(aq)and H·played a crucial role in MTP degradation by the UV/sulfite as an ARP,while SO_(4)^(·−)was the dominant oxidant in the UV/sulfite AOP.The degradation kinetics of MTP by the UV/sulfite as an ARP and AOP shared a similar pH dependence with a minimum rate obtained around pH 8.The results could be well explained by the pH impacts on the MTP speciation and sulfite species.Totally six transformation products(TPs)were identified from MTP degradation by the UV/sulfite ARP,and two additional ones were detected in the UV/sulfite AOP.The benzene ring and ether groups of MTP were proposed as the major reactive sites for both processes based on molecular orbital calculations by density functional theory(DFT).The similar degradation products of MTP by the UV/sulfite process as an ARP and AOP indicated that e^(−)_(aq)/H·and SO_(4)^(·−)might share similar reaction mechanisms,primarily including hydroxylation,dealkylation,and H abstraction.The toxicity of MTP solution treated by the UV/sulfite AOP was calculated to be higher than that in the ARP by the Ecological Struc-ture Activity Relationships(ECOSAR)software,due to the accumulation of TPs with higher toxicity. 展开更多
关键词 uv/sulfite Advanced reduction process(ARP) Advanced oxidation process(AOP) METOPROLOL Degradation products Toxicity
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