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惠普彩喷色彩分层技术PhotoREt
1
《中国图象图形学报（A辑）》 CSCD 北大核心 2003年第2期192-192,共1页
关键词 惠普公司 彩喷色彩分层 photoret 打印机
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Li/Nb摩尔比变化对Mg:Sc:Fe:LiNbO_3晶体光折变性能的影响 被引量：3
2
作者 郑威 桂强 +1 位作者 李光滨 徐玉恒 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1088-1092,共5页
掺入摩尔分数为1%MgO,0.5%Sc2O3和质量分数为0.03%Fe2O3,从 Li与Nb 摩尔比分别为0.85,0.94,1.05,1.20和1.38的熔体中用提拉法生长Mg:Sc:Fe:LiNbO3(Mg:Sc:Fe:LN)晶体。测试了晶体的紫外–可见吸收光谱和红外光谱、抗光损伤能力、衍射效... 掺入摩尔分数为1%MgO,0.5%Sc2O3和质量分数为0.03%Fe2O3,从 Li与Nb 摩尔比分别为0.85,0.94,1.05,1.20和1.38的熔体中用提拉法生长Mg:Sc:Fe:LiNbO3(Mg:Sc:Fe:LN)晶体。测试了晶体的紫外–可见吸收光谱和红外光谱、抗光损伤能力、衍射效率、响应时间和光折变灵敏度。结果表明:随着Li/Nb摩尔比增加,Mg:Sc:Fe:LN 晶体的吸收边发生紫移;n(Li)/n(Nb)=1.05 的晶体分别在3466,3481cm–1和3504 cm–1处出现 OH–吸收峰;n(Li)/n(Nb)=1.38 的晶体在3504cm–1和 3535 cm–1处出现OH–吸收峰。随n(Li)/n(Nb)的增加,Mg:Sc:Fe:LN 晶体的衍射效率减小,响应速度和光折变灵敏度增大。n(Li)/n(Nb)=1.05 的近化学计量比 Mg:Sc:Fe:LN 晶体的抗光损伤能力最高。 展开更多
关键词 镁钪铁掺杂铌酸锂晶体 提拉法 光折变性能 红外光谱
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工作的乐趣 hp psc2310多功能一体机
3
作者 王泉 《个人电脑》 2003年第11期53-53,共1页
关键词 惠普公司 多功能一体机 HP PSC 2310 即时打印功能 photoret 4技术
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