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Optimization Design of Active Structure of Strained MQW DFB Lasers
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作者 张冶金 朱林 +5 位作者 高志国 陈明华 董毅 陈维友 刘式墉 谢世钟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期6-10,共5页
The well number and the cavity length of 1.55μm wavelength In 1-x-y Ga y Al x As MQW DFB lasers are optimized using a simple model.A low threshold,maximum operating temperature of 550~560K,and high relaxat... The well number and the cavity length of 1.55μm wavelength In 1-x-y Ga y Al x As MQW DFB lasers are optimized using a simple model.A low threshold,maximum operating temperature of 550~560K,and high relaxation oscillation frequency of over 30GHz MQW DFB laser is presented. 展开更多
关键词 In 1-x-y Gay Alx As qw laser DFB differential gain optimization design
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Logarithmic Gain-carrier Density Characteristic of QW Lasers
2
作者 ZHANGXiao-xia CHENJian-guo 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2000年第2期73-76,共4页
The relationship between gain and carrier density is analysed. In the quantum well (QW) lasers, initially, the gain increases rapidly with the carrier density and then starts to saturate. It can be seen that QW lasers... The relationship between gain and carrier density is analysed. In the quantum well (QW) lasers, initially, the gain increases rapidly with the carrier density and then starts to saturate. It can be seen that QW lasers have a higher differential gain because of the step-like state density, and that the gain saturates at higher carrier densities because of the constant state density of the lowest subband. It is shown that simple logarithmic gain-carrier density is more accurate than the traditional linearized form for a QW laser. 展开更多
关键词 Logarithmic gain Carrier density Differential gain qw laser
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大功率GRIN-SCH-SQW激光器阵列
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作者 李忠辉 王玲 +2 位作者 李梅 高欣 张兴德 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期255-256,264,共3页
分析了梯度折射率分别限制单量子阱 (GRIN-SCH-SQW)结构的特点以及对大功率半导体激光器特性的影响。利用分子束外延系统生长 Ga Al As/Ga As GRIN-SCH-SQW结构 ,经光荧光谱、X-射线双晶衍射、和载流子浓度测试 ,结果表明 ,该结构各参... 分析了梯度折射率分别限制单量子阱 (GRIN-SCH-SQW)结构的特点以及对大功率半导体激光器特性的影响。利用分子束外延系统生长 Ga Al As/Ga As GRIN-SCH-SQW结构 ,经光荧光谱、X-射线双晶衍射、和载流子浓度测试 ,结果表明 ,该结构各参数均满足设计要求。应用此结构制成激光器阵列 ,室温准连续输出功率达5 8W(t=2 0 0 μs,f=5 0 Hz) ,峰值波长为 80 8nm。 展开更多
关键词 GRIN-SCH-Sqw 分子束外延 阵列半导体激光器 分别限制 量子阱
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镓铟砷/铝铟砷QW LD中俄歇复合及其对T_0的影响 被引量:4
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作者 朴海镇 陈辰嘉 郭长志 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1998年第6期356-361,共6页
