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面向超表面天线设计的95~105 GHz SiGe BiCMOS宽带数控衰减器
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作者 罗将 张文柱 程强 《电子与信息学报》 北大核心 2025年第2期344-352,共9页
近年来,因对电磁波具备灵活的调控能力,超表面天线技术受到来自通信、雷达以及天线领域学者的广泛关注。其中,超表面天线单元中所使用的有源调控器件,是决定整个系统性能的最关键部件之一。该文基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺设计了一个95... 近年来,因对电磁波具备灵活的调控能力,超表面天线技术受到来自通信、雷达以及天线领域学者的广泛关注。其中,超表面天线单元中所使用的有源调控器件,是决定整个系统性能的最关键部件之一。该文基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺设计了一个95~105 GHz的五位宽带数控衰减器芯片。该衰减器采用了反射式和简化T型两种拓扑结构,其中4 dB与8 dB反射式衰减单元采用交叉耦合宽带耦合器代替传统的3 dB耦合器或定向耦合器,同时获得了高衰减精度和低插入损耗;而0.5 dB,1 dB,2 dB三个衰减单元均采用简化T型结构。此外,利用RC正斜率和负斜率校正网络分别应用于不同的衰减单元进行相位补偿,极大地改善了衰减器的附加相移。经过仿真验证,在95~105 GHz的感兴趣工作频率内,衰减器芯片在0.12 mm^(2)的紧凑的尺寸下实现了0~15.5 dB的衰减范围,步进为0.5 dB,基态插入损耗小于2.5 dB,幅度均方根误差小于0.31 dB,附加相移均方根误差小于2.2°。所提出的W波段衰减器可作为一个关键部件赋能集成T/R的辐散一体化超表面天线系统的硬件实现。 展开更多
关键词 sige bicmos W波段 衰减器 交叉耦合宽带耦合器 超表面
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A 0.1-5.1 GHz high-gain LNA with inductorless composite resistor-capacitor feedback structure based on a 0.25μm SiGe BiCMOS process
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作者 Zhouhao Zhao Qian Chen +1 位作者 Yixing Lu Haigang Feng 《Journal of Semiconductors》 2025年第8期37-44,共8页
In this paper,a high-gain inductorless LNA(low-noise amplifier)compatible with multiple communication protocols from 0.1 to 5.1 GHz is proposed.A composite resistor-capacitor feedback structure is employed to achieve ... In this paper,a high-gain inductorless LNA(low-noise amplifier)compatible with multiple communication protocols from 0.1 to 5.1 GHz is proposed.A composite resistor-capacitor feedback structure is employed to achieve a wide bandwidth matching range and good gain flatness.A second stage with a Darlington pair is used to increase the overall gain of the amplifier,while the gain of the first stage is reduced to reduce the overall noise.The amplifier is based on a 0.25μm SiGe BiCMOS process,and thanks to the inductorless circuit structure,the core circuit area is only 0.03 mm^(2).Test results show that the lowest noise figure(NF)in the operating band is 1.99 dB,the power gain reaches 29.7 dB,the S_(11)and S_(22)are less than-10 dB,the S_(12)is less than-30 dB,the IIP3 is 0.81dBm,and the OP_(1dB)is 10.27 dBm.The operating current is 31.18 mA at 3.8 V supply. 展开更多
关键词 sige bicmos low noise amplifier wideband inductorless integrated circuits
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SiGe BiCMOS低噪声放大器激光单粒子效应研究 被引量:4
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作者 李培 董志勇 +4 位作者 郭红霞 张凤祁 郭亚鑫 彭治钢 贺朝会 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期200-208,共9页
