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Modeling operation amplifier based on VHDL-AMS for TID effect
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作者 Jin-hui Liu Quan Wang +2 位作者 Ying Zhang Gang Liu Bo Wan 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2016年第2期64-72,共9页
A model of the operational amplifier based on VHDL-AMS is proposed. According to needs of simulating the total ionizing dose(TID) radiation effect, parameters of operational amplifier are taken into account when the p... A model of the operational amplifier based on VHDL-AMS is proposed. According to needs of simulating the total ionizing dose(TID) radiation effect, parameters of operational amplifier are taken into account when the performance is specified. The operational amplifier model used for the TID radiation effect simulation is completed after verifying each modeled parameter. And a parameter for describing the external environment is introduced to make the model combined with TID. Finally, an example is used to illustrate the TID effect on the operational amplifier of MC14573, proving the validity of the model. 展开更多
关键词 VHDL-AMS 运算放大器 总剂量效应 操作 建模 辐射效应 电离总剂量 tid
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Radiation-hardened property of single-walled carbon nanotube film-based field-effect transistors under low-energy proton irradiation 被引量:3
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作者 Xiaorui Zhang Huiping Zhu +12 位作者 Song’ang Peng Guodong Xiong Chaoyi Zhu Xinnan Huang Shurui Cao Junjun Zhang Yunpeng Yan Yao Yao Dayong Zhang Jingyuan Shi Lei Wang Bo Li Zhi Jin 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2021年第11期18-25,共8页
Strong C-C bonds,nanoscale cross-section and low atomic number make single-walled carbon nanotubes(SWCNTs)a potential candidate material for integrated circuits(ICs)applied in outer space.However,very little work comb... Strong C-C bonds,nanoscale cross-section and low atomic number make single-walled carbon nanotubes(SWCNTs)a potential candidate material for integrated circuits(ICs)applied in outer space.However,very little work combines the simulation calculations with the electrical measurements of SWCNT field-effect transistors(FETs),which limits further understanding on the mechanisms of radiation effects.Here,SWCNT film-based FETs were fabricated to explore the total ionizing dose(TID)and displacement damage effect on the electrical performance under low-energy proton irradiation with different fluences up to 1×1015 p/cm2.Large negative shift of the threshold voltage and obvious decrease of the on-state current verified the TID effect caused in the oxide layer.The stability of the subthreshold swing and the off-state