电弧离子镀制备TiSiN纳米复合涂层 被引量：14

1

作者 田灿鑫 周小东 +2 位作者 周思华 杨兵 付德君 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期15-19,37,共6页

目的在SiH4气氛下制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,为SiH4用于工业化TiSiN涂层生产提供依据。方法采用电弧离子镀技术,在SiH4气氛下,于单晶硅和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,研究SiH4流量对TiSiN涂层化学组分、微观结构... 目的在SiH4气氛下制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,为SiH4用于工业化TiSiN涂层生产提供依据。方法采用电弧离子镀技术,在SiH4气氛下,于单晶硅和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,研究SiH4流量对TiSiN涂层化学组分、微观结构、硬度和耐磨性能的影响。结果 SiH4流量对TiSiN纳米复合涂层的微观结构、硬度及摩擦系数的影响明显。随着SiH4流量的增加,TiSiN涂层由柱状晶生长的晶体结构逐渐转变为纳米晶镶嵌于非晶基体的复合结构。Si在涂层中以Si3N4非晶相存在,随着涂层中Si含量逐渐增加,TiN晶粒尺寸逐渐减小,Si3N4起到细化晶粒的作用。在42 m L/min的SiH4流量下,涂层硬度高达4100HV0.025。在对磨材料为硬质合金的条件下,TiSiN涂层摩擦系数小于0.6。结论 SiH4气氛下可以制备出Ti N纳米晶镶嵌于Si3N4非晶相结构的TiSiN纳米复合涂层,涂层的显微硬度较高。SiH4可以作为Si源用于TiSiN纳米复合涂层的工业化生产。 展开更多

关键词 电弧离子镀 tisin纳米复合涂层 SiH4流量 力学性能 硬度 摩擦系数

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N_2流量对HIPIMS制备TiSiN涂层结构和力学性能的影响 被引量：21

2

作者 王振玉 徐胜 +3 位作者 张栋 刘新才 柯培玲 汪爱英 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期540-546,共7页

采用高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术在N2流量为10～50mL／min下沉积TiSiN涂层，利用台阶仪，XRD，XPS，SPM，SEM，HRTEM和纳米压痕仪对涂层的沉积速率、相结构、成分、形貌和力学性能进行了分析，并研究了不同N2流量对等离子体放电... 采用高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术在N2流量为10～50mL／min下沉积TiSiN涂层，利用台阶仪，XRD，XPS，SPM，SEM，HRTEM和纳米压痕仪对涂层的沉积速率、相结构、成分、形貌和力学性能进行了分析，并研究了不同N2流量对等离子体放电特性的影响．结果表明，在不同N2流量下，TiSiN涂层均具有非晶Si，N。包裹纳米晶TiN复合结构，涂层表面粗糙度尼为0．9～1．7NM;随N2流量的增加，等离子体的放电程度减弱，离化率降低，TiSiN涂层沉积速率降低，其Ti含量逐渐降低．Si含量逐渐增加，但变化幅度较小；涂层择优取向随N：流量的增加发生改变，晶粒尺寸逐渐增大，硬度和弹性模量逐渐降低，涂层硬度最高为（35．25±0．74）GPa． 展开更多

关键词 高功率脉冲磁控溅射 tisin涂层 放电特性 复合结构 力学性能

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TiSiN纳米复合结构涂层的研究进展 被引量：9

3

作者 赵永生 李伟 +4 位作者 刘平 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期6-10,38,共6页

简要介绍了TiSiN纳米复合涂层的晶体结构,主要从涂层的性能、制备方法、硅含量以及其它元素掺杂的影响等方面综述了TiSiN纳米复合涂层的研究进展,最后对其存在的主要问题和今后的发展方向进行了总结和展望。

关键词 tisin涂层 纳米复合结构 制备工艺 研究进展

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电弧离子镀TiSiN薄膜的结构及摩擦性能 被引量：5

4

作者 谢婷婷 王向红 +2 位作者 吴百中 高斌 郎文昌 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期51-54,8-9,共4页

