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Formation of non-equilibrium phases and associated structural transition in the Pd-Ta system induced by ion beam mixing 被引量:1
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作者 ZHAO Man DAI Ye +1 位作者 LI JiaHao LIU BaiXin 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2011年第3期676-681,共6页
For the Pd-Ta system characterized by a negative heat of formation of -78 kJ/mol, 200 keV xenon ion beam mixing with nano-sized Pd-Ta multilayered films was conducted to study the non-equilibrium phase formation. The ... For the Pd-Ta system characterized by a negative heat of formation of -78 kJ/mol, 200 keV xenon ion beam mixing with nano-sized Pd-Ta multilayered films was conducted to study the non-equilibrium phase formation. The results showed that uniform amorphous alloys can be formed within a composition range of 25 at%-78 at% Ta, which falls in the maximum possible amorphization range of 22 at%-80 at% Ta predicted by the empirical model. Moreover, two metastable crystalline phases both of FCC structure, yet with different lattice constants were obtained. Interestingly, a self-assembled fractal pattern was observed in the Pd52Ta48 multilayered films after irradiation to a dose of 1×1015 Xe+/cm2 and its dimension was determined to be 1.75±0.05. The possible mechanisms for the formation of amorphous and metastable crystalline phases as well as for the growth of the fractal pattern were discussed. 展开更多
关键词 amorphous phase pd-ta alloy ion beam mixing metastable crystalline phase FRACTAL
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Ta表面氧含量的调控及Pd/Ta复合膜的制备研究 被引量:2
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作者 李广忠 王昊 李亚宁 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第7期2505-2510,共6页
以Ta箔为研究对象,分别采用机械抛光和化学抛光的方法进行了Ta箔表面氧含量的调控研究,研究结果表明,机械抛光目前较难获得相对“洁净”的Ta表面,需结合氩离子溅射才可以获得氧含量很低的Ta膜;化学抛光能获得相对“洁净”的Ta表面。Ta... 以Ta箔为研究对象,分别采用机械抛光和化学抛光的方法进行了Ta箔表面氧含量的调控研究,研究结果表明,机械抛光目前较难获得相对“洁净”的Ta表面,需结合氩离子溅射才可以获得氧含量很低的Ta膜;化学抛光能获得相对“洁净”的Ta表面。Ta箔表面经化学抛光处理后,进行Pd/Ta复合膜的化学镀制备研究。通过控制化学镀的时间,在Ta箔表面获得了完整均匀且无孔洞的Pd膜,该Pd膜的厚度约2.8μm。 展开更多
关键词 TA 表面处理 Pd/Ta复合膜 化学镀
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钯/多孔钽/钽复合膜的制备及表征
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作者 李广忠 王昊 +1 位作者 李亚宁 黄愿平 《粉末冶金技术》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期632-637,共6页
通过喷涂-烧结工艺在钽箔表面获得了一层多孔钽膜,以多孔钽/钽为基体,采用化学镀钯工艺获得了钯/多孔钽/钽复合膜,研究了烧结温度对多孔钽膜形貌的影响,并分析了钯膜的生长行为。结果表明,烧结温度对多孔钽膜的结构具有显著影响,1700℃... 通过喷涂-烧结工艺在钽箔表面获得了一层多孔钽膜,以多孔钽/钽为基体,采用化学镀钯工艺获得了钯/多孔钽/钽复合膜,研究了烧结温度对多孔钽膜形貌的影响,并分析了钯膜的生长行为。结果表明,烧结温度对多孔钽膜的结构具有显著影响,1700℃烧结2 h可获得烧结颈发育良好的多孔钽膜。化学镀时间对多孔钽膜表面的钯膜具有显著的影响,且由于多孔钽膜表面结构复杂,不易在多孔钽表面获得均匀、致密的钯膜。 展开更多
关键词 多孔钽膜 化学镀 钯膜
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