current reveals that the displacement damage caused in the CNT layer is not serious,which proves that the CNT film is radiation-hardened.Specially,according to the simulation,we found the displacement damage caused by protons is different in the source/drain contact area and channel area,leading to varying degrees of change for the contact resistance and sheet resistance.Having analyzed the simulation results and electrical measurements,we explained the low-energy proton irradiation mechanism of the CNT FETs,which is essential for the construction of radiation-hardened CNT film-based ICs for aircrafts. 展开更多
关键词 SWCNT FETs low-energy proton irradiation radiation effects electrical performance tid effect displacement damage effect simulation
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The effect ofγ-ray irradiation on the SOT magnetic films and Hall devices
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作者 Tengzhi Yang Yan Cui +6 位作者 Yanru Li Meiyin Yang Jing Xu Huiming He Shiyu Wang Jing Zhang Jun Luo 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2021年第2期108-112,共5页
Magnetoresistive random access memories(MRAMs)have drawn the attention of radiation researchers due to their potential high radiation tolerance.In particular,spin-orbit torque MRAM(SOT-MRAM)has the best performance on... Magnetoresistive random access memories(MRAMs)have drawn the attention of radiation researchers due to their potential high radiation tolerance.In particular,spin-orbit torque MRAM(SOT-MRAM)has the best performance on endurance and access speed,which is considered to be one of the candidates to replace SRAM for space application.However,little attention has been given to theγ-ray irradiation effect on the SOT-MRAM device yet.Here,we report the Co-60 irradiation results for both SOT(spin-orbit torque)magnetic films and SOT-Hall devices with the same stacks.The properties of magnetic films are not affected by radiation even with an accumulated dose up to 300 krad(Si)while the magnetoelectronic properties of SOTHall devices exhibit a reversible change behavior during the radiation.We propose a non-equilibrium anomalous Hall effect model to understand the phenomenon.Achieved results and proposed analysis in this work can be used for the material and structure design of memory cell in radiation-hardened SOT-MRAM. 展开更多
关键词 SOT-MRAM γ-ray irradiation tid effect anomalous Hall effect
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基于ANP法的TIDS作战效能评估 被引量:2
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作者 王稳平 张伟华 +1 位作者 孙鹏 张磊 《计算机工程与设计》 CSCD 北大核心 2012年第11期4176-4181,共6页
