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溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响 被引量:6
1
作者 张晋敏 郜小勇 +1 位作者 杨宇 陈良尧 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期77-79,共3页
采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪 ,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数 ,测量能量范围为 1.5~ 4.5eV .分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响 .实验结果表明 ,在低能区域 ,... 采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪 ,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数 ,测量能量范围为 1.5~ 4.5eV .分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响 .实验结果表明 ,在低能区域 ,随压强的增加 ,多层膜结构的所有光学常数均有不同程度的增加 ,但在高能区域 ,溅射气压对光学常数的影响不再明显 .多层膜结构的复介电常数的实部和虚部及折射率n的峰位随压强增大而向低能方向位移 ;多层膜结构的消光系数k的峰位随压强的变化很小 ,但其峰值随压强的增加而增加 . 展开更多
关键词 溅射气压 si/ge多层膜 结构 椭偏光谱 光学常数 磁控溅射 硅衬底 大规模集成电路
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离子束溅射制备Si/Ge多层膜的结晶研究 被引量:5
2
作者 邓书康 陈刚 +4 位作者 高立刚 陈亮 俞帆 刘焕林 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期288-291,共4页
采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明... 采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明适量的Ge含量有诱导Si结晶的作用。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 离子束溅射 拉曼光谱 制备方法 薄膜 结构分析
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离子束溅射制备Si/Ge多层膜及红外吸收性能研究 被引量:5
3
作者 刘焕林 郝瑞亭 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期280-284,共5页
采用离子束溅射方法在S i衬底上制备S i/Ge多层膜。通过改变生长温度、溅射速率等因素得到一系列S i/Ge多层膜样品。通过X射线衍射、拉曼散射、原子力显微分析(AFM)等表征方法研究薄膜结构与生长条件的关系。在小束流(10mA)、室温条件... 采用离子束溅射方法在S i衬底上制备S i/Ge多层膜。通过改变生长温度、溅射速率等因素得到一系列S i/Ge多层膜样品。通过X射线衍射、拉曼散射、原子力显微分析(AFM)等表征方法研究薄膜结构与生长条件的关系。在小束流(10mA)、室温条件下制备出界面清晰、周期完整的S i/Ge多层膜。通过红外吸收谱的测量发现薄膜样品具有较好的红外吸收性能。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 离子束溅射 红外探测材料
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Si/Ge异质结构的生长与特性 被引量:2
4
作者 郑有炓 张荣 +4 位作者 胡立群 钟培新 莫水元 李学宁 顾红 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期353-355,共3页
近年来,由Ge,Si这两种晶格失配(4.2%)材料组成的Ge/Si异质结构与Ge/Si应变超晶格,由于共具有重要的科学与技术价值,受到了人们高度重视。分子束外延(MBE)技术已成功地用于生长Ge/Si异质结构和超薄Ge/Si超晶格以及GexSi1-x/Si超晶格。... 近年来,由Ge,Si这两种晶格失配(4.2%)材料组成的Ge/Si异质结构与Ge/Si应变超晶格,由于共具有重要的科学与技术价值,受到了人们高度重视。分子束外延(MBE)技术已成功地用于生长Ge/Si异质结构和超薄Ge/Si超晶格以及GexSi1-x/Si超晶格。化学汽相淀积技术(CVD)与MBE相比,除了设备简单、价格便宜外,对于Ge,Si外延来说,还便于与现有的硅大规模集成工艺技术相结合,使之更富有实用性。近期已有报道用CVD技术生长GexSi1-x/Si异质结构。 展开更多
关键词 si/ge 异质结构 生长 半导体材料
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量子点的形成对Si/Ge界面互扩散的影响
5
作者 周星飞 施斌 +3 位作者 胡冬枝 樊永良 龚大卫 蒋最敏 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期731-734,共4页