为实现电弧离子镀TiSiN薄膜成分可控,通过改变靶的相对电流在304不锈钢表面沉积TiSiN薄膜,采用厚度仪、能谱仪、扫描电镜、X射线衍射仪及摩擦试验研究了其形貌、结构及摩擦性能。结果表明:TiSiN薄膜中Si以非晶态Si3N4形式存在,抑制了面... 为实现电弧离子镀TiSiN薄膜成分可控,通过改变靶的相对电流在304不锈钢表面沉积TiSiN薄膜,采用厚度仪、能谱仪、扫描电镜、X射线衍射仪及摩擦试验研究了其形貌、结构及摩擦性能。结果表明:TiSiN薄膜中Si以非晶态Si3N4形式存在,抑制了面心立方结构的Ti N晶粒生长,形成纳米晶Ti N/非晶Si3N4(nc-Ti N/α-Si3N4)纳米复合结构;与Ti N薄膜相比,TiSiN薄膜具有更平整的表面,Si含量为4.08%(原子分数)时薄膜表面最光滑平整;Ti N薄膜的硬度为2 312 HK左右,掺杂Si元素后,由于细晶强化作用,薄膜的硬度显著提高,Si含量为2.76%(原子分数)时达到最大值,约为3 315 HK;进一步增加Si含量,TiSiN薄膜硬度略有下降;TiSiN薄膜的摩擦系数明显低于Ti N薄膜,且随着Si含量增加,摩擦系数逐渐变小,在Si含量为2.76%和4.08%(原子分数)时低至0.4左右。 展开更多

关键词 tisin薄膜 电弧离子镀 结构 硬度 摩擦系数

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ZrN/TiSiN纳米多层膜的微观结构和力学性能研究 被引量：3

5

作者 郑伟 李伟 +5 位作者 孟佳 刘平 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期1038-1042,共5页

采用反应磁控溅射的方法,利用Zr靶与TiSi复合靶成功制备了不同TiSiN层厚度的ZrN/TiSiN纳米多层膜。利用X射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕仪研究了不同TiSiN层厚度对ZrN/TiSiN纳米多层膜的... 采用反应磁控溅射的方法,利用Zr靶与TiSi复合靶成功制备了不同TiSiN层厚度的ZrN/TiSiN纳米多层膜。利用X射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕仪研究了不同TiSiN层厚度对ZrN/TiSiN纳米多层膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明,ZrN/TiSiN纳米多层膜主要由面心立方的ZrN相组成,随着TiSiN层厚度的增加,纳米多层膜的结晶程度先增加后降低,其硬度和弹性模量也先升高后降低。当TiSiN层厚度为0.7nm时,纳米多层膜具有最高的硬度和弹性模量,分别为28.7和301.1GPa,远超过ZrN单层膜。ZrN/TiSiN纳米多层膜的强化效果可由交变应力场和模量差理论进行解释。 展开更多

关键词 ZrN/tisin纳米多层膜 微观结构 力学性能 共格外延生长

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Si对TiSiN膜组成结构的影响 被引量：4

6

作者 石玉龙 彭红瑞 李世直 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期66-67,共2页

报告了等离子化学气相沉积（PCVD）硬膜TiSiN中Si对膜的影响。沉积膜经过电子探针（EMPA）、扫描电镜（SEM）、X射线（XRD）和X光电子谱（XPS）分析。实验表明，在TiN的气相沉积中加入少量Si可以明显改善膜的结构和组成。

关键词 PCVD tisin膜 显微分析 硅 结构 组成

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黄花乌头茎叶中一个新的Hetisine型生物碱 被引量：8

7

作者 汤庆发 杨春华 +5 位作者 刘静涵 叶文才 赵守训 吕扬 冒莉 郑启泰 《药学学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期640-643,共4页

目的研究黄花乌头茎叶的化学成分。方法采用现代色谱方法进行化学成分分离,并通过各种波谱学分析鉴定化合物的结构。结果从黄花乌头茎叶中分离得到2个化合物,分别鉴定为13-dehydro-1β-acety1-2α,6β-dihydroxyhetisine(Ⅰ)和关附庚素(... 目的研究黄花乌头茎叶的化学成分。方法采用现代色谱方法进行化学成分分离,并通过各种波谱学分析鉴定化合物的结构。结果从黄花乌头茎叶中分离得到2个化合物,分别鉴定为13-dehydro-1β-acety1-2α,6β-dihydroxyhetisine(Ⅰ)和关附庚素(Ⅱ)。结论Ⅰ为新化合物。 展开更多

关键词 黄花乌头 Hetisine型生物碱 关附午素

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等离子体增强的磁控溅射TiSiN薄膜结构与耐蚀性 被引量：5

8

作者 刘瑞霞 朱福栋 由国艳 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2021年第2期11-15,共5页