战术信息分发系统(tactical information distribution system,TIDS)是指挥信息系统的重要组成部分。针对层次分析法(the analytic hierarchy process,AHP)进行系统作战效能评估的缺陷,在充分考虑TIDS作战效能评估特殊性的基础上,研究... 战术信息分发系统(tactical information distribution system,TIDS)是指挥信息系统的重要组成部分。针对层次分析法(the analytic hierarchy process,AHP)进行系统作战效能评估的缺陷,在充分考虑TIDS作战效能评估特殊性的基础上,研究了基于网络分析法(the analytic network process,ANP)的TIDS作战效能评估框架,给出了影响系统作战效能的主要指标集,分析了各指标间的影响关系,建立了系统作战效能评估的ANP模型,提出了基于ANP法的TIDS作战效能评估思路,并通过实例进行了模型的验证,为基于使命的TIDS作战效能评估提供了理论参考。 展开更多
关键词 ANP 战术信息分发系统(tidS) 作战效能 指标权重 评估
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存储单元抗TID/SEL电路加固技术面积代价研究
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作者 王文 桑红石 沈绪榜 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2014年第6期25-29,共5页
在太空辐射环境中,总剂量辐射(Total Ionizing Dose,TID)效应和单粒子闩锁(Single Event Latch,SEL)效应严重影响存储器的可靠性.由此讨论了存储单元TID效应和SEL效应的原理,探讨了基于电路的加固技术(RHBD),设计了4种新的抗TID/SEL存... 在太空辐射环境中,总剂量辐射(Total Ionizing Dose,TID)效应和单粒子闩锁(Single Event Latch,SEL)效应严重影响存储器的可靠性.由此讨论了存储单元TID效应和SEL效应的原理,探讨了基于电路的加固技术(RHBD),设计了4种新的抗TID/SEL存储单元加固方案,并和现有几种方案进行对比,研究了这些加固方案的面积代价.研究结果表明,抗TID/SEL RHBD方案普遍会使存储单元的版图面积增加87.5%以上.提出了一种加固方案,可以在加固性能和面积代价上得到较好的折衷. 展开更多
关键词 总剂量效应(tid) 单粒子闩锁(SEL) 辐射加固设计 面积代价
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基于射线追踪的TID期间电离层高阶效应及多普勒效应仿真 被引量:1
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作者 王康宁 付海洋 《电波科学学报》 CSCD 北大核心 2022年第6期1032-1038,共7页
电离层行进式扰动(traveling ionospheric disturbance,TID)是一种常见的电离层扰动形式,对电磁波(如卫星导航)信号的传播过程有着重要影响.为研究TID对卫星导航信号传播效应,本文基于三维射线追踪方法对导航信号在空间电离层磁等离子... 电离层行进式扰动(traveling ionospheric disturbance,TID)是一种常见的电离层扰动形式,对电磁波(如卫星导航)信号的传播过程有着重要影响.为研究TID对卫星导航信号传播效应,本文基于三维射线追踪方法对导航信号在空间电离层磁等离子体的传播进行仿真,重点研究TID情况下电离层二阶效应和多普勒效应.首先,通过在NeQuick电离层模型上添加电离层扰动建立TID仿真生成模型,该模型能够模拟多种尺度的TID结构;其次,基于我国南北方两个虚拟站点,仿真模拟得到导航信号在TID发生时的传播特性;然后,计算得到不同仰角和方位角时卫星导航信号的电离层二阶效应和多普勒效应等参数;最后,分析TID参数对电离层二阶效应和多普勒效应的影响.仿真结果表明,在本文仿真参数下电离层二阶和多普勒效应在低射线仰角情况下更明显,TID多普勒效应和TID周期相关性明显. 展开更多
关键词 电离层高阶效应 电离层行进式扰动(tid) 卫星导航信号 射线追踪 多普勒频移
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Enhanced radiation-induced narrow channel effects in 0.13-μm PDSOI nMOSFETs with shallow trench isolation 被引量:2
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作者 张梦映 胡志远 +2 位作者 毕大炜 戴丽华 张正选 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第2期619-624,共6页
Total ionizing dose responses of different transistor geometries after being irradiated by ^(60)Co γ-rays, in 0.13-μm partially-depleted silicon-on-insulator(PD SOI) technology are investigated. The negative thr... Total ionizing dose responses of different transistor geometries after being irradiated by ^(60)Co γ-rays, in 0.13-μm partially-depleted silicon-on-insulator(PD SOI) technology are investigated. The negative threshold voltage shift in an n-type metal-oxide semiconductor field effect transistor(nMOSFET) is inversely proportional to the channel width due to radiation-induced charges trapped in trench oxide, which is called the radiation-induced narrow channel effect(RINCE).The analysis based on a charge sharing model and three-dimensional technology computer aided design(TCAD) simulations demonstrate that phenomenon. The radiation-induced leakage currents under different drain biases are also discussed in detail. 展开更多