修正了现行俄歇复合率的公式,并用之分析了晶格匹配GaInAs/AlInAs异质材料系统在有无量子尺寸效应情况下的俄歇复合率随载流子浓度和温度变化的行为。发现其阈值电流密度随温度的变化行为可分为特征温度(T0)不同的相... 修正了现行俄歇复合率的公式,并用之分析了晶格匹配GaInAs/AlInAs异质材料系统在有无量子尺寸效应情况下的俄歇复合率随载流子浓度和温度变化的行为。发现其阈值电流密度随温度的变化行为可分为特征温度(T0)不同的相邻两个温区,在较高温区,量子尺寸效应作用不大,在较低温区,量子尺寸效应反而降低了T0,并对此意外的现象提出初步的解释。 展开更多
关键词 半导体 量子阱 激光器 俄歇复合 特征温度
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1.8μm波段台面条形结构InGaAsSb/AlGaAsSb量子阱激光器 被引量:2
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作者 柏劲松 陈高庭 +4 位作者 张云妹 方祖捷 李爱珍 郑燕兰 林春 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2000年第5期355-357,362,共4页
报道了 1.8μm波段台面条形结构InGaAsSb/AlGaAsSb量子阱激光器的研制结果 ,器件在 77K下以脉冲方式工作 ,阈值电流约 2 5mA ,中心波长约 1.84 μm。
关键词 量子阱激光器 台面条形结构 InGaAsSb/AlGaAsSb
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InGaAsP分别限制量子阱激光器
6
作者 陈松岩 李玉东 +2 位作者 孙洪波 胡礼忠 刘式墉 《光子学报》 EI CAS CSCD 1996年第2期160-164,共5页
长波长InGaAsP量子阱激光器,以其低阈值、窄光谱线宽和高的调制频带宽等优良特性而成为大容量通信的基础。为此,我们利用低压MOVCD技术生长了1.62μm和1.3μm的InGaAsP材料,测得其77K光荧光(PL)... 长波长InGaAsP量子阱激光器,以其低阈值、窄光谱线宽和高的调制频带宽等优良特性而成为大容量通信的基础。为此,我们利用低压MOVCD技术生长了1.62μm和1.3μm的InGaAsP材料,测得其77K光荧光(PL)谱线半峰高宽分别为18.7meV和28meV。利用X射线双晶衍射测得两种材料的晶格失配度不大于1×10 ̄(-3)。并生长了四个不同阱宽的InGaAsP/InP量子阱结构,测得77K温度下的PL谱,分析了阱宽对发光波长及半峰宽的影响,并提出在量子阱激光器中减小界面层影响的方法。在此基础上,生长了分别限制量子阱激光器结构,并利用质子轰击制备出条形结构激光器,测得其最低阈值电流为100mA。直流工作光谱峰值波长为1.52μm左右,单面输出外微分量子效率约为36%。 展开更多
关键词 分别限制量子阶激光器 低压金属有机气相沉积 质子轰击
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半导体激光器的进展 被引量:8
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作者 王莉 张以谟 +1 位作者 吴荣汉 余金中 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1999年第5期267-270,共4页
文中概述了近年来国际上半导体激光器的发展趋势及各种不同的半导体激光器的具体技术指标
关键词 半导体激光器 分布反馈 量子阱 垂直腔面发射
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980nm大功率半导体激光器的MOCVD外延生长条件优化 被引量:4
8
作者 李岩 李建军 +1 位作者 邓军 韩军 《半导体光电》 CAS 北大核心 2016年第4期518-523,共6页
为了对980nm大功率半导体激光器的波导层和有源层外延材料进行快速表征,设计了相应的双异质结(DH)结构和量子阱(QW)结构,并在不同条件下进行了MOCVD外延生长,通过室温荧光谱测试分析,得到Al0.1Ga0.9As波导层的最佳生长温度为675℃,InGaA... 为了对980nm大功率半导体激光器的波导层和有源层外延材料进行快速表征,设计了相应的双异质结(DH)结构和量子阱(QW)结构,并在不同条件下进行了MOCVD外延生长,通过室温荧光谱测试分析,得到Al0.1Ga0.9As波导层的最佳生长温度为675℃,InGaAs QW的最佳长温度为575℃。为了兼顾波导层需高温生长和QW层需低温生长的需求,提出在InGaAs QW附近引入Al_(0.1)Ga_(0.9)As薄间隔层的变温停顿生长方法,通过优化间隔层的厚度,InGaAs QW在室温下的PL谱的峰值半高宽只有23meV。基于优化的外延工艺参数,进行了980nm大功率半导体激光器的外延生长,并制备了腔长4mm、条宽95μm的脊形器件。结果显示,在没有采取任何主动散热情况下,器件在30A注入电流下仍未出现腔面灾变损伤,输出功率达到23.6W。 展开更多
关键词 半导体激光器 MOCVD 量子阱 波导层 生长温度
原文传递
1.3μm InGaAsSb/GaAsSb量子阱激光器有源区结构设计 被引量:3
9
作者 何斌太 刘国军 +4 位作者 魏志鹏 刘超 安宁 刘鹏程 王旭 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期505-508,共4页