随着CMOS工艺的日益成熟和SiGe外延技术水平的不断提高,SiGe BiCMOS低噪声放大器(LNA)广泛应用于空间射频收发系统的第一级模块.SiGe HBT作为SiGe BiCMOS LNA的核心器件,天然具有优异的低温特性、抗总剂量效应和抗位移损伤效应的能力,然... 随着CMOS工艺的日益成熟和SiGe外延技术水平的不断提高,SiGe BiCMOS低噪声放大器(LNA)广泛应用于空间射频收发系统的第一级模块.SiGe HBT作为SiGe BiCMOS LNA的核心器件,天然具有优异的低温特性、抗总剂量效应和抗位移损伤效应的能力,然而,其瞬态电荷收集引起的空间单粒子效应是制约其空间应用的瓶颈问题.本文基于SiGe BiCMOS工艺低噪声放大器开展了单粒子效应激光微束实验,并定位了激光单粒子效应敏感区域.实验结果表明,SiGe HBT瞬态电荷收集是引起SiGe BiCMOS LNA单粒子效应的主要原因.TCAD模拟表明,离子在CMOS区域入射时,电离径迹会越过深沟槽隔离结构,进入SiGe HBT区域产生电子空穴对并引起瞬态电荷收集.ADS电路模拟分析表明,单粒子脉冲瞬态电压在越过第1级与第2级之间的电容时,瞬态电压峰值骤降,这表明电容在传递单粒子效应产生的瞬态脉冲过程中起着重要作用.本文实验和模拟工作为SiGe BiCMOS LNA单粒子效应抗辐射设计加固提供了技术支持. 展开更多
关键词 sige bicmos工艺 低噪声放大器 单粒子效应 激光模拟实验 TCAD数值模拟 ADS电路模拟
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A High Purity Integer-N Frequency Synthesizer in 0.35μm SiGe BiCMOS
4
作者 张健 李志强 +2 位作者 陈立强 陈普峰 张海英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期655-659,共5页
An integer-N frequency synthesizer in 0.35μm SiGe BiCMOS is presented. By implementing different building blocks with different types of devices,a high purity frequency synthesizer with excellent spur and phase noise... An integer-N frequency synthesizer in 0.35μm SiGe BiCMOS is presented. By implementing different building blocks with different types of devices,a high purity frequency synthesizer with excellent spur and phase noise performance has been realized. All the building blocks are implemented with differential topology except for the off-chip loop filter. To further reduce the phase noise,bonding wires are used to form the resonator in the LC-VCO. The frequency synthesizer operates from 2.39 to 2.72GHz with output power of about 0dBm. The measured closed-loop phase noise is - 95dBc/Hz at 100kHz offset and - 116dBc/Hz at 1MHz offset from the carrier. The power level of the reference spur is less than - 72dBc. With a 3V power supply, the whole chip including the output buffers consumes 60mA. 展开更多
关键词 sige bicmos phase-locked loop high purity loop bandwidth
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Design of a 2.5GHz Low Phase-Noise LC-VCO in 0.35μm SiGe BiCMOS
5
作者 张健 陈立强 +2 位作者 李志强 陈普峰 张海英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期827-831,共5页
This paper introduces a 2.5GHz low phase-noise cross-coupled LC-VCO realized in 0.35μm SiGe BiCMOS technology. The conventional definition of a VCO operating regime is revised from a new perspective. Analysis shows t... This paper introduces a 2.5GHz low phase-noise cross-coupled LC-VCO realized in 0.35μm SiGe BiCMOS technology. The conventional definition of a VCO operating regime is revised from