在Si(10 0 )衬底上低温生长了一层完全应变的Ge层 ,高温退火形成量子点 .我们用喇曼光谱研究了量子点形成时Si/Ge界面的互扩散现象 ,实验表明量子点的形成伴随着Si/Ge原子之间的互扩散 ,通常在Si衬底上形成的是SiGe合金量子点 ,而不是... 在Si(10 0 )衬底上低温生长了一层完全应变的Ge层 ,高温退火形成量子点 .我们用喇曼光谱研究了量子点形成时Si/Ge界面的互扩散现象 ,实验表明量子点的形成伴随着Si/Ge原子之间的互扩散 ,通常在Si衬底上形成的是SiGe合金量子点 ,而不是纯Ge量子点 . 展开更多
关键词 量子点 si/ge界面互扩散 分子束外延 硅衬底 喇曼光谱
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离子束沉积技术室温生长Si/Ge薄膜的晶化研究
6
作者 杨宇 陈刚 +7 位作者 邓书康 高立刚 刘焕林 吴国元 俞帆 陈长青 陈亮 郝瑞亭 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期881-883,共3页
研究Si的室温晶化生长对微电子应用技术是十分重要的.本文采用离子束外延技术制备了一系列的Si/Ge多层膜结构,对样品进行X射线和拉曼散射实验表征.研究表明:Ge可诱导膜中Si薄层的室温晶化,当Ge厚度略小于Si薄层厚时,获得最佳的Si室温晶... 研究Si的室温晶化生长对微电子应用技术是十分重要的.本文采用离子束外延技术制备了一系列的Si/Ge多层膜结构,对样品进行X射线和拉曼散射实验表征.研究表明:Ge可诱导膜中Si薄层的室温晶化,当Ge厚度略小于Si薄层厚时,获得最佳的Si室温晶化效果. 展开更多
关键词 si/ge多层膜 离子束外延 XRD RAMAN散射
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碱性介质中合成的Ge-ZSM-5结构和物性与Si/Ge比的关系
7
作者 汪颖军 焦庆祝 孙淳伟 《大庆石油学院学报》 CAS 北大核心 1997年第2期106-109,共4页
研究了在碱性介质中以TPABr为模板剂合成的Ge-ZSM-5型分子筛的结构参数和物化性能随样品组成Si/Ge比的不同而发生的变化。结果表明,随着样品Si/Ge比的降低,即Ge对Si同晶取代程度的增大,使得骨架T—O—... 研究了在碱性介质中以TPABr为模板剂合成的Ge-ZSM-5型分子筛的结构参数和物化性能随样品组成Si/Ge比的不同而发生的变化。结果表明,随着样品Si/Ge比的降低,即Ge对Si同晶取代程度的增大,使得骨架T—O—T键长增加,力常数减小,从而导致分子筛的晶胞体积规律性的增大;骨架T—O—T的反对称性伸缩振动、对称性伸缩振动、弯曲振动和次级结构单元振动的红外吸收峰均规律性地向低波数方向位移;孔道对模板剂的束缚能力减小,TPABr脱附温度降低,分子筛对正己烷的吸附量增大;随着反应物中Ge含量的提高,晶化过程中成核密度减小,分子筛晶体粒度呈规律性的增大。 展开更多
关键词 si/ge ge-ZSM-5 分子筛 碱性介质
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(Si/Ge)_n多层薄膜的设计制备及光吸收性能 被引量:1
8
作者 何明霞 刘劲松 +6 位作者 李子全 曹安 刘建宁 丛孟启 蒋维娜 彭洁 余乐 《电子器件》 CAS 北大核心 2012年第1期1-6,共6页
采用射频磁控溅射技术,在石英玻璃衬底上沉积了具有不同层数和厚度的(Si/Ge)n多层薄膜。XRD、Raman光谱测试表明,溅射态薄膜为微晶结构,在溅射过程中层间扩散形成Si-Ge振动键,溅射时间和薄膜层数影响着薄膜层间的扩散和结晶率;FESEM结... 采用射频磁控溅射技术,在石英玻璃衬底上沉积了具有不同层数和厚度的(Si/Ge)n多层薄膜。XRD、Raman光谱测试表明,溅射态薄膜为微晶结构,在溅射过程中层间扩散形成Si-Ge振动键,溅射时间和薄膜层数影响着薄膜层间的扩散和结晶率;FESEM结果表明,薄膜表面由颗粒团簇构成,层与层之间有明显界面。UV-vis光谱测试表明,(Si/Ge)n多层薄膜在可见光范围内具有较宽的吸收,增加薄膜层数可扩大太阳能光谱的响应范围,而增加Si单层膜厚度对光吸收范围的影响较小。 展开更多
关键词 (si/ge)n多层薄膜 射频磁控溅射 层数 厚度 UV-VIS光谱
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Effect of the Transient Response in Si/Ge Parallelizing PN Junction 被引量:10
9
作者 Weiqi HUANGt and Chaogang CHEN(Department of Physics, Guizhou Educational College, Guiyan 550003, China)Ergang CHEN(Department of Physics, Yunnan University, Kunming 650091, China)To whom correspondence should be addressed 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第4期383-383,共1页
There are some new results about photovoltaic transient response in the new effect. We suggest a theoretical model to explain the effect reasonably. The theoretical calculation results agree with that in experiments.