针对磁控溅射固有磁场强度随时间衰减的问题,采用外加磁场增强真空室内等离子密度的方法,在AZ31基体上反应溅射沉积了厚度约2μm的TiSiN薄膜。应用XRD、SEM研究了等离子体增强的磁控溅射方法所制备薄膜的物相组成、结构、表面形貌,利用... 针对磁控溅射固有磁场强度随时间衰减的问题,采用外加磁场增强真空室内等离子密度的方法,在AZ31基体上反应溅射沉积了厚度约2μm的TiSiN薄膜。应用XRD、SEM研究了等离子体增强的磁控溅射方法所制备薄膜的物相组成、结构、表面形貌,利用电化学工作站研究了等离子体增强的磁控溅射薄膜在3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为,并与未增强等离子体制备的薄膜做了对比。结果表明:等离子体增强后,薄膜的择优取向发生改变,薄膜致密度更高,薄膜表面粗糙度、缺陷以及晶粒尺寸有所减小,且薄膜在NaCl溶液中的抗腐蚀能力更好,等离子体增强技术对于提高薄膜质量和性能效果显著。 展开更多

关键词 等离子体 磁控溅射 tisin薄膜 腐蚀行为

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氮气气压对多弧离子镀TiSiN涂层显微结构与腐蚀行为的影响 被引量：2

9

作者 陈浩 万强 +5 位作者 刘念 蔡耀 刘琰 吴忠烨 陈燕鸣 杨兵 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期29-34,38,共7页

为了研究氮气气压对Ti Si N涂层显微结构与腐蚀行为的影响,采用自制多弧离子镀设备,在抛光的单晶(100)硅片与不锈钢基底上沉积Ti Si N涂层,沉积气压0.5~2.5 Pa,利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM... 为了研究氮气气压对Ti Si N涂层显微结构与腐蚀行为的影响,采用自制多弧离子镀设备,在抛光的单晶(100)硅片与不锈钢基底上沉积Ti Si N涂层,沉积气压0.5~2.5 Pa,利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)与电化学阻抗谱(EIS)表征涂层显微结构与电化学性能。结果表明:沉积的Ti Si N涂层为纳米晶-非晶复合结构,其中纳米Ti N晶体被非晶的Si3N4包围。当氮气气压从0.5 Pa升高到2.5 Pa之后,Ti Si N涂层晶粒尺寸由19.5 nm减小到8.0 nm。电化学阻抗随着氮气气压升高先增大后逐渐下降,沉积气压为1.0 Pa时,涂层抗腐蚀性能最强。 展开更多

关键词 tisin涂层 多弧离子镀 氮气气压 显微结构 抗腐蚀

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TiN/TiSiN复合涂层的耐磨性能研究 被引量：10

10

作者 谢春雨 何畏 徐彤 《石油矿场机械》 2008年第2期8-11,共4页

根据Archard磨损理论推导牙轮钻头滑动轴承摩擦计算公式,在CVD装置中生成滑动轴承摩擦面上的TiN/TiSiN复合涂层,并通过万能摩擦磨损试验机进行试件试验。试验结果表明,TiN/TiSiN复合涂层可以有效提高牙轮钻头滑动轴承耐磨性,延长其使用... 根据Archard磨损理论推导牙轮钻头滑动轴承摩擦计算公式,在CVD装置中生成滑动轴承摩擦面上的TiN/TiSiN复合涂层,并通过万能摩擦磨损试验机进行试件试验。试验结果表明,TiN/TiSiN复合涂层可以有效提高牙轮钻头滑动轴承耐磨性,延长其使用寿命。 展开更多

关键词 TiN/tisin复合涂层 滑动轴承 CVD 磨损

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PCVD直流脉冲频率对TiN/TiSiN复合涂层结构与性能的影响 被引量：1

