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PVD-ARC[ION BOND]涂层工艺的特性及发展前景: 1; 作者胡兆友《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 1989年第1期30-32,共3页; 前言自从1961年苏联推出了第一台等离子涂层设备以来,等离子涂层被广泛地用于各种不同类型的高速钢刀具和硬质合金刀具。等离子TiN涂层工艺的出现,被认为是高速钢的一次革命。1986年西方国家每年大约有两千万件高速钢刀具采用了PVD涂层... 展开更多; 关键词 PVD涂层 pvd-arc 涂层; 全文增补中

硬质薄膜技术的最新发展被引量：12: 2; 作者杨林生王君陈长琦《真空》 CAS 北大核心 2009年第6期35-39,共5页; 为满足各技术领域的要求,硬质薄膜业近年来得到了广泛的发展和应用。本文介绍了硬质薄膜技术的最新发展状况,阐述了各技术的特点和代表厂商。首先对CVD及其相关技术的发展情况进行了简介,再对PVD技术在硬质薄膜领域的应用进行了详述,最... 展开更多; 关键词硬质薄膜化学气相沉积物理气相沉积阴极电弧磁控溅射; 原文传递

电子束物理气相沉积热障涂层抗冲蚀性能研究被引量：5: 3; 作者蔡妍李建平 +2 位作者何利民牟仁德黄光宏《真空》 CAS 2014年第2期27-30,共4页; 本文采用真空电弧镀技术(AIP)在DZ408高温合金基体上沉积HY3(NiCrAlYSi)金属粘结层,采用电子束物理气相沉积技术(EB-PVD)在HY3粘结层上沉积YSZ陶瓷面层,研究了热障涂层的抗冲蚀性能。对于沉积热障涂层的试样进行了抗冲蚀试验,来评价其... 展开更多; 关键词冲蚀热障涂层电子束物理气相沉积电弧离子镀; 原文传递

类金刚石薄膜的光学性能的研究被引量：7: 4; 作者梁海锋严一心《光学仪器》 2004年第2期183-186,共4页; 利用脉冲真空电弧镀的方法,在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜的光学性能、光学常数和离子能量关系。结果表明:不同的离子能量可以得到不同折射率的薄膜,无氢类金刚石薄膜的折射率在2.5～2.7之间变化;通过改变工艺条件来制备不同折... 展开更多; 关键词类金刚石薄膜脉冲电弧光学性能物理汽相沉积化学汽相沉积; 在线阅读下载PDF 职称材料

脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrN_x薄膜的制备与性能研究: 5; 作者葛高峰赵广彬 +2 位作者蒙志林谭刚肖鹏《真空》 CAS 2013年第2期34-37,共4页; 采用脉冲叠加直流偏压电弧离子镀技术在硬质合金刀具表面制备TiCrNx薄膜,利用XRD,SEM,多功能材料表面性能测试仪等对TiCrNx薄膜进行表征。结果表明,TiCrNx与TiN薄膜相比,硬度有所下降。膜-基结合力与靶材阴极弧电流及偏压有关。; 关键词脉冲叠加直流偏压电弧离子镀 TiCrNx 薄膜 PVD; 原文传递

添加Cu对PVD AlTiN涂层组织结构和性能的影响被引量：4: 6; 作者潘晨曦陈康华 +3 位作者徐银超王云志祝昌军陈浩《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2016年第5期717-721,共5页; 采用阴极弧蒸发离子镀在硬质合金刀具基体上分别沉积AlTiN和AlTiN-Cu涂层。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、纳米压痕仪等分析测试手段研究涂层形貌、组织结构和力学性能的影响规律,并对两种涂层刀具的切削性能进行研究。结果表明... 展开更多; 关键词 AlTiN CU PVD 阴极弧离子镀纳米涂层; 在线阅读下载PDF 职称材料

太阳能高反射薄膜制备技术对薄膜性能的影响被引量：4: 7; 作者李海兵徐勇军 +2 位作者蔡其文涂伟萍廖俊旭《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期34-40,共7页; 采用磁过滤阴极真空弧沉积（FCVAD）与磁控溅射（MS）两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表... 展开更多; 关键词光学薄膜物理气相沉积磁过滤阴极真空弧沉积磁控溅射高反射膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

多弧物理气相沉积技术制备(TiAl)N 超硬膜被引量：1: 8; 作者刘全顺张静茹王金发《真空与低温》 1998年第2期108-110,共3页; 主要介绍采用多弧物理气相沉积（ＰＶＤ）技术研制新型（ＴｉＡｌ）Ｎ超硬膜的工艺技术特点。对其膜层相结构、化学成分、显微组织等方面做了分析研究。结合工业生产实际应用进行了（ＴｉＡｌ）Ｎ与ＴｉＮ涂层刀具切削耐用度对比试验。; 关键词多弧物理气相沉积超硬膜薄膜 (TiAl)N; 在线阅读下载PDF 职称材料

转子钢20Cr13表面硬质PVD涂层摩擦磨损性能分析: 9; 作者杨剑沙鹏 +2 位作者李伟沈奎双雷学林《华东理工大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期146-152,共7页; 通过多弧离子镀与磁控溅射结合工艺在20Cr13表面分别制备CrN、TiN、TiAlCrN3种PVD涂层,研究3种涂层的摩擦磨损性能。结果表明,各类涂层均能提升基材性能,其中TiAlCrN涂层试样硬度较高(67 845 N/mm~2),CrN涂层试样薄膜结合力较高(30 N)... 展开更多; 关键词转子多弧离子镀磁控溅射 PVD涂层摩擦磨损; 在线阅读下载PDF 职称材料

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