关键词 PN si ge Effect of the Transient Response in si/ge Parallelizing PN Junction
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纳米尺度下Si/Ge界面应力释放机制的分子动力学研究
10
作者 陈仙 张静 唐昭焕 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期208-213,共6页
采用分子动力学方法研究了纳米尺度下硅(Si)基锗(Ge)结构的Si/Ge界面应力分布特征,以及点缺陷层在应力释放过程中的作用机制.结果表明:在纳米尺度下, Si/Ge界面应力分布曲线与Ge尺寸密切相关,界面应力下降速度与Ge尺寸存在近似的线性递... 采用分子动力学方法研究了纳米尺度下硅(Si)基锗(Ge)结构的Si/Ge界面应力分布特征,以及点缺陷层在应力释放过程中的作用机制.结果表明:在纳米尺度下, Si/Ge界面应力分布曲线与Ge尺寸密切相关,界面应力下降速度与Ge尺寸存在近似的线性递减关系;同时,在Si/Ge界面处增加一个富含空位缺陷的缓冲层,可显著改变Si/Ge界面应力分布,在此基础上对比分析了点缺陷在纯Ge结构内部引起应力变化与缺陷密度的关系,缺陷层的引入和缺陷密度的增加可加速界面应力的释放.参考对Si/Ge界面结构的研究结果,可在Si基纯Ge薄膜生长过程中引入缺陷层,并对其结构进行设计,降低界面应力水平,进而降低界面处产生位错缺陷的概率,提高Si基Ge薄膜质量,这一思想在研究报道的Si基Ge膜低温缓冲层生长方法中初步得到了证实. 展开更多
关键词 si/ge界面 分子动力学 界面应力 缺陷层
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小尺寸Si/Ge量子点内应变和组分的拉曼光谱表征 被引量:2
11
作者 谭平恒 周霞 +3 位作者 杨富华 K.Brunner D.Bougeard G.Abstreiter 《光散射学报》 2004年第3期203-207,共5页
本文详细地研究了原始生长和退火处理后的Si/Ge量子点的拉曼光谱。我们观测到了Si/Ge量子点的一系列本征的拉曼振动模以及Ge-Ge模的LO和TO声子峰间4.2cm-1的频率劈裂。通过这些参数,我们自洽地确定了原始生长的平面直径为20nm和高为2nm... 本文详细地研究了原始生长和退火处理后的Si/Ge量子点的拉曼光谱。我们观测到了Si/Ge量子点的一系列本征的拉曼振动模以及Ge-Ge模的LO和TO声子峰间4.2cm-1的频率劈裂。通过这些参数,我们自洽地确定了原始生长的平面直径为20nm和高为2nm的Si/Ge量子点内Ge的平均组分为80%,平均应变为-3.4%。分析清楚地表明了这种小尺寸的Si/Ge量子点内的应变仍遵从双轴应变,并且应变的释放主要由量子点和Si隔离层间Si-Ge原子互扩散决定。 展开更多
关键词 量子点 拉曼光谱 应变 组分 sige原子互扩散
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Si/Ge应变层异质结的价带偏移理论计算
12
作者 王仁智 郑永梅 +2 位作者 柯三黄 黄美纯 朱梓忠 《计算物理》 CSCD 北大核心 1996年第2期136-140,共5页
在应变异质结价带偏移从头算赝势法的理论计算中,建议一种以平均键能为参考能级的△E_v 值理论计算方法,该方法在以 Si 为衬底、以 Ge 为衬底和自由共度生长等3种不同应变情况的 Si/Ge 异质结价带偏移△E_v 值计算中,分别得到0.731eV、0... 在应变异质结价带偏移从头算赝势法的理论计算中,建议一种以平均键能为参考能级的△E_v 值理论计算方法,该方法在以 Si 为衬底、以 Ge 为衬底和自由共度生长等3种不同应变情况的 Si/Ge 异质结价带偏移△E_v 值计算中,分别得到0.731eV、0.243eV 和0.521eV 的计算结果。 展开更多
关键词 异质结 价带偏移 理论计算 锗/硅 半导体
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LATTICE DYNAMICS OF STRAINED Si/Ge SUPERLATTICES
13
作者 ZI Jian ZHANG Kaiming XIE Xide 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1990年第5期230-233,共4页
Lattice dynamics of strained(Si)_(4)/(Ge)_(4) superlattice grown pseudomorphically on (001)-oriented Si_(1-x)Ge_(x)(0≤x≤1)substrate is investigated.In the present calculations,the effects of strain and substrate are... Lattice dynamics of strained(Si)_(4)/(Ge)_(4) superlattice grown pseudomorphically on (001)-oriented Si_(1-x)Ge_(x)(0≤x≤1)substrate is investigated.In the present calculations,the effects of strain and substrate are discussed. 展开更多
关键词 si/ge STRAINED SUPER
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Effects of Strains on Thermal Conductivity of Si/Ge Superlattices
14
作者 ZHANG Xingli GONG Cuizhi WU Guoqiang 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2018年第5期1051-1055,共5页
The effect of strains on the thermal conductivity of Si/Ge superlattices was investigated by nonequilibrium molecular dynamics(NEMD) simulation. The thermal conductivities experienced a near linear drop with increas... The effect of strains on the thermal conductivity of Si/Ge superlattices was investigated by nonequilibrium molecular dynamics(NEMD) simulation. The thermal conductivities experienced a near linear drop with increasing tensile and compressive strains. It was explained by the fact that the decrease of the phonons velocities and a mass of structural defects generated under strains. Meanwhile, a theoretical calculation based on Modified-Callaway model was performed,and it was found that the theoretical results were in good agreement with the molecular dynamics results. 展开更多
