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低压等离子喷涂TaSi2/MoSi2涂层组织结构及性能研究 被引量:2
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作者 倪立勇 杨震晓 +3 位作者 马康智 文波 曲栋 杨杰 《热喷涂技术》 2020年第3期70-75,共6页
采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层。通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构。结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀致密,孔隙率为3.1%;涂层由TaSi2和MoSi2两相组成,喷涂过程中未... 采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层。通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构。结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀致密,孔隙率为3.1%;涂层由TaSi2和MoSi2两相组成,喷涂过程中未发生相结构转变;空气中1650℃氧化30min后,涂层表面生成致密和玻璃态SiO2保护膜,涂层具有良好的自愈合能力,表现出良好的高温抗氧化性能。 展开更多
关键词 tasi2/MoSi2涂层 低压等离子喷涂 高温抗氧化涂层
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高压下六方TaSi2晶体基于结构稳定性的电学输运性质(英文)
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作者 李晓阳 陆阳 晏浩 《高压物理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期26-32,共7页
作为一类稳定的低电阻及高温材料,二硅化钽(TaSi_2)被广泛应用于集成电路中。因此,其电学稳定性和结构稳定性同样重要。报导了高压下六方TaSi_2晶体基于结构稳定性的电学输运性质。通过同步辐射X射线衍射和拉曼光谱实验研究了TaSi_2晶... 作为一类稳定的低电阻及高温材料,二硅化钽(TaSi_2)被广泛应用于集成电路中。因此,其电学稳定性和结构稳定性同样重要。报导了高压下六方TaSi_2晶体基于结构稳定性的电学输运性质。通过同步辐射X射线衍射和拉曼光谱实验研究了TaSi_2晶体在压力高达20GPa时稳定的结晶学结构,并通过原位高压电阻测量发现,当压力增加到16.3GPa时,TaSi_2的电阻率趋于稳定在2μΩ·cm左右;进一步理论计算了压力下TaSi_2的电子结构,以进一步理解其金属性行为。 展开更多
关键词 二硅化钽 高压 晶体结构 电学输运性质
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碳/碳复合材料TaSi_2/SiC氧化保护涂层(英文) 被引量:5
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作者 史小红 曾燮榕 +2 位作者 李贺军 付前刚 邹继兆 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期403-406,共4页
为提高碳/碳复合材料在高温下的氧化防护性能,利用包埋技术在碳/碳复合材料表面制备了TaSi2/SiC复合涂层。通过XRD、SEM和EDS分析了涂层的晶相结构和形貌特征,在1773K的空气介质中对TaSi2/SiC涂层碳/碳复合材料进行等温氧化实验。结果表... 为提高碳/碳复合材料在高温下的氧化防护性能,利用包埋技术在碳/碳复合材料表面制备了TaSi2/SiC复合涂层。通过XRD、SEM和EDS分析了涂层的晶相结构和形貌特征,在1773K的空气介质中对TaSi2/SiC涂层碳/碳复合材料进行等温氧化实验。结果表明,复合涂层厚度为200μm,涂层中含有SiC,Si和TaSi2相,并且涂层中没有明显裂纹出现。EDS结果显示外层TaSi2相可有效地填充内层SiC涂层的空隙,使得内外两层涂层之间没有明显的界面,等温氧化实验曲线说明TaSi2/SiC复合涂层在1773K的空气介质中可有效保护碳/碳复合材料233h。 展开更多
关键词 碳/碳复合材料 涂层 tasi2 SIC
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C/C复合材料SiC-TaSi_2/MoSi_2抗氧化复合涂层研究 被引量:24
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作者 侯党社 李克智 +3 位作者 李贺军 付前刚 魏剑 和永岗 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期331-335,共5页
采用包埋技术在C/C复合材料表面制备SiC-TaSi_2/MoSi_2抗氧化复合涂层,通过恒温氧化实验以及X射线衍射(XRD)分析、扫描电镜(SEM)观察及能谱(EDS)分析,研究了包埋粉料中Ta,Mo含量对复合涂层微观结构和高温抗氧化性能的影响.结果表明,Ta,M... 采用包埋技术在C/C复合材料表面制备SiC-TaSi_2/MoSi_2抗氧化复合涂层,通过恒温氧化实验以及X射线衍射(XRD)分析、扫描电镜(SEM)观察及能谱(EDS)分析,研究了包埋粉料中Ta,Mo含量对复合涂层微观结构和高温抗氧化性能的影响.结果表明,Ta,Mo摩尔比为1:1时所制备的复合涂层具有相对较大的厚度和较为致密的结构,氧化过程中在该涂层表面形成致密和稳定的玻璃态SiO_2保护膜.在1500℃氧化326h和经过23次1500℃至室温间的急冷急热后,带有该涂层的C/C试样失重仅为0.97%,表明该涂层具有优异的抗氧化和抗热震性能. 展开更多
关键词 C/C复合材料 SiC-tasi2/MoSi2涂层 抗氧化 抗热震
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难熔金属硅化物TaSi_2的研究进展 被引量:2
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作者 崔春娟 张军 +1 位作者 刘林 傅恒志 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2010年第18期72-74,共3页
介绍了TaSi2及其复合材料的制备、性能及研究现状,并展望了TaSi2材料的研究及应用前景。
关键词 tasi2 复合材料 功能材料
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机械化学反应法制备纳米晶TaC和TaSi_2 被引量:6
6
作者 董远达 柳林 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1994年第6期543-545,共3页
采用XRD,TEM和SEM研究了用机械化学反应法制备金属间化合物TaC和TaSi2时的结构演变.结果表明:TaC和TaSi2是通过互扩散由元素直接反应合成的,高能球磨引入的高密度缺陷和纳米界面大大促进了这一反应过程.