a new perspective. Analysis shows the importance of inductance and bias current selection for oscillator phase noise optimization. Differences between CMOS and BJT VCO design strategy are then analyzed and the conclusions are summarized. In this implementation, bonding wires form the resonator to improve the phase noise performance. The VCO is then integrated with other components to form a PLL frequency synthesizer with a loop bandwidth of 30kHz. Measurement shows a phase noise of - 95dBc/Hz at 100kHz offset and - 116dBc/Hz at 1MHz offset from a 2.5GHz carrier. At a supply voltage of 3V, the VCO core consumes 8mA. To our knowledge,this is the first differential cross-coupled VCO in SiGe BiCMOS technology in China. 展开更多
关键词 sige bicmos VCO INDUCTANCE phase noise
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新一代超高速SiGe BiCMOS工艺研究进展 被引量:2
6
作者 马羽 张培健 +2 位作者 徐学良 陈仙 易孝辉 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第2期272-285,共14页
综述了近年来国际上SiGe BiCMOS工艺的最新研究成果和工艺量产情况,具体展现和讨论了不同机构所研发的器件结构、工艺流程及其性能,并且展望了器件及工艺进一步优化的方向。虽然目前传统的双多晶自对准选择性外延基区结构实现了最佳的... 综述了近年来国际上SiGe BiCMOS工艺的最新研究成果和工艺量产情况,具体展现和讨论了不同机构所研发的器件结构、工艺流程及其性能,并且展望了器件及工艺进一步优化的方向。虽然目前传统的双多晶自对准选择性外延基区结构实现了最佳的量产性能,但受限于内外基区连接电阻和选择性外延基区薄膜的不均匀性,其器件性能很难再有进一步提高。非选择性外延基区结构在实验室获得了极高的性能,但其自对准特性较低,这妨碍了其工业量产和更大规模集成。维持HBT器件与更小尺寸基线CMOS的工艺兼容性变得越来越困难。对高性能、工业量产和低成本进行综合,仍然是一项具有较大挑战性的任务。 展开更多
关键词 sige bicmos sige HBT 高频性能 工业量产
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一种基于SiGe BiCMOS工艺的单片集成光接收机前端放大电路 被引量:1
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作者 陈宇星 徐永佳 +3 位作者 孔谋夫 廖希异 吴克军 徐开凯 《微电子学》 CAS 北大核心 2022年第6期936-941,共6页
基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,设计了一种25 Gbit/s的光接收机前端放大电路单片集成的放大电路。该电路实现了光接收机前端放大电路的单片集成,并采用带反馈系统的跨阻放大器、电感峰化、自动增益控制电路等设计有效提高了增益、带宽和... 基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,设计了一种25 Gbit/s的光接收机前端放大电路单片集成的放大电路。该电路实现了光接收机前端放大电路的单片集成,并采用带反馈系统的跨阻放大器、电感峰化、自动增益控制电路等设计有效提高了增益、带宽和系统稳定性。经仿真与测试,该设计增益达到69.9 dB,带宽为19.1 GHz,并在工业级芯片工作温度(-40℃~+85℃)下带宽误差不超过0.1%。该芯片工作时需要的供电电流为45 mA,功耗为81 mW,信号抖动RMS值为5.8 ps,具有良好的性能和稳定性。本设计提供了一种能够适用于100 Gbit/s(25 Gbit/s×4线)光互连系统的设计方案,具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 sige bicmos工艺 光接收机 跨阻放大器 光通信
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基于SiGe BiCMOS工艺的8 GS/s采样保持电路 被引量:1
8
作者 李飞 吴洪江 +1 位作者 龚剑 曹慧斌 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第5期499-504,共6页
为实现数字通信对高速模数转换器的要求,基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺提出了一款8 GS/s采样率、6 bit的采样保持电路。电路采用全差分开环结构,利用射极跟随型采样开关实现了电路高采样率。采样开关中采用晶体管线性补偿技术,有效地提... 为实现数字通信对高速模数转换器的要求,基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺提出了一款8 GS/s采样率、6 bit的采样保持电路。电路采用全差分开环结构,利用射极跟随型采样开关实现了电路高采样率。采样开关中采用晶体管线性补偿技术,有效地提高了采样保持电路的线性度。输出缓冲电路采用级联结构实现高线性度,并提高了电路的驱动能力。测试结果发现,在采样模式下单端输入信号频率4 GHz、采样时钟频率8 GHz条件下,有效位数为5.4 bit,无杂散动态范围为37.6 dB,总谐波失真为37.5 dB,总功耗为450 mW,芯片尺寸为0.68 mm×0.68 mm。 展开更多