关键词 partiallydepleted silicon-on-insulator(PD SOI) totalionizingdose(tid radiationinduced narrow channel effect(RINCE) drain induced barrier lowering(DIBL) effect
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14 nm体硅FinFET工艺标准单元的总剂量效应 被引量:1
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作者 李海松 王斌 +3 位作者 杨博 蒋轶虎 高利军 杨靓 《半导体技术》 北大核心 2025年第6期619-624,647,共7页
随着鳍式场效应晶体管(FinFET)在高辐射环境中的广泛应用,其在总剂量(TID)效应下的可靠性成为研究重点。基于14 nm体硅互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺FinFET标准单元,设计了一款TID效应实验验证电路。利用^(60)Co产生的γ射线研究了该... 随着鳍式场效应晶体管(FinFET)在高辐射环境中的广泛应用,其在总剂量(TID)效应下的可靠性成为研究重点。基于14 nm体硅互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺FinFET标准单元,设计了一款TID效应实验验证电路。利用^(60)Co产生的γ射线研究了该验证电路的静态电流以及环振电路的环振频率和触发器电路的时序特性随辐照总剂量变化的情况,表征了FinFET工艺的本征抗辐射能力。实验结果表明,当辐照总剂量达到1000 krad(Si)时,验证电路静态电流增大了121%,且整个过程基本呈线性趋势增长,增长斜率约为3.14μA/krad(Si);组合逻辑单元时序参数变化绝对值小于0.6%,时序逻辑单元CK到输出端的延迟时间变化绝对值小于1%。这主要归因于TID效应对FinFET的阈值电压和饱和电流影响较小,而对器件的亚阈值漏电流影响较大。该研究结果为先进工艺超大规模集成电路在空间辐射环境中的应用提供了一定的理论指导。 展开更多
关键词 14 nm 鳍式场效应晶体管(FinFET)工艺 组合逻辑 时序逻辑 总剂量(tid)效应 标准单元
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Influence of characteristics' measurement sequence on total ionizing dose effect in PDSOI nMOSFET
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作者 Xin Xie Da-Wei Bi +4 位作者 Zhi-Yuan Hu Hui-Long Zhu Meng-Ying Zhang Zheng-Xuan Zhang Shi-Chang Zou 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第12期551-558,共8页
The influence of characteristics’ measurement sequence on total ionizing dose effect in partially-depleted SOI nMOSFET is comprehensively studied. We find that measuring the front-gate curves has no influence on tota... The influence of characteristics’ measurement sequence on total ionizing dose effect in partially-depleted SOI nMOSFET is comprehensively studied. We find that measuring the front-gate curves has no influence on total ionizing dose effect.However, the back-gate curves’ measurement has a great influence on total ionizing dose effect due to high electric field in the buried oxide during measuring. In this paper, we analyze their mechanisms and we find that there are three kinds of electrons tunneling mechanisms at the bottom corner of the shallow trench isolation and in the buried oxide during the backgate curves’ measurement, which are: Fowler–Nordheim tunneling, trap-assisted tunneling, and