11

作者 宋之敏 曾天 +3 位作者 高见 李洪林 宿福利 李祝 《工具技术》 2012年第12期13-17,共5页

为了探讨频率对硬质合金基体上TiN/TiSiN复合涂层组织结构及性能的影响,选择了几个不同频率来制备TiN/TiSiN复合涂层。研究结果表明:不同频率制备TiN/TiSiN复合涂层的表面形貌都呈圆盘状颗粒,频率在30kHz-70kHz变化时,复合涂层颗粒尺寸... 为了探讨频率对硬质合金基体上TiN/TiSiN复合涂层组织结构及性能的影响,选择了几个不同频率来制备TiN/TiSiN复合涂层。研究结果表明:不同频率制备TiN/TiSiN复合涂层的表面形貌都呈圆盘状颗粒,频率在30kHz-70kHz变化时,复合涂层颗粒尺寸随频率的增加而增大,均匀性随频率的增加而变差;复合涂层频率在30kHz-70kHz变化时,TiN始终在(200)方向上择优取向;硬质合金基体上,TiN/TiSiN复合涂层比单一TiN涂层的硬度提高更大,从1973 HV0.05增加到3417 HV0.05;30kHz时TiN/TiSiN复合涂层的硬度、涂层结合力和耐磨性能明显优于其他两种TiN/TiSiN复合涂层。故在硬质合金基体上,30kHz制备的TiN/TiSiN复合涂层工艺最佳。 展开更多

关键词 TIN tisin涂层 脉冲频率 微观结构 性能

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电弧离子镀制备TiN/TiSiN多层涂层及其性能研究 被引量：2

12

作者 刘怡飞 宋启萌 +1 位作者 李助军 田灿鑫 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期116-122,共7页

为提高单一TiN涂层的性能,采用AS600DMTXBE型阳极层离子源辅助电弧离子镀系统制备TiN层和TiSiN层厚度比分别为1∶2、2∶2、3∶1的TiN/TiSiN多层涂层。研究不同厚度比的TiN/TiSiN多层涂层的形貌、结构以及性能,并与TiN涂层性能进行比较... 为提高单一TiN涂层的性能,采用AS600DMTXBE型阳极层离子源辅助电弧离子镀系统制备TiN层和TiSiN层厚度比分别为1∶2、2∶2、3∶1的TiN/TiSiN多层涂层。研究不同厚度比的TiN/TiSiN多层涂层的形貌、结构以及性能,并与TiN涂层性能进行比较。结果表明:TiN/TiSiN多层涂层为TiN面心立方结构,其中厚度比为2∶2的TiN/TiSiN多层涂层的TiN(111)衍射峰较强;厚度比为1∶2的TiN/TiSiN多层涂层摩擦因数最低,表明掺入Si的含量越大,涂层减摩性能越好;TiN/TiSiN多层涂层的减摩作用、硬度和结合强度都优于TiN涂层,且厚度比为2∶2的TiN/TiSiN多层涂层的硬度和结合强度均最大;厚度比为2∶2的TiN/TiSiN多层涂层的耐腐蚀性最高,表明Si元素的掺入能够提升涂层的耐腐蚀性能。 展开更多

关键词 电弧离子镀 TiN/tisin多层涂层 TIN涂层 硬度 摩擦学性能

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多弧离子镀制备TiSiN-Cu涂层的结构和摩擦学性能 被引量：4

13

作者 白雪冰 李金龙 +2 位作者 朱丽慧 王永欣 王立平 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期96-103,共8页

目的通过在TiSiN涂层中掺杂软金属Cu,提高TiSiN涂层的摩擦性能。方法采用多弧离子镀技术,在316L不锈钢基体上沉积TiSiN-Cu涂层。用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层的表面形貌,用X射线光电子能谱仪(XPS)和X射线衍射仪(XRD)来分析涂层的元素... 目的通过在TiSiN涂层中掺杂软金属Cu,提高TiSiN涂层的摩擦性能。方法采用多弧离子镀技术,在316L不锈钢基体上沉积TiSiN-Cu涂层。用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层的表面形貌,用X射线光电子能谱仪(XPS)和X射线衍射仪(XRD)来分析涂层的元素组成和相组成,通过纳米压痕硬度测试和摩擦磨损实验,表征不同Cu含量TiSiN-Cu涂层的力学性能和摩擦学性能。结果 Cu含量对TiSiN涂层的结构、硬度和摩擦性能有明显影响。Cu在涂层中主要以单质形式存在,由于与空气接触,涂层表面有少量的CuO。随着Cu含量的增加,TiN的晶粒尺寸先减小后增加,硬度先升高后降低。在Cu原子数分数为6.28%时,硬度达到最大值29.26 GPa。在干摩擦条件下,TiSiN-Cu涂层的磨损率在Cu原子数分数为12.93%时达到最低,为6.65×10-7 mm^3/(N·m)。在海水环境下,涂层的磨损率较大。结论软金属Cu作为固体润滑颗粒可以明显改善Ti Si N涂层的干摩擦性能,在海水条件下,摩擦与腐蚀的交互作用加速了涂层材料的损耗。 展开更多