关键词 机械化学反应 纳米晶 TAC tasi2
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Si-TaSi_2共晶自生复合场发射材料的定向凝固组织特征 被引量:3
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作者 崔春娟 张军 +3 位作者 苏海军 王红 刘林 傅恒志 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期1019-1023,共5页
采用电子束悬浮区熔装置(EBFZM)制备了Si-TaSi_2共晶自生复合场发射材料,系统地研究了Si-TaSi_+2共晶的定向凝固组织特征.当凝固速率在0.3~9.0mm/min范围内变化时,均可获得Si-TaSi_2共晶自生复合材料,具有高精确取向的TaSi_2纤维在硅... 采用电子束悬浮区熔装置(EBFZM)制备了Si-TaSi_2共晶自生复合场发射材料,系统地研究了Si-TaSi_+2共晶的定向凝固组织特征.当凝固速率在0.3~9.0mm/min范围内变化时,均可获得Si-TaSi_2共晶自生复合材料,具有高精确取向的TaSi_2纤维在硅连续基体中均匀分布.随着凝固速率的增大,TaSi_2纤维的直径和平均间距减小,面密度和体积分数增大.采用零功率法考察了不同凝固速率时的固-液界面形貌.当凝固速率由0.3mm/min变化到5.0mm/min时,固-液界面经历了平界面→浅胞状界面→胞状界面→平界面的演化过程. 展开更多
关键词 定向凝固 电子束悬浮区熔 Si-tasi2共晶自生复合材料 固-液界面
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基体温度与底层厚度对EB-PVD热障涂层性能的影响(英文) 被引量:2
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作者 武洪臣 苏林 雷新更 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第S2期148-150,共3页
采用EB-PVD工艺在高温合金基体上制备了不同基体预热温度、不同粘结层厚度的YSZ热障涂层。实验结果显示,对于MCrAlY类涂层,EB-PVD工艺存临界温度650~700℃,低于此温度粘结底层不易附着成形。对面层而言,沾水热冲击试验显示,较好的基体... 采用EB-PVD工艺在高温合金基体上制备了不同基体预热温度、不同粘结层厚度的YSZ热障涂层。实验结果显示,对于MCrAlY类涂层,EB-PVD工艺存临界温度650~700℃,低于此温度粘结底层不易附着成形。对面层而言,沾水热冲击试验显示,较好的基体温度在800~900℃范围。不同厚度粘结层的TBC抗氧化行为结果显示,在一定范围内,涂层抗高温氧化的寿命随底层厚度增加而增加。因此实际工作中,在其他条件允许的情况下,应可能使底层有足够的厚度。 展开更多
关键词 碳/碳复合材料 涂层 tasi2 SiC:电子束物理气相沉积 热障涂层 粘结层 失效
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引入TaSi_2对ZrB_2-20%SiC抗氧化性能的影响 被引量:2
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作者 吴坤 徐林 +2 位作者 杨文彬 张寅 张大海 《宇航材料工艺》 CSCD 北大核心 2017年第3期37-41,共5页
将TaSi_2引入到ZrB_2-20%SiC中得到ZrB_2-10%SiC-10%TaSi_2,并在1 000、1 200、1 500和1650℃有氧条件下分别氧化5、15和30 min。复合材料通过热压烧结法制备(1 950℃/30 MPa/30 min),并通过XRD及SEM等方法对氧化后的质量变化及微观结... 将TaSi_2引入到ZrB_2-20%SiC中得到ZrB_2-10%SiC-10%TaSi_2,并在1 000、1 200、1 500和1650℃有氧条件下分别氧化5、15和30 min。复合材料通过热压烧结法制备(1 950℃/30 MPa/30 min),并通过XRD及SEM等方法对氧化后的质量变化及微观结构进行了分析。结果表明,TaSi_2的引入提高了Zr B2-20%SiC的致密度和力学性能,但是在1 200℃以上温度氧化时,ZrB_2-10%SiC-10%TaSi_2的抗氧化性有所降低。 展开更多
关键词 tasi2 ZrB2-20%SiC 力学性能 抗氧化性能
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硅化钽/硅化钼基热防护涂层短时高温结构演化 被引量:2
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作者 李俊峰 罗正平 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期712-717,共6页