charge-assisted tunneling.The tunneling electrons neutralize the radiation-induced positive trapped charges, which weakens the total ionizing dose effect. As the total ionizing dose level increases, the charge-assisted tunneling is enhanced by the radiation-induced positive trapped charges. Hence, the influence of the back-gate curves’ measurement is enhanced as the total ionizing dose level increases. Different irradiation biases are compared with each other. An appropriate measurement sequence and voltage bias are proposed to eliminate the influence of measurement. 展开更多
关键词 total ionizing dose(tid) silicon-on-insulator(SOI) measurement sequence tunneling effect
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基于SDG MOS表面电势理论的PNP BJT过基极电流改进模型研究
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作者 刘帅 曹菲 +2 位作者 王祖军 邢嘉彬 秦建强 《电子元件与材料》 北大核心 2025年第8期919-927,共9页
电离总剂量(Total Ionizing Dose,TID)效应诱使PNP双极型晶体管(Bipolar Junction Transistors,BJTs)产生界面态电荷和氧化层俘获电荷,导致基极电流异常增大。鉴于传统解析模型的局限性,本文基于对称双栅MOSFET(Symmetric Double Gate M... 电离总剂量(Total Ionizing Dose,TID)效应诱使PNP双极型晶体管(Bipolar Junction Transistors,BJTs)产生界面态电荷和氧化层俘获电荷,导致基极电流异常增大。鉴于传统解析模型的局限性,本文基于对称双栅MOSFET(Symmetric Double Gate MOSFET,SDG MOS)表面电势理论,通过引入缺陷复合机制,提出了一种改进的PNP BJT过基极电流解析模型,并通过数值仿真揭示了不同界面态电荷密度(1×10^(11)~3×10^(12)cm^(2))和氧化层俘获电荷密度(1×10^(11)~1×10^(12)cm^(2))下的表面电势分布特征。3CK3B型晶体管在^(60)Coγ射线下的辐照试验(总剂量50/100 krad(Si))表明:改进模型计算结果与试验值的平均相对误差低至24.5%,较传统模型预测精度提升19%。理论分析表明,该模型可准确表征TID效应下双极晶体管表面电势的分布特征与过基极电流的关联机制,为抗辐射加固设计提供理论依据。 展开更多
关键词 电离总剂量效应 双极型晶体管 过基极电流 对称双栅MOSFET 表面电势理论
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5 MeV电子直线加速器建设与空间辐射效应应用
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作者 陶孟泽 李宏伟 +7 位作者 张龙龙 徐振宇 赵旭 蔡明辉 韩建伟 余国龙 杨京鹤 王常强 《航天器环境工程》 2025年第3期263-269,共7页
在航天器充放电效应和总剂量效应研究及工程应用中,为克服模拟空间电子辐射环境的地面试验设备辐照面积有限、电子能量偏低等局限性,中国科学院国家空间科学中心设计和建造了怀柔5 MeV电子直线加速器。该设备具备电子能量0.5~5 MeV、束... 在航天器充放电效应和总剂量效应研究及工程应用中,为克服模拟空间电子辐射环境的地面试验设备辐照面积有限、电子能量偏低等局限性,中国科学院国家空间科学中心设计和建造了怀柔5 MeV电子直线加速器。该设备具备电子能量0.5~5 MeV、束斑尺寸800 mm×800 mm、束流强度1 pA/cm^(2)~1 nA/cm^(2)的真空/大气电子辐照试验条件,可覆盖中地球轨道(MEO)和地球同步轨道(GEO)最恶劣高能电子环境,可开展部件、单机甚至小卫星级别的空间电离辐射效应试验评估。装置自投入运行以来,已支撑多项航天型号产品的辐照试验任务,能够有效评估航天产品的空间抗电离辐射能力,可为航天电子系统的设计、器件选型和效应评估提供重要技术支持。 展开更多
关键词 5 MeV电子直线加速器 空间电离辐射 地面模拟试验 抗辐射能力评估 充放电效应 总剂量效应
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FDSOI背栅光电晶体管的总电离剂量效应简约模型
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作者 王一明 王一娇 +1 位作者 吴佳瑶 邹涛 《集成电路与嵌入式系统》 2025年第7期22-27,共6页
提出一种受总电离剂量效应影响的全耗尽型绝缘体上硅背栅光电晶体管的简约模型,该模型综合考虑了器件中埋氧层内固定电荷的产生以及埋氧层下表面界面态的形成。通过该模型可建立辐照总剂量与光电晶体管阈值电压漂移之间的对应关系。将... 提出一种受总电离剂量效应影响的全耗尽型绝缘体上硅背栅光电晶体管的简约模型,该模型综合考虑了器件中埋氧层内固定电荷的产生以及埋氧层下表面界面态的形成。通过该模型可建立辐照总剂量与光电晶体管阈值电压漂移之间的对应关系。将本模型结果作为阈值电压修正参数嵌入到HSPICE仿真模型BSIM IMG中后,通过使用FDSOI背栅光电晶体管阵列代替人工神经网络图像输入层,系统研究了总电离剂量效应对器件阵列做向量矩阵乘法运算性能的影响。实验结果表明,当累积电离剂量达到600krad(Si)时,LeNet3神经网络处理MNIST数据集的识别准确率下降至85%左右。 展开更多