关键词 tisin-Cu涂层 多弧离子镀 结构 润滑 海水 机械性能 摩擦磨损

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脉冲偏压占空比对TiSiN薄膜结构和性能的影响 被引量：1

14

作者 魏永强 顾艳阳 +1 位作者 赵重轻 蒋志强 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2022年第8期279-286,共8页

采用电弧离子镀方法,通过改变脉冲偏压占空比在M2高速钢和单晶硅片基体上沉积TiSiN薄膜,研究脉冲偏压占空比对TiSiN薄膜形貌结构、元素成分、相结构、纳米硬度和耐蚀性能的影响。脉冲偏压占空比为30%时,TiSiN薄膜表面的大颗粒数目达到... 采用电弧离子镀方法,通过改变脉冲偏压占空比在M2高速钢和单晶硅片基体上沉积TiSiN薄膜,研究脉冲偏压占空比对TiSiN薄膜形貌结构、元素成分、相结构、纳米硬度和耐蚀性能的影响。脉冲偏压占空比为30%时,TiSiN薄膜表面的大颗粒数目达到最大值832个,占空比为60%时,大颗粒数目减小到451个;脉冲偏压占空比从20%增加到50%,Si试样表面的膜层厚度从390.8 nm增加到2.339μm;占空比为30%时,Si在薄膜中的含量最高为13.88at%,(220)晶面为择优取向,晶粒尺寸达到最小值5.05 nm,硬度达到28.34 GPa,自腐蚀电流密度达到最小0.5306μA/cm^(2);占空比为40%时,(111)晶面为择优取向,Si的含量降低到最小值0.46at%;占空比为50%时,(111)晶面的晶粒尺寸达到13.22 nm,硬度达到最大值42.08 GPa,自腐蚀电位达到最高值-0.324 V(vs SCE)。40%以上的占空比可以减少大颗粒缺陷数量,降低TiSiN薄膜中的Si含量,改变TiSiN薄膜晶粒生长的择优取向,提高薄膜的硬度和耐蚀性能。 展开更多

关键词 电弧离子镀 tisin薄膜 占空比 纳米硬度 耐蚀性

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PCVD直流脉冲沉积温度对TiN/TiSiN复合涂层高温氧化性能的影响

15

作者 宋之敏 曾天 +5 位作者 韩纪梅 高见 李洪林 丁武成 刘岁林 郑淑萍 《工具技术》 2013年第12期17-20,共4页

采用工业用直流脉冲等离子体增强化学气相沉积(PCVD)法在硬质合金刀具材料上制备了TiN/TiSiN复合涂层。对比研究了TiN及不同温度制备的TiN/TiSiN复合涂层高温抗氧化性能。研究表明:含有非晶阻隔抗氧化结构Si3N x的TiN/TiSiN复合涂层高... 采用工业用直流脉冲等离子体增强化学气相沉积(PCVD)法在硬质合金刀具材料上制备了TiN/TiSiN复合涂层。对比研究了TiN及不同温度制备的TiN/TiSiN复合涂层高温抗氧化性能。研究表明:含有非晶阻隔抗氧化结构Si3N x的TiN/TiSiN复合涂层高温氧化性能远高于TiN涂层,TiN/TiSiN复合涂层提高到800℃,仍可避免出现较大面积氧化及脱落;PCVD直流脉冲沉积制备温度对涂层高温抗氧化能力有重要影响,550℃沉积制备的致密、均匀、颗粒小的复合涂层高温氧化性能最佳,600℃次之,500℃最差。 展开更多

关键词 TIN tisin涂层 高温氧化 微观结构 表面形貌

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Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响 被引量：6

16

作者 王建鹏 李伟 +4 位作者 刘平 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期739-744,共6页

采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶,用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响... 采用不同Si含量的TiSi复合靶和Cr靶,用射频磁控溅射工艺在Si基底片上沉积不同Si含量的CrN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对CrN/TiSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响。结果表明:随着Si含量的增加,CrN相的结晶程度先增加后降低,涂层的力学性能先提高后降低,当n(Si):n(Ti)=7:18时获得最高硬度为31.5GPa。HRTEM观测表明,在n(Si):n(Ti)=7:18时,TiSiN层在CrN层的模板作用下呈面心立方结构,并且与CrN层形成共格外延生长结构;当n(Si):n(Ti)=11:14时,TiSiN层总体呈非晶结构,与CrN层的共格外生长结构被破坏。硬度的升高主要与TiSiN与CrN形成共格外延生长结构有关。 展开更多

