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用PMCZ法生长的单晶硅中氧和电阻率的均匀性 被引量:3
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作者 张维连 孙军生 +5 位作者 张恩怀 李嘉席 吴小双 高树良 胡元庆 刘俊奇 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期455-458,共4页
用永磁体环形磁场直拉(PMCZ)炉代替普通的MCZ炉生长了质量较高的单晶硅.在PMCZ炉中水平辐射状磁力线均匀分布,可有效地抑制熔体中不规则的对流和固液界面处的温度波动,降低以至消除微观生长速率的起伏.在用PMCZ法... 用永磁体环形磁场直拉(PMCZ)炉代替普通的MCZ炉生长了质量较高的单晶硅.在PMCZ炉中水平辐射状磁力线均匀分布,可有效地抑制熔体中不规则的对流和固液界面处的温度波动,降低以至消除微观生长速率的起伏.在用PMCZ法生长的硅晶体中氧浓度较低,杂质的径向分布均匀性好.简单地讨论了PMCZ法控氧优于普通MCZ法的机理. 展开更多
关键词 热对流 氧杂质 单晶硅 电阻率 pmcz 晶体生长 永磁场直拉炉
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利用装置环形永磁场的直拉炉(PMCZ)生长单晶硅和掺锗硅晶体 被引量:4
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作者 张维连 孙军生 +1 位作者 张恩怀 李嘉席 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期309-312,共4页
设计了一种永磁 (钕铁硼 )环形磁场装置代替常规电磁场用于直拉炉生长单晶硅和掺锗单晶硅 (PMCZ法 ) .磁力线呈水平辐射状均匀分布 .只要磁场强度足够强 ,即可有效地抑制熔体中热对流和晶体旋转产生的离心强迫对流 ,从而有效地抑制了固... 设计了一种永磁 (钕铁硼 )环形磁场装置代替常规电磁场用于直拉炉生长单晶硅和掺锗单晶硅 (PMCZ法 ) .磁力线呈水平辐射状均匀分布 .只要磁场强度足够强 ,即可有效地抑制熔体中热对流和晶体旋转产生的离心强迫对流 ,从而有效地抑制了固液界面处的温度波动 ,降低以至消除微观生长速率的起伏 ,造成了一种类似于空间微重力环境下生长晶体的条件 .在这种条件下 ,杂质和掺杂剂的运动方式受扩散规律控制 .利用这种装置生长了掺锗 (Ge∶ Si重量比为 1.0 % ,5 .0 %和 10 .0 % )和不掺锗的硅晶体 ,获得了氧浓度较低 ,掺杂剂径向分布均匀性好的较高质量的晶体 .该装置磁场强度可方便地通过调节磁环之间相对位置及磁环相对固液界面位置进行调控 。 展开更多
关键词 永磁场 直拉炉 锗硅单晶 单晶硅 掺杂
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Bulk single crystal growth of SiGe by PMCZ method 被引量:3
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作者 ZHANG Weilian, NIU Xinhuan, CHEN Hongjian, ZHANG Jianxin, SUN Junsheng, and ZHANG EnhuaiSemiconductor Material Institute, Hebei University of Technology, Tian jin 300130, China 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第3期197-201,共5页
A new type of magnetic device was used to replace the conventionalelectro-magnetic field for CZSi (doped with Ge) growth. The device was composed of three permanentmagnetic rings and called PMCZ device. The lines of m... A new type of magnetic device was used to replace the conventionalelectro-magnetic field for CZSi (doped with Ge) growth. The device was composed of three permanentmagnetic rings and called PMCZ device. The lines of magnetic force are horizontally distributed atradial 360℃. Using the ring permanent magnetic field, thermal convection in melt and centrifugalpumping flows due to crystal rotation could be strongly suppressed so that the fluctuations oftemperature and micro-growth rate at solid/liquid interface could be restrained effectively. In thePMCZ condition, the growing environment of SiGe bulk single crystal was similar to the crystalgrowth in space under the condition of micro-gravity. The motion of impurities (Ge, oxygen, etc.)had been controlled by diffusion near the solid/liquid interface. Oxygen concentration became lowerand the distribution of composition became more homogeneous along longitudinal direction and acrossa radial section in the grown SiGe crystal. The mechanism of PMCZ superior to MCZ was alsodiscussed. 展开更多
关键词 SiGe single crystal composition homogeneous pmcz thermal convection crystal growth
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