以硅化钽、硅化钼、硼硅玻璃粉为原料,1200℃短时烧结制备了耐高温热防护涂层。然后采用乙炔焰在1650℃烧蚀涂层2 min,自然冷却至室温。利用X射线衍射、扫描电子显微镜和X射线电子能谱研究了该耐高温热防护涂层在1650℃加热前后的涂层... 以硅化钽、硅化钼、硼硅玻璃粉为原料,1200℃短时烧结制备了耐高温热防护涂层。然后采用乙炔焰在1650℃烧蚀涂层2 min,自然冷却至室温。利用X射线衍射、扫描电子显微镜和X射线电子能谱研究了该耐高温热防护涂层在1650℃加热前后的涂层结构和组分变化。结果显示制备出的热防护涂层表面为Ta2O5和少量TaSi2。经过1650℃短时高温烧蚀后,涂层表面烧蚀中心区形成大量片状Ta2O5,该Ta2O5连成片。涂层截面形貌显示高温烧蚀后涂层接近表面部分发生致密化,厚度约23μm。涂层截面的元素面扫描分析显示截面上钽、钼元素分布均匀,即涂层具有良好的结构均匀性。 展开更多
关键词 硅化钽 硅化钼 热防护涂层 结构演化
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湿法腐蚀制备Si-TaSi_2场发射阴极阵列的工艺研究
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作者 周飞 张军 +2 位作者 苏海军 刘林 傅恒志 《铸造技术》 CAS 北大核心 2010年第5期571-574,共4页
阴极阵列形貌是影响场致发射材料发光性能的关键因素。以Czochralski(Cz)法制备的Si-TaSi2共晶复合材料为场发射阴极材料,采用湿法腐蚀制备Si基TaSi2尖锥型场发射阴极阵列。通过调整腐蚀液配比、腐蚀时间和腐蚀液温度,研究了不同腐蚀条... 阴极阵列形貌是影响场致发射材料发光性能的关键因素。以Czochralski(Cz)法制备的Si-TaSi2共晶复合材料为场发射阴极材料,采用湿法腐蚀制备Si基TaSi2尖锥型场发射阴极阵列。通过调整腐蚀液配比、腐蚀时间和腐蚀液温度,研究了不同腐蚀条件对Si基TaSi2尖锥形貌及阴极阵列制备的影响,获得了Si基TaSi2尖锥阴极阵列的最佳制备工艺,并对其场发射性能进行了测试。结果表明:在室温17℃,腐蚀液配比v(HF)∶v(HNO3)=1∶4,腐蚀时间15 min下得到了高长径比的TaSi2尖锥,阵列具有较好的场发射性能,开启场强为3.84 V/μm。 展开更多
关键词 湿法腐蚀 阴极阵列 场致发射性能 Si-tasi2共晶
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Mechanical Properties of the TaSi_2 Fibers by Nanoindentation
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作者 Chunjuan Cui Jun Zhang +1 位作者 Lin Liu Hengzhi Fu 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第1期65-68,共4页
The Si-TaSi2 eutectic in situ composite, which has highly-aligned and uniformly-distributed TaSi2 fibers in the Si matrix, can be obtained when the solidification rate changes from 0.3 to 9.0 mm/min. It is very intere... The Si-TaSi2 eutectic in situ composite, which has highly-aligned and uniformly-distributed TaSi2 fibers in the Si matrix, can be obtained when the solidification rate changes from 0.3 to 9.0 mm/min. It is very interesting that one or two TaSi2 fibers are curved when the solidification rate reaches 6.0 mm/min, although it is very brittle in general. The formation mechanism of the curved fiber is discussed and mechanical properties of the TaSi2 fibers are examined by nanoindentation. It is found that the hardness