关键词 简约模型 总电离剂量效应 FDSOI 背栅光电晶体管 传感器内计算
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日盲紫外焦平面探测器的抗辐射加固设计 被引量:2
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作者 申志辉 罗木昌 +2 位作者 叶嗣荣 樊鹏 周勋 《半导体光电》 CAS 北大核心 2019年第2期157-160,165,共5页
设计了一款320×256元抗辐射日盲紫外焦平面阵列探测器,重点针对探测器的读出电路版图、积分开关偏置点、探测器芯片外延结构及器件工艺开展了抗辐射加固设计。对加固样品开展了γ总剂量和中子辐照试验和测试,试验结果表明样品的抗... 设计了一款320×256元抗辐射日盲紫外焦平面阵列探测器,重点针对探测器的读出电路版图、积分开关偏置点、探测器芯片外延结构及器件工艺开展了抗辐射加固设计。对加固样品开展了γ总剂量和中子辐照试验和测试,试验结果表明样品的抗电离辐照总剂量达到150krad(Si),抗中子辐照注量达到1×1013 n/cm2(等效1MeV中子),验证了抗辐射加固措施的有效性。 展开更多
关键词 紫外焦平面探测器 读出电路 抗辐射加固 总剂量效应
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40nm NMOS器件沟道热载流子效应和电离总剂量效应关联分析 被引量:3
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作者 何宝平 马武英 +2 位作者 王祖军 姚志斌 缑石龙 《现代应用物理》 2022年第1期180-185,共6页
通过理论模拟和辐照试验,对40 nm NMOS器件在电离总剂量(total ionization dose,TID)效应和沟道热载流子(channel hot carrier,CHC)效应综合作用下二者的相关性进行了研究。研究结果表明,CHC效应和TID效应单独作用都会对纳米NMOS器件产... 通过理论模拟和辐照试验,对40 nm NMOS器件在电离总剂量(total ionization dose,TID)效应和沟道热载流子(channel hot carrier,CHC)效应综合作用下二者的相关性进行了研究。研究结果表明,CHC效应和TID效应单独作用都会对纳米NMOS器件产生影响,而在综合作用下是否相关依赖于二者的先后试验顺序。器件在先TID效应后CHC效应的综合作用下,损伤程度要大于CHC效应单独作用的结果,2种效应具有相关性;器件在先CHC效应后TID效应的综合作用下,损伤程度小于TID效应和CHC效应单独作用的结果,2种效应没有相关性。 展开更多
关键词 电离总剂量效应 沟道热载流子效应 浅槽隔离 超薄栅氧化层
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空间环境对卫星光通信系统光学器件的影响 被引量:4
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作者 侯睿 赵尚弘 +1 位作者 李勇军 吴继礼 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期771-777,共7页
依据卫星光通信系统的组成及空间辐射环境,给出了空间环境的两个主要效应:总剂量效应(TID)和置换损伤效应(DDD)。分析了空间辐照环境对卫星光通信系统主要光学器件性能参数的影响,主要包括石英光纤、掺铒光纤放大器(EDFA)、量子阱激光器... 依据卫星光通信系统的组成及空间辐射环境,给出了空间环境的两个主要效应:总剂量效应(TID)和置换损伤效应(DDD)。分析了空间辐照环境对卫星光通信系统主要光学器件性能参数的影响,主要包括石英光纤、掺铒光纤放大器(EDFA)、量子阱激光器(QWLD)、CCD、PIN硅光电二极管,并提出了相应的抗辐射防护措施,为卫星光通信系统的实际应用提供了理论基础。 展开更多
关键词 空间环境 卫星光通信 电离总剂量 置换位移损伤 光学器件
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SOI高压LDMOS器件氧化层抗总电离剂量辐射效应研究 被引量:2
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作者 王永维 黄柯月 +4 位作者 王芳 温恒娟 陈浪涛 周锌 赵永瑞 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第8期758-766,共9页
绝缘体上硅(SOI)高压横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件是高压集成电路的核心器件,对其进行了总电离剂量(TID)辐射效应研究。利用仿真软件研究了器件栅氧化层、场氧化层和埋氧化层辐射陷阱电荷对电场和载流子分布的调制作用,栅氧化... 绝缘体上硅(SOI)高压横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件是高压集成电路的核心器件,对其进行了总电离剂量(TID)辐射效应研究。利用仿真软件研究了器件栅氧化层、场氧化层和埋氧化层辐射陷阱电荷对电场和载流子分布的调制作用,栅氧化层辐射陷阱电荷主要作用于器件沟道区,而场氧化层和埋氧化层辐射陷阱电荷则主要作用于器件漂移区;辐射陷阱电荷在器件内部感生出的镜像电荷改变了器件原有的电场和载流子分布,从而导致器件阈值电压、击穿电压和导通电阻等参数的退化。对80 V SOI高压LDMOS器件进行了总电离剂量辐射实验,结果表明在ON态和OFF态下随着辐射剂量的增加器件性能逐步衰退,当累积辐射剂量为200 krad(Si)时,器件的击穿电压大于80 V,阈值电压漂移为0.3 V,器件抗总电离剂量辐射能力大于200 krad(Si)。 展开更多