关键词 thermal conductivity strains nonequilibrium molecular dynamics si/ge superlattics
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包裹在自组装Si/Ge点超晶格上的声学声子拉曼散射研究(英文)
15
作者 P. H. Tan D. Bougeard +1 位作者 G. Abstreiter K. Brunner 《光散射学报》 2005年第3期312-314,共3页
Self-assembled Si/Ge quantum dot (QD) structures have been intensively studied in the last years for potential applications in Si based integrated optoelectronics [1]. For the demand of many technical applications, Ge... Self-assembled Si/Ge quantum dot (QD) structures have been intensively studied in the last years for potential applications in Si based integrated optoelectronics [1]. For the demand of many technical applications, Ge dot superlattices separated by Si can be deposited in order to increase the optical and electronic response. Raman scattering has proven to be an essential technique to characterize Si/Ge superlattices and Si/Ge dot superlattices [2,3,4]. However, most of Raman studies were concentrated on their optical modes of Si/Ge dot superlattices, but few of them were carried out to characterize the detail structural properties of Si/Ge dot superlattice structures. Here, Self-assembled Si/Ge dot multilayers with small, uncorrelated dots fabricated by molecular beam epitaxy in the Stranski-Krastanov growth mode are studied by Raman scattering of folded longitudinal acoustic (FLA) modes. 展开更多
关键词 si/ge 半导体 超晶格 声子 拉曼散射 量子结构 光电子学
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Phase Formation Mechanism of Al-Si-Ge Filler Metals Based on Thermodynamics Calculation
16
作者 Huang Sen Long Weimin +3 位作者 Shan Jiguo Jiang Chao Jing Peiyao Zhang Guanxing 《稀有金属材料与工程》 北大核心 2025年第2期293-300,共8页
A series of Al-xSi-yGe filler metals(x=4–12 and y=10–40,wt%)were prepared,and the effect of Si and Ge on microstructure and melting characteristics of filler metals was studied.The thermodynamic model of Al-Si-Ge te... A series of Al-xSi-yGe filler metals(x=4–12 and y=10–40,wt%)were prepared,and the effect of Si and Ge on microstructure and melting characteristics of filler metals was studied.The thermodynamic model of Al-Si-Ge ternary alloy was established to analyze the phase formation mechanism of filler metals based on Miedema model,Tanaka model,and Toop equation.This research provided a basis for the composition optimization of filler metals and the analysis of metallurgical reaction process between filler metals and base materials.Results show that Al-Si-Ge alloy is composed of Al-Ge eutectic phase,Al-Si eutectic phase,and primary Si.Ge addition promotes the precipitation of primary Si.Ge is the main melting point depressant element of filler metals.With the increase in Ge content from 10wt%to 40wt%,the solid phase line of filler metals remains unchanged,whereas