关键词 采样保持电路 sige bicmos工艺 射极跟随型采样开关 前馈电容 馈通补偿电路
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基于0.18μm SiGe BiCMOS工艺的高线性射频功率放大器 被引量:7
9
作者 阮颖 陈磊 +2 位作者 田亮 周进 赖宗声 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期469-472,476,共5页
采用0.18μm SiGe BiCMOS工艺,设计应用于无线局域网(WLAN)802.11b/g 2.4GHz频段的Class AB射频功率放大器。该放大器采用两级放大结构,具有带温度补偿的线性化偏置电路。仿真结果显示:电路的输入匹配S11小于-13 dB,输出匹配S22小-于20 ... 采用0.18μm SiGe BiCMOS工艺,设计应用于无线局域网(WLAN)802.11b/g 2.4GHz频段的Class AB射频功率放大器。该放大器采用两级放大结构,具有带温度补偿的线性化偏置电路。仿真结果显示:电路的输入匹配S11小于-13 dB,输出匹配S22小-于20 dB,功率增益达27.3 dB,输出1 dB压缩点为23 dBm,最大功率附加效率(PAE)为21.3%;实现了匹配电路、放大电路和偏置电路的片上全集成,芯片面积为1 148μm×1 140μm。 展开更多
关键词 射频功率放大器 sige bicmos
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一种2.4GHz全集成SiGe BiCMOS功率放大器 被引量:5
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作者 阮颖 刘炎华 +1 位作者 陈磊 赖宗声 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2011年第12期3035-3039,共5页
针对2.4 GHz 802.11 b/g无线局域网(WLAN)的应用,该文设计了一种单片全集成的射频功率放大器(PA)。由于在自适应偏置电路中采用异质结晶体管(HBT)和电容构成的简单结构提高PA的线性度,因此不增加PA的直流功耗、插损和芯片面积。在基极... 针对2.4 GHz 802.11 b/g无线局域网(WLAN)的应用,该文设计了一种单片全集成的射频功率放大器(PA)。由于在自适应偏置电路中采用异质结晶体管(HBT)和电容构成的简单结构提高PA的线性度,因此不增加PA的直流功耗、插损和芯片面积。在基极偏置的DC通路中采用电阻负反馈实现温度稳定功能,有效避免热崩溃的同时不引起射频损耗。采用了GRACE 0.18μm SiGe BiCMOS工艺流片,芯片面积为1.56 mm2,实现了包括所有偏置电路和匹配电路的片上全集成。测试结果表明,在2.4-2.5 GHz工作频段,PA的小信号增益S 21达23 dB,输入回波损耗S 11小于-15 dB。PA的1 dB输出压缩点的线性输出功率为19.6 dBm,功率附加效率为20%,功率增益为22 dB。 展开更多
关键词 sige bicmos 功率放大器 全集成 自适应偏置
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SiGe BiCMOS线性器件脉冲激光单粒子瞬态效应研究 被引量:2
11
作者 安恒 张晨光 +3 位作者 杨生胜 薛玉雄 王光毅 王俊 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第3期149-155,共7页
验证SiGe BiCMOS工艺线性器件的单粒子瞬态(Single Event Transient, SET)效应敏感性,选取典型运算放大器THS4304和稳压器TPS760进行了脉冲激光试验研究。试验中,通过能量逐渐逼近方法确定了其诱发SET效应的激光阈值能量,并通过逐点扫... 验证SiGe BiCMOS工艺线性器件的单粒子瞬态(Single Event Transient, SET)效应敏感性,选取典型运算放大器THS4304和稳压器TPS760进行了脉冲激光试验研究。试验中,通过能量逐渐逼近方法确定了其诱发SET效应的激光阈值能量,并通过逐点扫描的办法分析了器件内部单粒子效应敏感区域,并在此基础上分析了脉冲激光能量与SET脉冲的相互关系,获得了单粒子效应截面,为SiGe BiCMOS工艺器件在卫星电子系统的筛选应用以及抗辐射加固设计提供数据参考。 展开更多
关键词 sige bicmos 线性器件 单粒子效应 单粒子瞬态 脉冲激光
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一种多模多频无线收发器前端SiGe BiCMOS低噪声放大器 被引量:2
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作者 周进 田亮 +2 位作者 陈磊 阮颖 赖宗声 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期631-634,683,共5页