关键词 辐射电荷 总电离剂量(tid)辐射效应 绝缘体上硅(SOI) 横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS) 击穿电压 导通电流
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0.18μm浮栅Flash存储器件的总剂量辐射效应试验研究
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作者 范雪 李平 +3 位作者 谢小东 李辉 杨志明 丛伟林 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期44-47,共4页
针对自主设计的4 Mbit基于0.18μm商用CMOS flash工艺的浮栅flash存储器件进行了钴-60γ射线辐射效应试验研究。该存储器为FPGA的配置存储器。通过对被测器件分组,在加电配置和未加电配置条件下分别进行了钴-60γ射线辐射效应试验。试... 针对自主设计的4 Mbit基于0.18μm商用CMOS flash工艺的浮栅flash存储器件进行了钴-60γ射线辐射效应试验研究。该存储器为FPGA的配置存储器。通过对被测器件分组,在加电配置和未加电配置条件下分别进行了钴-60γ射线辐射效应试验。试验实时监测了被测器件的工作电流以及其配置FPGA功能随总剂量变化的特性,在国内首次测试了该工艺尺寸的flash存储器件的总剂量辐射效应特性。得到了其工作电流漂移的总剂量阈值为45 krad(Si)和功能失效总剂量阈值为92 krad(Si)的试验结果。 展开更多
关键词 浮栅flash存储器件 总剂量效应 射线
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电离层对短波测向系统的影响分析 被引量:1
18
作者 孙凤娟 柳文 李铁成 《装备环境工程》 CAS 2017年第7期45-49,共5页
目的研究电离层对短波测向系统的影响。方法从电离层传播介质入手,分析路径偏离效应和波干涉效应的形成机理及其对短波测向的影响。结果电离层系统倾斜引起的测向误差可借助电离层长期预测模型、短期预测算法或电离层实时探测数据对测... 目的研究电离层对短波测向系统的影响。方法从电离层传播介质入手,分析路径偏离效应和波干涉效应的形成机理及其对短波测向的影响。结果电离层系统倾斜引起的测向误差可借助电离层长期预测模型、短期预测算法或电离层实时探测数据对测向方位偏差进行补偿。行波扰动不可预测,只能依据行波扰动观测结果进行测向误差校正。波干涉误差可通过时间平滑进行抑制。结论提升现有短波测向系统测向性能的根本途径是为短波测向系统配备电离层探测设备,准确获取系统覆盖区内电离层状态信息,并进行传播效应补偿。 展开更多
关键词 电离层 短波测向 路径偏离效应 波干涉效应 行波扰动 系统倾斜
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磁随机存储器总剂量效应及退火特性研究
19
作者 张浩浩 毕津顺 +8 位作者 王海滨 呼红阳 李金 季兰龙 郝乐 于庆奎 罗磊 孙毅 刘明 《功能材料与器件学报》 CAS 2017年第1期49-56,共8页
本文对一款16Mb并口型磁随机存储器(MRAM)进行了Co60总剂量辐照和室温退火实验,深入研究了磁随机存储器的总剂量效应和退火特性。基于Verigy 93000芯片自动测试设备测试了磁随机存储器的直流/交流参数和功能,从中筛选出总剂量敏感参数,... 本文对一款16Mb并口型磁随机存储器(MRAM)进行了Co60总剂量辐照和室温退火实验,深入研究了磁随机存储器的总剂量效应和退火特性。基于Verigy 93000芯片自动测试设备测试了磁随机存储器的直流/交流参数和功能,从中筛选出总剂量敏感参数,并根据敏感参数随总剂量及退火时间的变化趋势,深入分析了磁随机存储器总剂量效应的物理机制。研究表明辐照在器件浅槽隔离(STI)氧化物结构中产生的大量陷阱电荷,是导致芯片电参数失效的主要因素。总剂量辐照过程中产生的大量氧化物陷阱电荷在室温下发生退火效应,使得芯片的电参数和功能得到恢复。本文的实验数据和理论分析有助于国产宇航级磁存储器的研制开发。 展开更多
关键词 磁随机存储器 总剂量效应 室温退火 抗辐照
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浮栅器件的单粒子翻转效应
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作者 琚安安 郭红霞 +7 位作者 丁李利 刘建成 张凤祁 张鸿 柳奕天 顾朝桥 刘晔 冯亚辉 《太赫兹科学与电子信息学报》 2022年第9期877-883,914,共8页
基于中国原子能科学研究院的HI-13加速器,利用不同线性能量传输(LET)值的重离子束流对4款来自不同厂家的90 nm特征尺寸NOR型Flash存储器进行了重离子单粒子效应试验研究,对这些器件的单粒子翻转(SEU)效应进行了评估。试验中分别对这些... 基于中国原子能科学研究院的HI-13加速器,利用不同线性能量传输(LET)值的重离子束流对4款来自不同厂家的90 nm特征尺寸NOR型Flash存储器进行了重离子单粒子效应试验研究,对这些器件的单粒子翻转(SEU)效应进行了评估。试验中分别对这些器件进行了静态和动态测试,得到了它们在不同LET值下的SEU截面。结果表明高容量器件的SEU截面略大于低容量的器件;是否加偏置对器件的翻转截面几乎无影响;两款国产替代器件的SEU截面比国外商用器件高。国产替代器件SEU效应的LET阈值在12.9 MeV·cm^(2)/mg附近,而国外商用器件SEU效应的LET阈值处于12.9~32.5 MeV·cm^(2)/mg之间。此外,针对单粒子和总剂量效应对试验器件的协同作用也开展了试验研究,试验结果表明总剂量累积会增加Flash存储器的SEU效应敏感性,分析认为总剂量效应产生的电离作用导致了浮栅上结构中的电子丢失和晶体管阈值电压的漂移,在总剂量效应作用的基础上SEU更容易发生。 展开更多
关键词 NOR型Flash存储器 重离子 单粒子效应 总剂量效应 协同效应
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