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退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响 被引量：8
1
作者 刘保剑 段微波 +4 位作者 李大琪 余德明 陈刚 王天洪 刘定权 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期172-178,共7页
介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、... 介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计及激光干涉仪等测试手段,系统研究了退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构、光学性能以及应力特性的影响.结果表明:Ta2O5/SiO2多层反射膜退火后,膜层结构保持稳定,膜层表面粗糙度得到有效改善;反射膜在500—600℃退火后,残余应力由压应力向张应力转变;采用合适的退火温度可以有效释放Ta2O5/SiO2薄膜的残余应力,使薄膜与基底构成的介质膜反射镜具有较好的面形精度.本文的实验结果对退火工艺在介质膜反射镜面形控制技术方面的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 光学薄膜 ta2o5/sio2多层反射膜 退火 应力特性
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Ta_(2)O_(5)/SiO_(2)催化乙醇乙醛制备1,3-丁二烯及其再生性能 被引量：1
2
作者 邵益 吕建刚 +1 位作者 朱志荣 杨为民 《化学反应工程与工艺》 CAS 2021年第2期147-152,共6页
采用浸渍法制备Ta_(2)O_(5)/SiO_(2)催化剂,研究SiO_(2)载体的孔径大小及负载量对催化乙醇乙醛合成1,3-丁二烯性能的影响,并对催化剂再生条件及再生性能进行研究。采用X射线衍射(XRD)、N2吸附-脱附、透射电镜(TEM)、热重分析(TG)等方法... 采用浸渍法制备Ta_(2)O_(5)/SiO_(2)催化剂,研究SiO_(2)载体的孔径大小及负载量对催化乙醇乙醛合成1,3-丁二烯性能的影响,并对催化剂再生条件及再生性能进行研究。采用X射线衍射(XRD)、N2吸附-脱附、透射电镜(TEM)、热重分析(TG)等方法对催化剂进行表征。结果表明:以B型硅胶为载体的2%Ta_(2)O_(5)/SiO_(2)-B催化剂性能最优,丁二烯选择性为80%,转化率为45%。使用后的催化剂经550℃再生会使负载的Ta_(2)O_(5)颗粒聚集长大,失活加快,而经500℃再生,虽然积炭无法全部烧除,使再生催化剂初始转化率降低,但Ta_(2)O_(5)颗粒没有发生聚集,与新鲜催化剂比无太大变化,且经多次再生稳定性较好。 展开更多
关键词 1 3-丁二烯 ta2o5/sio2 乙醇 乙醛 再生
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B_2O_3-P_2O_5-SiO_2系陶瓷的相组成和介电性能
3
作者 吴坚强 宁武成 +1 位作者 胡伯文 王群 《中国陶瓷》 CAS CSCD 2003年第3期29-31,共3页
讨论B2O3-P2O5-SiO2系低温共烧陶瓷的研究过程。该陶瓷用正交实验设计法安排试验,用单因素法设计陶瓷添加剂试验,用XRD分析其物相组成。从而获得了介电常数为4.1、介电损耗为5.0×10-4的低温共烧陶瓷。结果表明,该瓷料能满足1060℃... 讨论B2O3-P2O5-SiO2系低温共烧陶瓷的研究过程。该陶瓷用正交实验设计法安排试验,用单因素法设计陶瓷添加剂试验,用XRD分析其物相组成。从而获得了介电常数为4.1、介电损耗为5.0×10-4的低温共烧陶瓷。结果表明,该瓷料能满足1060℃共烧低介陶瓷的要求。 展开更多
关键词 介电性能 低温共烧陶瓷 B2o3-P2o5-sio2系
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光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能 被引量：7
4
作者 尚鹏 熊胜明 +1 位作者 李凌辉 田东 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期298-304,共7页
采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在40... 采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在400-700nm波段的光学常数。结果表明,理论分析值与实验测量值取得了很好的一致性,拟合出的单层Ta2O5薄膜折射率误差小于0.001,膜层厚度误差不超过1nm;双层Ta2O5/SiO2薄膜最大折射率误差小于0.004,最大厚度误差小于2.5nm。此外,还对400℃高温环境下双层Ta2O5/SiO2薄膜的微观结构、应力、表面形貌及光学性能变化进行了研究。 展开更多
关键词 薄膜 光学常数 透射光谱 ta2o5/sio2
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多脉冲激光作用下光学薄膜损伤的累积效应 被引量：11
5
