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UHVCVD系统电阻丝加热3＂硅片热平衡状态分析
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作者 陈伟华 叶志镇 +1 位作者 曹青 张侃 《浙江大学学报（自然科学版）》 CSCD 1996年第5期529-534,共6页
本文根据传热学基本原理，研究了超高真空化学气相外延（ＵＨＶＣＶＤ）系统中，电阻丝辐射加热装置在热平衡状态下硅片与各种部件之间的传热规律；建立了相应的热平衡热学模型，得到了硅片温度、电阻丝温度和加热总功率之间的关系．为... 本文根据传热学基本原理，研究了超高真空化学气相外延（ＵＨＶＣＶＤ）系统中，电阻丝辐射加热装置在热平衡状态下硅片与各种部件之间的传热规律；建立了相应的热平衡热学模型，得到了硅片温度、电阻丝温度和加热总功率之间的关系．为在ＵＨＶＣＶＤ系统中控制硅片温度提供了理论依据． 展开更多
关键词 辐射传热 热平衡 硅 uhvcd
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