the liquidus temperature decreases from 567.65°C to 499.96°C.With the increase in Ge content of filler metal,Ge content in eutectic Si phase is increased,the endothermic peak of Al-Si eutectic reaction according to thermogravimetry curve becomes smoother,and Al-Si eutectic temperature is decreased.Ge addition can reduce the free energy of Al-Si alloy system.The lowest point of free energy is located on Al-Ge side.The eutectic Ge phase with the composition similar to pure Ge composition is the most likely to appear in the microstructure of filler metals,whereas the eutectic Si phase with the composition similar to pure Si composition is the least likely to appear.The thermodynamic calculation results are consistent with the experiment results. 展开更多
关键词 Al-si-ge filler metals MICROSTRUCTURE THERMODYNAMICS phase formation mechanism
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溅射Si/Ge多层膜及其发光誊性研究 被引量:2
17
作者 陈寒娴 杨瑞东 +3 位作者 王茺 邓荣斌 孔令德 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期730-732,736,共4页
采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。利用X射线小角衍射、Raman散射光谱和室温光致发光(PL)对样品进行表征。结果表明,2.0~2.3eV之间的发光带是由薄膜中的各种缺陷形成的;1.77~1.84eV之间... 采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。利用X射线小角衍射、Raman散射光谱和室温光致发光(PL)对样品进行表征。结果表明,2.0~2.3eV之间的发光带是由薄膜中的各种缺陷形成的;1.77~1.84eV之间的发光带来自薄膜中的非晶结构和晶粒间的缺陷;1.53eV发光峰则可能源于纳米Ge晶粒发光。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 可见光致发光 离子束溅射
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离子束溅射Si/Ge多层膜的界面结构研究 被引量:1
18
作者 陈寒娴 杨瑞东 +3 位作者 邓荣斌 秦芳 王茺 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A10期4075-4077,共3页
采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。通过Raman光谱和X射线小角衍射对薄膜进行了表征和分析,发现随着生长周期数的增加,层与层之间的互扩散效应逐渐减弱,界面结构逐渐清晰,生长周期为25的样品界... 采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。通过Raman光谱和X射线小角衍射对薄膜进行了表征和分析,发现随着生长周期数的增加,层与层之间的互扩散效应逐渐减弱,界面结构逐渐清晰,生长周期为25的样品界面最平整。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 界面结构 离子束溅射
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离子束溅射制备Si/Ge多层膜研究
19
作者 刘焕林 郝瑞亭 +1 位作者 陈刚 杨宇 《中国材料科技与设备》 2006年第2期55-57,共3页
采用离子束溅射方法在Si衬底上制备Si/Ge多层膜,通过改变生长温度、溅射速率等因素得到一系列Si/Ge多层膜样品;通过X射线衍射、Raman散射等表征方法研究薄膜结构与生长条件的关系。在小束流(10mA)、室温条件下制备出界面清晰、周... 采用离子束溅射方法在Si衬底上制备Si/Ge多层膜,通过改变生长温度、溅射速率等因素得到一系列Si/Ge多层膜样品;通过X射线衍射、Raman散射等表征方法研究薄膜结构与生长条件的关系。在小束流(10mA)、室温条件下制备出界面清晰、周期完整的Si/Ge多层膜。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 离子束溅射 红外探测材料
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非化学计量比MnFe(P,Si,Ge)合金在低场下的磁热效应 被引量:14
20
作者 王高峰 松林 +3 位作者 李福安 哈斯朝鲁 李新文 特古斯 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期889-892,共4页
通过XRD和磁性测量对非化学计量比MnFe(P,Si,Ge)合金的相组成和磁性进行了研究.xRD分析表明。所有样品都具有Fe_2P型六角结构,主相为(Re,Mn)_2(P,Si,Ge),并存在少量的第二相(Fe,Mn)_3(Si,Ge).过量的Mn和Fe都会使合金的Curie温度降低,由3... 通过XRD和磁性测量对非化学计量比MnFe(P,Si,Ge)合金的相组成和磁性进行了研究.xRD分析表明。所有样品都具有Fe_2P型六角结构,主相为(Re,Mn)_2(P,Si,Ge),并存在少量的第二相(Fe,Mn)_3(Si,Ge).过量的Mn和Fe都会使合金的Curie温度降低,由343K(化学计量比)降低到294K(过量Mn)和286K(过量Fe);过量的Mn能减小热滞,而过量的Fe会使热滞增加;磁熵变也有所减小,在1.5T的磁场下,最大磁熵变由5.2J/(kg·K)(化学计量比)减小到4.9J/(kg·K)(过量Mn)和3.8J/(kg·K)(过量Fe). 展开更多
关键词 MnFe(P si ge)合金 非化学计量比 CURIE温度 热滞 磁熵变
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