为了研制满足光纤通讯需求的高性能半导体激光器,对压应变In Ga As Sb/Ga As Sb量子阱激光器有源区进行了研究。根据应变量子阱能带理论、固体模型理论和克龙尼克-潘纳模型,确定了激射波长与量子阱材料组分及阱宽的关系。基于Lastip软... 为了研制满足光纤通讯需求的高性能半导体激光器,对压应变In Ga As Sb/Ga As Sb量子阱激光器有源区进行了研究。根据应变量子阱能带理论、固体模型理论和克龙尼克-潘纳模型,确定了激射波长与量子阱材料组分及阱宽的关系。基于Lastip软件建立了条宽为50μm、腔长为800μm的半导体激光器仿真模型,模拟器件的输出特性,讨论了量子阱个数对器件光电特性的影响。结果表明:当量子阱组分为In0.44Ga0.56As0.92Sb0.08/Ga As0.92Sb0.08、阱宽为9 nm、量子阱个数为2时,器件的性能达到最佳,阈值电流为48 m A,斜率效率为0.76 W/A。 展开更多
关键词 半导体激光器 InGaAsSb/GaAsSb 量子阱 有源区
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1.55μm InGaAsP/InP应变量子阱激光器的LP-MOCVD生长
10
作者 祝进田 李玉东 +3 位作者 胡礼中 陈松岩 胡朝辉 刘式墉 《光子学报》 EI CAS CSCD 1994年第3期273-277,共5页
本文首次报导了生长温度为550℃,以三甲基镓(TMGa)和三甲基铟(TMIn)为Ⅲ族源,用低压金属有机物气相沉积(LFMOCVD〕技术,高质量1.62um和1.3umInGaAsP及In0.57Ga0.43As0.9... 本文首次报导了生长温度为550℃,以三甲基镓(TMGa)和三甲基铟(TMIn)为Ⅲ族源,用低压金属有机物气相沉积(LFMOCVD〕技术,高质量1.62um和1.3umInGaAsP及In0.57Ga0.43As0.98P0.04/In0.73Ga0.27As0.6P0.4量子阶结构的生长,并给出了1.55umGaAsP/InP分别限制应变量子阱结构激光器的生长条件,激光器于室温下脉冲激射,其阈值电流密度为2.4kA/cm2。 展开更多
关键词 应变 量子阱 激光器 化学汽相沉积
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高功率1310nm多量子阱分布反馈激光器 被引量:1
11
作者 杨新民 金锦炎 +3 位作者 周宁 刘涛 刘坚 李同宁 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期271-274,共4页
采用金属有机物化学汽相淀积/液相外延生长工艺和多量子阱-分布反馈双沟平面隐埋异质结结构,实现了1310nmInGaAsP/InP多量子阱分布反馈激光器高功率输出。25℃时,尾纤输出功率(Pf)大于10mW,阈值电流(... 采用金属有机物化学汽相淀积/液相外延生长工艺和多量子阱-分布反馈双沟平面隐埋异质结结构,实现了1310nmInGaAsP/InP多量子阱分布反馈激光器高功率输出。25℃时,尾纤输出功率(Pf)大于10mW,阈值电流(Ith)小于18mA,斜率效率(Es)大于22W/A,边模抑制比(SMSR)大于40dB,单纵模产率(Y)超过70% 展开更多
关键词 半导体器件 激光器 量子阱
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量子阱半导体激光器材料的MBE生长研究
12
作者 刘国军 张千勇 +8 位作者 杨晗 曲轶 夏伟 张兴德 李梅 王晓华 李学谦 薄报学 张宝顺 《长春光学精密机械学院学报》 1998年第3期15-17,22,共4页
本文阐述了分子束外延( MBE) 技术的特点以及在实现大面积均匀的超薄外延层生长中的应用。利用进口MBE 设备, 实现了单量子阱(SQW) 和多量子阱( MQW) 半导体激光器外延片的生长, 并对外延片的电学和光学特性进行了... 本文阐述了分子束外延( MBE) 技术的特点以及在实现大面积均匀的超薄外延层生长中的应用。利用进口MBE 设备, 实现了单量子阱(SQW) 和多量子阱( MQW) 半导体激光器外延片的生长, 并对外延片的电学和光学特性进行了测试和分析。 展开更多
关键词 分子束外延 量子阱激光器 半导体 激光器材料
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MOCVD生长1.06μm InGaAs/GaAs量子阱LDs 被引量:4
13
作者 潘教青 黄柏标 +4 位作者 张晓阳 岳金顺 秦晓燕 于永芹 尉吉勇 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期590-593,共4页
用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs量子阱,采用中断生长、应变缓冲层(SBL)、改变生长速度和调节Ⅴ/Ⅲ等方法改善InGaAs/GaAs量子阱的光致发光(PL)质量。PL结果表明,10s生长中断结合适当的SBL生长的量子阱PL谱较好。该量子阱应用于1.06μm... 用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs量子阱,采用中断生长、应变缓冲层(SBL)、改变生长速度和调节Ⅴ/Ⅲ等方法改善InGaAs/GaAs量子阱的光致发光(PL)质量。PL结果表明,10s生长中断结合适当的SBL生长的量子阱PL谱较好。该量子阱应用于1.06μm激光器的制备,未镀膜的宽条激光器(100μm×1000μm)有低阈值电流密度(110A/cm2)和高的斜率效率(0.256W/A,per.facet)。 展开更多
关键词 MOCVD INGAAS/GAAS量子阱 LDs 半导体激光器 应变量子阱 中断生长 应变缓冲层
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量子阱垂直腔面发射激光器及其微腔物理 被引量:1
14
作者 赵红东 陈国鹰 +2 位作者 张存善 张以谟 沈光地 《激光与光电子学进展》 CSCD 2001年第4期19-23,共5页
根据发展历史的顺序 ,对量子阱垂直腔面发射激光器微腔物理进行概述 ,其中包括垂直腔面发射激光器、腔量子电动力学和半导体微腔物理。
关键词 量子阱 垂直腔面发射激光顺 微腔物理
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