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Deposition of SiOx barrier films by O2/TMDSO RF-PECVD
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作者 周美丽 付亚波 +1 位作者 陈强 葛袁静 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1101-1104,共4页
This paper reports that the SiOx barrier films are deposited on polyethylene terephthalate substrate by plasmaenhanced chemical vapour deposition (PECVD) for the application of transparent barrier packaging. The var... This paper reports that the SiOx barrier films are deposited on polyethylene terephthalate substrate by plasmaenhanced chemical vapour deposition (PECVD) for the application of transparent barrier packaging. The variations of 02/Tetramethyldisiloxane (TMDSO) ratio and input power in radio frequency (RF) plasma are carried out to optimize barrier properties of the SiOx coated film. The properties of the coatings are characterized by Fourier transform infrared, water vapour transmission rate (WVTR), oxygen transmission rate (OTR), and atomic force microscopy analysers. It is found that the 02/TMDSO ratio exceeding 2:1 and the input power over 200 W yield SiOx films with low carbon contents which can be good to the barrier (WVTR and OTR) properties of the SiOx coatings. Also, the film properties not only depend on oxygen concentration of the inlet gas mixtures and input power, but also relate to the surface morphology of the coating. 展开更多
关键词 RF-PECVD tmdso SiOx films barrier property
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聚合单体对制备SiO_x高阻隔性薄膜性能的影响 被引量:4
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作者 周美丽 陈强 +1 位作者 岳蕾 葛袁静 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期37-39,共3页
论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验采用13.56MHz的射频等离子体装置,分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气... 论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验采用13.56MHz的射频等离子体装置,分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片、单晶硅片、PET、BOPP等包装基材上沉积硅氧阻隔膜。比较了不同单体在制备氧化硅阻隔膜时各种工艺参数影响。通过傅立叶红外谱仪(FTIR)分析,扫描电子显微镜(SEM)表征,研究沉积膜的化学组成和结合状态;采用透湿测试仪测试薄膜的透湿性能,研究工艺参数的变化、表面的结构变化、形貌改变等对薄膜的阻隔性能影响原因。 展开更多
关键词 PECVD 四甲基二硅氧烷(tmdso) 六甲基二硅氧烷(HMDSO) 高阻隔性薄膜
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单体对制备SiOx高阻隔包装薄膜的影响 被引量:1
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作者 周美丽 《包装世界》 2009年第3期14-15,共2页
本文论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片... 本文论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片、单晶硅片、PET、BOPP等包装基材上沉积硅氧阻隔膜。比较了不同单体在制备氧化硅阻隔膜时各种工艺参数对薄膜的阻隔性能影响。 展开更多
关键词 四甲基二硅氧烷(tmdso) 六甲基二硅氧烷(HMDSO) 高阻隔性薄膜 低温等离子体
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3种植物源农药对苹果绣线菊蚜的药效及四硅氧烷增效作用评价 被引量:6
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作者 庞晓燕 马德英 +1 位作者 段玉林 蔡超 《新疆农业大学学报》 CAS 北大核心 2015年第4期311-315,共5页
使用浸渍法测定了3种植物源农药对苹果绣线菊蚜的室内毒力,通过常量喷雾法比较了3种植物源农药对绣线菊蚜的田间药效,在室内及田间评价了四硅氧烷对3种植物源农药的增效作用.结果表明,4.5%槐属(Sophora Linn.)植物提取物水乳剂,4.5%... 使用浸渍法测定了3种植物源农药对苹果绣线菊蚜的室内毒力,通过常量喷雾法比较了3种植物源农药对绣线菊蚜的田间药效,在室内及田间评价了四硅氧烷对3种植物源农药的增效作用.结果表明,4.5%槐属(Sophora Linn.)植物提取物水乳剂,4.5%天仙子属(Hyoscyamus L.)植物提取物水乳剂和4.5%葎草属(HumulusLinn.)植物提取物水乳剂对苹果绣线菊蚜室内毒力LC50分别为0.034,0.233,0.263mg/kg.与对照药剂70%吡虫啉水分散粒剂无显著性差异.四硅氧烷对4.5%槐属植物提取物水乳剂增效作用达极显著差异水平,增效倍数为34.0倍.田间药效试验显示,4.5% 天仙子属植物提取物水乳剂对苹果绣线菊蚜的防效最高,37.35,75.00,150.00mg/kg单剂处理对苹果绣线菊蚜的最高防效分别为57.92%,67.97%,71.79%;增效剂处理较单剂处理差异达显著水平,施药后第5天至第14天,防效在78.96%~83.63%. 展开更多
关键词 植物源水乳剂 苹果绣线菊蚜 药效 增效作用 四硅氧烷
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