基于IBM0.18μm SiGe BiCMOS工艺,提出了一种应用于2.4~2.5GHz802.11b/g频段的低噪声放大器(LNA)。电路采用全差分发射极电感负反馈共射共基(Cascode)结构,对称电感有效地降低了芯片面积,优化了电路性能。仿真结果表明:该电路在2.4GHz... 基于IBM0.18μm SiGe BiCMOS工艺,提出了一种应用于2.4~2.5GHz802.11b/g频段的低噪声放大器(LNA)。电路采用全差分发射极电感负反馈共射共基(Cascode)结构,对称电感有效地降低了芯片面积,优化了电路性能。仿真结果表明:该电路在2.4GHz到2.5GHz频率范围内,增益(S21)达到25dB,噪声系数(NF)小于1.5dB,大幅度提高了收发机系统的性能。此外,输入和输出匹配(S11,S22)分别达到-15dB,1dB压缩点大于-25dBm。电源电压为2.5V时电路总电流为3mA。 展开更多
关键词 低噪声放大器 共射共基 sige bicmos
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0.35μm SiGe BiCMOS 3.1~10.6GHz超宽带低噪声放大器 被引量:3
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作者 王贵 华明清 唐万春 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期642-646,共5页
基于AMS 0.35μm SiGe BiCMOS工艺,设计了一种应用于3.1~10.6GHz频段的超宽带低噪声放大器;采用多个反馈环路,实现超宽带范围内的阻抗匹配以及低噪声性能;详细分析了匹配电路的特性。在片测试结果表明,在工作频带内,电路增益S21达到14... 基于AMS 0.35μm SiGe BiCMOS工艺,设计了一种应用于3.1~10.6GHz频段的超宽带低噪声放大器;采用多个反馈环路,实现超宽带范围内的阻抗匹配以及低噪声性能;详细分析了匹配电路的特性。在片测试结果表明,在工作频带内,电路增益S21达到14dB,增益波动小于2dB;输入回波损耗S11小于-10dB;噪声系数NF小于3.5dB。电路采用3V供电,功耗为30mW。 展开更多
关键词 sige bicmos 超宽带 低噪声放大器
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基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺的10 GS/s、3 bit模数转换器 被引量:2
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作者 张翼 沈宇 +3 位作者 李晓鹏 杨磊 刘中华 郭宇锋 《南京邮电大学学报(自然科学版)》 北大核心 2019年第5期26-33,共8页
基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,文中设计了超高速全并行模数转换器,其时钟采样率为10 GS/s、精度为3 bit。该模数转换器采用全差分的电路结构,其中跟踪保持放大器采用电容增强技术获得大带宽。设计中采用差分编码技术降低编码电路的误码... 基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,文中设计了超高速全并行模数转换器,其时钟采样率为10 GS/s、精度为3 bit。该模数转换器采用全差分的电路结构,其中跟踪保持放大器采用电容增强技术获得大带宽。设计中采用差分编码技术降低编码电路的误码率,提高工作速度。电路仿真结果表明,当时钟采样率为10 GS/s时,ADC电路的微分非线性和积分非线性均小于0.2 LSB。该ADC电路在输入信号频率低于10 MHz时的有效位数大于2.8位,在输入信号频率为1 GHz时的有效位数大于2.5位。在-5 V和-3.3 V供电电压下,电路的总功耗为1.6 W,芯片面积为1.0 mm×1.2 mm。 展开更多
关键词 全并行模数转换器 sige bicmos工艺 差分编码电路 超高速
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SiGe BiCMOS技术发展现状 被引量:2
15
作者 王飞 许军 刘道广 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期540-547,共8页
以通讯领域的需求和技术发展为背景,介绍了SiGe HBT器件以及SiGe BiCMOS技术的发展历程。总结了SiGe HBT器件在器件结构和工艺步骤上的共同点。以IBM公司0.5μmSiGe BiCMOS为例,介绍了SiGe BiCMOS典型工艺步骤,分析了BDG和BAG两种工艺... 以通讯领域的需求和技术发展为背景,介绍了SiGe HBT器件以及SiGe BiCMOS技术的发展历程。总结了SiGe HBT器件在器件结构和工艺步骤上的共同点。以IBM公司0.5μmSiGe BiCMOS为例,介绍了SiGe BiCMOS典型工艺步骤,分析了BDG和BAG两种工艺集成方式在不同技术节点上应用的利弊。最后,以捷智半导体和IBM产品线为例,对SiGe HBT器件以及SiGe BiCMOS技术划分技术节点。 展开更多
关键词 sige HBT bicmos无线通讯
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一种新型2.4 GHz SiGe BiCMOS低噪声放大器 被引量:1
16
作者 戴广豪 李文杰 +2 位作者 王生荣 李竞春 杨谟华 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期580-583,共4页
基于窄带低噪声放大器理论,设计了一种2.4 GHz,具有低功耗、低噪声和良好匹配性等优点的新型BiFET结构SiGe BiCMOS低噪声放大器。采用TSMC 0.35μm SiGe BiCMOS工艺库,利用SpectreRF软件的仿真结果显示,该电路具有2.27 dB低噪声系数,11.... 基于窄带低噪声放大器理论,设计了一种2.4 GHz,具有低功耗、低噪声和良好匹配性等优点的新型BiFET结构SiGe BiCMOS低噪声放大器。采用TSMC 0.35μm SiGe BiCMOS工艺库,利用SpectreRF软件的仿真结果显示,该电路具有2.27 dB低噪声系数,11.5 dB正向增益;2 V工作电压下,其功耗仅为6.1 mW。研究结果表明,该低噪声放大器在射频蓝牙系统中具有一定的应用前景。 展开更多