关键词 CRN tisin纳米多层膜 SI含量 显微结构 力学性能 外延生长

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AlN/TiSiN纳米多层膜的微观组织和力学性能研究 被引量：5

17

作者 陈朋灿 李伟 +6 位作者 卢建富 刘平 张柯 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期11080-11084,共5页

采用TiSi复合靶和Al靶,用射频磁控溅射工艺沉积不同TiSiN层厚度的AlN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了不同TiSiN层厚度对AlN/TiSiN纳米多层膜的微观组织... 采用TiSi复合靶和Al靶,用射频磁控溅射工艺沉积不同TiSiN层厚度的AlN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了不同TiSiN层厚度对AlN/TiSiN纳米多层膜的微观组织和力学性能的影响。结果表明,随着TiSiN层厚度的增加,AlN相的结晶程度先增加后降低,涂层的硬度先提高后降低,当TiSiN层厚度为0.5nm时具有最高的硬度和弹性模量。HRTEM观测可知,在TiSiN层厚度为0.5nm时,TiSiN层在AlN层的模板作用下呈密排六方结构,并与AlN层呈共格外延生长,薄膜的强化主要与共格外延生长结构有关。 展开更多

关键词 AlN/tisin纳米多层膜 微观结构 力学性能 共格外延生长

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TiN/TiSiN多层膜高温微动磨损特性 被引量：7

18

作者 罗杉正 张晓宇 +2 位作者 袁晓光 任平第 刘捍卫 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期81-85,共5页

采用高精度PLINT高温微动磨损试验机研究了690合金及其表面等离子体化学气相沉积(PCVD)制备TiN/TiSiN多层膜的高温微动磨损特性。结果表明,试验温度(25、200、300℃)下TiN/TiSiN多层膜XRD未检测出氧化物,TiN/TiSiN多层膜的硬度和临界载... 采用高精度PLINT高温微动磨损试验机研究了690合金及其表面等离子体化学气相沉积(PCVD)制备TiN/TiSiN多层膜的高温微动磨损特性。结果表明,试验温度(25、200、300℃)下TiN/TiSiN多层膜XRD未检测出氧化物,TiN/TiSiN多层膜的硬度和临界载荷分别为2318 HV0.05、57 N。690合金在200℃时的摩擦因数、磨损体积均高于室温和300℃下的值。TiN/TiSiN多层膜的摩擦因数在200℃时最大,在室温时最低;TiN/TiSiN多层膜磨损体积受温度影响较小。相同试验条件下,TiN/TiSiN多层膜摩擦因数和磨损体积均低于690合金,TiN/TiSiN多层膜能有效减低基材的微动损伤。室温时,690合金磨损机制为磨粒磨损和剥层;200℃时为磨粒磨损、剥层和氧化磨损;300℃时为磨粒磨损和氧化磨损。试验温度下,TiN/TiSiN多层膜的磨损机制均为剥层。 展开更多

关键词 微动磨损 690合金 TiN/tisin多层膜 等离子体化学气相沉积(PCVD)

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不同厚度二维VN插入层对TiSiN纳米复合膜微观结构和力学性能的影响 被引量：3

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作者 薛增辉 李伟 +4 位作者 刘平 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期1082-1086,共5页

采用TiSi复合靶与V靶,用射频磁控溅射工艺在TiSiN纳米复合膜中插入不同厚度的VN纳米层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了VN插入层厚度对TiSiN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明:当Ti... 采用TiSi复合靶与V靶,用射频磁控溅射工艺在TiSiN纳米复合膜中插入不同厚度的VN纳米层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了VN插入层厚度对TiSiN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明:当TiSiN纳米复合膜中插入VN纳米层厚度较小时,薄膜由纳米复合结构转变成纳米多层结构,薄膜硬度降低。继续增加VN层厚度,薄膜硬度随之升高,在VN沉积层厚为0.5 nm时薄膜出现连续贯穿多层纳米层、结晶度良好的柱状晶,TiSiN层与VN层呈共格外延生长的结构,薄膜硬度达到37.2 GPa。随着VN层厚的继续增加,薄膜的共格外延生长结构消失,硬度下降。 展开更多

关键词 tisin纳米复合膜 VN插入层 微观结构 力学性能

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