and the elastic modulus of the bended TaSi2 fiber are much higher than that of the straight TaSi2 fiber. Moreover, the reasons why the mechanical properties of the straight TaSi2 fiber are different from that of the curved TaSi2 fiber are discussed. This can be ascribed to internal stress which results from mismatch of the thermal expansion coefficients of the two phases and different crystallographic orientations. 展开更多
关键词 Si-tasi2 eutectic in situ composite Directional solidification Mechanical properties NANOINDENTATION
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TaSi_(2)改性ZrB_(2)/SiC复合粉末制备及涂层抗氧化性能研究 被引量:1
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作者 刘昌鹏 雷伟 +1 位作者 冉旭东 张菲玥 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期350-359,共10页
目的 提高ZrB_(2)/SiC涂层的致密性及抗氧化烧蚀能力。方法 设计向ZrB_(2)/SiC涂层中掺杂TaSi_(2),以提升ZrB_(2)/SiC涂层的致密度和抗氧化性能。首先通过喷雾造粒法制备了4种不同成分配比的复合团聚粉,然后采用大气等离子喷涂(APS)在C/... 目的 提高ZrB_(2)/SiC涂层的致密性及抗氧化烧蚀能力。方法 设计向ZrB_(2)/SiC涂层中掺杂TaSi_(2),以提升ZrB_(2)/SiC涂层的致密度和抗氧化性能。首先通过喷雾造粒法制备了4种不同成分配比的复合团聚粉,然后采用大气等离子喷涂(APS)在C/C基体表面制备了4种团聚粉复合涂层,最后使用氧-乙炔火焰法对所制备的涂层进行了烧蚀考核。结果 通过涂层致密度对比发现,随着TaSi_(2)的增加,涂层共晶区会有所增加,涂层致密度得到了明显改善。通过烧蚀考核发现,TaSi_(2)的加入能够增加SiO_(2)的含量,并产生热稳定性好的TaZr_(2.75)O_(8)。此外致密TaZr_(2.75)O_(8)的产生还能够有效改善涂层的抗氧化烧蚀性能。结论 最终得出的ZrB_(2)/SiC涂层硅化物掺杂改性方案为30%TaSi_(2)/42%ZrB_(2)/28%SiC(体积分数)大气等离子喷涂制备的抗氧化烧蚀涂层,其在1 600℃烧蚀5 min后的质量损失率为-1.70×10^(-4) g/s。 展开更多
关键词 C/C复合材料 ZrB_(2)/SiC TaSi_(2) 大气等离子喷涂 涂层致密度 抗氧化烧蚀
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脉冲激光烧蚀制备TaSi_2纳米颗粒 被引量:1
14
作者 黄立娟 王磊 +2 位作者 吴正龙 朱世伟 杜军 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1347-1351,共5页
利用脉冲激光烧蚀(PLA)技术烧蚀高纯TaSi2靶材,在高定向热解石墨(HOPG)基底上制备TaSi2纳米颗粒,用扫描电镜(SEM)分析纳米颗粒表面形貌,X射线光电子能谱(XPS)分析颗粒的化学组分和元素化学价态。SEM分析结果表明,PLA制备的TaSi2纳米颗... 利用脉冲激光烧蚀(PLA)技术烧蚀高纯TaSi2靶材,在高定向热解石墨(HOPG)基底上制备TaSi2纳米颗粒,用扫描电镜(SEM)分析纳米颗粒表面形貌,X射线光电子能谱(XPS)分析颗粒的化学组分和元素化学价态。SEM分析结果表明,PLA制备的TaSi2纳米颗粒平均尺寸为10 nm,面密度约1×1012cm-2;XPS分析表明HOPG基底上纳米颗粒表面的化学组分为Ta,Si,C,O元素,Ta和Si元素的存在方式主要是TaSi2,用积分面积灵敏度因子法计算Ta和Si原子比为1:2.2,接近TaSi2的化学计量比。进一步分析表明烧蚀过程中,部分Ta元素与C发生反应生成TaC,部分Si元素与C反应生成SiC;而O主要以化学吸附方式存在于样品表面。 展开更多
关键词 激光技术 纳米颗粒 tasi2 脉冲激光烧蚀 X射线光电子能谱
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