作者 王涛 赵元安 +3 位作者 黄建兵 贺洪波 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期859-862,共4页
研究了高反射膜在多脉冲激光作用下损伤的累积效应·实验中使用1064nm调Q的Nd∶YAG激光器,脉宽是12ns,频率为10Hz·实验发现:高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应·通过对损伤阈值和损伤概率以... 研究了高反射膜在多脉冲激光作用下损伤的累积效应·实验中使用1064nm调Q的Nd∶YAG激光器,脉宽是12ns,频率为10Hz·实验发现:高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应·通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研究,并结合单脉冲辐照的结果,说明了存在于薄膜中微小的缺陷参与了多脉冲激光对薄膜的损伤过程,得到了制备IBS高反射膜的损伤阈值和照射次数的关系式,用Nomarski偏光显微镜观察了实验过程中样品的损伤形貌,发现是典型的缺陷损伤· 展开更多
关键词 ta2o5/sio2介质反射膜 累积效应 单脉冲 多脉冲 损伤阈值
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重复率激光作用下光学薄膜损伤的累积效应 被引量：11
6
作者 王涛 赵元安 +3 位作者 黄建兵 贺洪波 劭建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第B04期171-174,共4页
使用脉宽12 ns,频率10 Hz的1064 nm调Q Nd:YAG激光器,研究了高反射膜在重复率激光作用下的损伤的累积效应。实验发现,高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应。通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研... 使用脉宽12 ns,频率10 Hz的1064 nm调Q Nd:YAG激光器,研究了高反射膜在重复率激光作用下的损伤的累积效应。实验发现,高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应。通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研究,并结合单脉冲辐照的结果,说明了存在于薄膜中微小的缺陷参与了多脉冲激光对薄膜的损伤过程。可用预损伤机制解释实验结果。得到了关于IBS制备的高反射膜的损伤阈值和照射次数的关系式,并用实验结果进行验证,发现具有很好的一致性。实验过程中样品的损伤形貌通过Nomarski偏光显微镜进行了观察,发现是典型的缺陷损伤。 展开更多
关键词 ta2o5/sio2介质反射膜 累积效应 重复率 缺陷
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离子束溅射制备氧化物薄膜沉积速率调整方法 被引量：3
7
作者 刘华松 傅翾 +7 位作者 季一勤 张锋 陈德应 姜玉刚 刘丹丹 王利栓 冷健 庄克文 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第7期2192-2197,共6页
采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O... 采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜,并对三种薄膜的27个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度,继而获得沉积速率。实验结果表明:对Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率影响的工艺参数相同,影响权重从大到小依次为离子束流、离子束压、氧气流量和基板温度;对HfO2薄膜沉积速率影响的工艺参数按权重从大到小依次为离子束流、离子束压、基板温度和氧气流量。研究结果为调整HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率提供了依据。 展开更多
关键词 离子束溅射 HFo2薄膜 ta2o5薄膜 sio2薄膜 沉积速率
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丙酮离子传感器的制备
8
作者 李捷 童敏明 刘涛 《科技创新导报》 2010年第3期115-116,共2页
本文提出了一种丙酮离子传感器的制备方法。采用纳米结构的SiO2和Ta2O5制作出敏感膜,涂覆在MOSFET的金属栅极上从而得到氢离子敏场效应传感器,将丙酮溶液采用催化剂热解离法解离出氢离子之后,再用离子敏场效应传感器检测氢离子,从而间... 本文提出了一种丙酮离子传感器的制备方法。采用纳米结构的SiO2和Ta2O5制作出敏感膜,涂覆在MOSFET的金属栅极上从而得到氢离子敏场效应传感器,将丙酮溶液采用催化剂热解离法解离出氢离子之后,再用离子敏场效应传感器检测氢离子,从而间接的实现了丙酮的检测。 展开更多
关键词 丙酮 催化剂 热解离 氢离子敏场效应传感器 纳米 sio2 ta2o5
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