关键词 sige bicmos 低噪声放大器 BiFET 蓝牙系统
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2.4GHz SiGe BiCMOS功率放大器核心电路设计 被引量:1
17
作者 苏杰 张书霖 +1 位作者 陈磊 赖宗声 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期532-535,共4页
基于宏力半导体有限公司最新的0.18μm SiGe BiCMOS 1P6M工艺,提出了一种应用于2.4-2.5 GHz频段的功率放大器,采用两级共发射极结构,优化了电路结构和元件参数,并使用片上和片外电感电容进行匹配。仿真结果表明,电路在2.4~2.5 GHz频率... 基于宏力半导体有限公司最新的0.18μm SiGe BiCMOS 1P6M工艺,提出了一种应用于2.4-2.5 GHz频段的功率放大器,采用两级共发射极结构,优化了电路结构和元件参数,并使用片上和片外电感电容进行匹配。仿真结果表明,电路在2.4~2.5 GHz频率范围内,增益(S21)达到21 dB,输入和输出匹配(S11,S22)分别达-到17 dB和-22 dB,1 dB输出压缩点为16.7 dBm。在电源电压为3.3 V时,电路总消耗电流为275 mA。 展开更多
关键词 sige bicmos 功率放大器 S参数
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基于SiGe BiCMOS工艺的5GHz低噪声放大器的设计 被引量:3
18
作者 阮颖 朱武 张伟 《上海电力学院学报》 CAS 2013年第5期468-471,共4页
基于0.18μmSiGeBiCMOS工艺,设计了一款应用于WLAN802.11频段的低噪声放大器(LNA).采用了共射级的两级级联结构,发射极运用电感负反馈,有效地提高了增益和线性度.仿真结果表明,在5~6GHz工作频段内,小信号增益S21达20.5dB... 基于0.18μmSiGeBiCMOS工艺,设计了一款应用于WLAN802.11频段的低噪声放大器(LNA).采用了共射级的两级级联结构,发射极运用电感负反馈,有效地提高了增益和线性度.仿真结果表明,在5~6GHz工作频段内,小信号增益S21达20.5dB,噪声系数NF低于2dB,正向传输系数S22小于-19dB和反向传输系数是:小于-18dB,实现了较好的输入输出匹配. 展开更多
关键词 低噪声放大器 噪声系数 sige bicmos工艺 无线局域网
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一种SiGe BiCMOS宽带低噪声放大器设计 被引量:3
19
作者 郭斐 梁煜 +1 位作者 张为 杨雪 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期51-57,66,共8页
为满足宽频带射频通信接收前端低噪声放大器的设计需求,提出一种基于共发射极密勒电容的宽带匹配结构。该结构利用异质结双极性晶体管的密勒电容,将负载纳入输入匹配网络进行设计,从而实现宽带输入匹配。该结构在实现良好的低噪声性能... 为满足宽频带射频通信接收前端低噪声放大器的设计需求,提出一种基于共发射极密勒电容的宽带匹配结构。该结构利用异质结双极性晶体管的密勒电容,将负载纳入输入匹配网络进行设计,从而实现宽带输入匹配。该结构在实现良好的低噪声性能的同时,能够有效拓展放大器的工作频带。基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,设计了一款宽带低噪声放大器,电路采用三级级联结构,首级采用密勒电容宽带匹配结构,可降低噪声并实现输入宽带匹配,后两级采用共基共射结构用于补偿增益。仿真结果表明,在6~30 GHz频带内,低噪声放大器的增益为16.5~19.1 dB,噪声系数为1.43~2.66 dB,输入反射系数S11小于-11.9 dB,输出反射系数S22小于-13.7 dB。放大器在整个频段内无条件稳定。在1.8 V供电电压下电路的直流功耗为38.7 mW,整体芯片面积为0.88 mm^(2)。该低噪声放大器综合性能优良,可应用于宽带接收系统。 展开更多
关键词 宽带低噪声放大器 sige bicmos 噪声 阻抗匹配
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UHFR FID阅读器中SiGe BiCMOS功率放大器的设计 被引量:1
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作者 阮颖 张书霖 《上海电力学院学报》 CAS 2013年第3期238-240,245,共4页
设计了一种工作在860~960 MHz频段内,用于UHF RFID阅读器的单芯片射频功率放大器(PA).概述了PA适用的UHF RFID通信标准和采用的0.18μm SiGe BiCMOS工艺技术,分析了PA匹配电路和自适应偏置电路的设计方法,给出了PA芯片的电路结构和芯... 设计了一种工作在860~960 MHz频段内,用于UHF RFID阅读器的单芯片射频功率放大器(PA).概述了PA适用的UHF RFID通信标准和采用的0.18μm SiGe BiCMOS工艺技术,分析了PA匹配电路和自适应偏置电路的设计方法,给出了PA芯片的电路结构和芯片测试结果. 展开更多
关键词 功率放大器 sige bicmos工艺 超高频 阅读器
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