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常压等离子体增强化学气相沉积纳米晶TiO_2多孔薄膜的研究 被引量:3
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作者 李岩 徐绍魁 +1 位作者 徐金洲 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期108-113,共6页
采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法及TiCl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TiO2多孔薄膜.利用偏光显微镜分析(PM)、扫描电子显微镜分析(SEM)、高分辨透射电镜分析(HRTEM)、X光衍射分析(XRD)等检测手段,系统地对纳米晶TiO... 采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法及TiCl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TiO2多孔薄膜.利用偏光显微镜分析(PM)、扫描电子显微镜分析(SEM)、高分辨透射电镜分析(HRTEM)、X光衍射分析(XRD)等检测手段,系统地对纳米晶TiO2多孔膜表面形貌以及成分进行表征.研究结果表明:使用等离子体化学气相沉积方法,可以在常温常压下快速沉积纳米晶TiO2多孔薄膜,并且PE-CVD与传统的化学方法相比具有低能耗、低污染、方法简便、成本低等优点,是具有良好发展前景的纳米晶多孔薄膜制备新方法. 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积(pe-cvd) TiO2多孔薄膜 纳米晶结构
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基底对类金刚石薄膜组织性能的影响 被引量:2
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作者 陈雪娇 周艳文 +4 位作者 徐振 张晶 张豫坤 徐帅 陈星宇 《特种铸造及有色合金》 CAS 北大核心 2019年第7期706-710,共5页
采用等离子体增强化学气相沉积技术,在3种不同基底上(不锈钢、铝合金、氮化硅)制备了类金刚石薄膜(DLC),并对薄膜进行了相关的性能评价。结果表明,3种基底上制得的DLC薄膜结构致密,表面光滑且具有良好的均匀性;AFM表征结果表明,沉积的... 采用等离子体增强化学气相沉积技术,在3种不同基底上(不锈钢、铝合金、氮化硅)制备了类金刚石薄膜(DLC),并对薄膜进行了相关的性能评价。结果表明,3种基底上制得的DLC薄膜结构致密,表面光滑且具有良好的均匀性;AFM表征结果表明,沉积的薄膜为无定型结构;Raman光谱分析显示沉积的薄膜为类金刚石薄膜;在非金属上采用等离子体化学气相沉积技术可以制备出DLC薄膜。与铝合金、氮化硅相比,选用不锈钢作为基底的薄膜硬度和弹性模量与基底差异更小,膜基结合力较强,可达13.55N;基底为氮化硅的薄膜摩擦因数较低,为0.094 8,但膜基结合力较差,仅为6.63N。此外,在相同工艺下,基底种类对薄膜的成分和耐摩擦磨损性能影响显著,但对薄膜的表面形貌和粗糙度无明显影响。 展开更多
关键词 DLC pe-cvd技术 掺杂 拉曼 AFM
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工作气体对含氢DLC涂层热稳定性及力学性能的影响 被引量:4
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作者 毕君 彭继华 +1 位作者 李烈军 周峰 《材料保护》 CAS CSCD 2021年第6期16-21,63,共7页
为了揭示工作气体对DLC涂层的影响及为DLC在高温下的应用提供参考,通过通过控制工作气体中乙炔含量(C_(2)H_(2)/Ar流量比=100∶0、75∶25、50∶50),采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)技术在304不锈钢基体上制备不同含氢量类金刚石薄... 为了揭示工作气体对DLC涂层的影响及为DLC在高温下的应用提供参考,通过通过控制工作气体中乙炔含量(C_(2)H_(2)/Ar流量比=100∶0、75∶25、50∶50),采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)技术在304不锈钢基体上制备不同含氢量类金刚石薄膜(a-C:H);采用红外退火装置对样品进行了恒温退火处理,使用球-盘式摩擦仪测试了它们的摩擦曲线,并使用显微硬度仪测量了各种处理状态下的显微硬度;使用差热分析仪、拉曼光谱、红外光谱、场发射扫描电镜等分析表征了薄膜的组织结构。研究结果表明:工作气体中乙炔的含量影响DLC涂层的表面形貌和生长速度。随着工作气体中乙炔含量降低,涂层表面趋于光滑平整;DLC生长厚度随工作气体中乙炔含量的减少间呈非线性关系减薄。3组涂层中,75%乙炔制备的涂层sp 3含量最低,但直到高于490℃时退火其I D/I G才开始迅速增加;且从制备态到各种退火态其硬度均高于乙炔含量为100%和50%的工作气体制备的DLC涂层。在相同的压力下,不同C_(2)H_(2)/Ar流量比的类金刚石薄膜的摩擦系数并没有明显的变化,在低温度退火之后的摩擦系数也没有明显的规律,只是在较高温度(490℃)以上,薄膜因为受到高温作用而加速了sp^(3)到sp^(2)的转变从而生成了大量石墨相,导致摩擦系数的下降。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 pe-cvd 工作气体 热稳定性 力学性能
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等离子体增强化学气相沉积制备的ZnO薄膜研究 被引量:3
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作者 郭爱波 刘玉萍 +4 位作者 陈枫 李斌 但敏 刘明海 胡希伟 《表面技术》 EI CAS CSCD 2006年第6期5-7,共3页
鉴于ZnO薄膜材料的多功能性,用等离子体增强化学气相沉积方法在金属Cu和普通玻璃上生长了ZnO薄膜。扫描电子显微镜获得其表面形貌;能谱分析获得其元素种类及相对含量,在能谱图上明显地观察到了Zn峰和O峰的存在,且Cu基上Zn和O原子比接近1... 鉴于ZnO薄膜材料的多功能性,用等离子体增强化学气相沉积方法在金属Cu和普通玻璃上生长了ZnO薄膜。扫描电子显微镜获得其表面形貌;能谱分析获得其元素种类及相对含量,在能谱图上明显地观察到了Zn峰和O峰的存在,且Cu基上Zn和O原子比接近1∶1;X射线光电子能谱分析得出样品中的Zn和O全部以化合态存在而不存在Zn原子和O原子。但Cu基上的ZnO薄膜易吸收空气中的氧和水蒸汽,薄膜质量期望通过生长合适过渡层得到改善。 展开更多
关键词 等离子体增强 化学气相沉积 SEM EDAX XPS 衬底
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偏压对低气压等离子体增强化学气相沉积TiO_2薄膜的结构和性能的影响 被引量:4
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作者 刘伟 李岩 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期103-107,共5页
使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉... 使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉冲偏压的情况下成膜的比较.在沉积的过程中,利用USB-2000型光纤光谱仪对等离子体的发射光谱进行测量,定性分析等离子体沉积过程中的成分组成.用UV-1901探讨薄膜的光学特性,发现紫外和近紫外区域有一定吸收;用扫描电镜分析薄膜表面形貌的变化,可以看到偏压下的薄膜致密无孔,而远离偏压下的薄膜形貌粗糙;用红外光谱分析薄膜的结构组成,可以看到明显的Ti—O吸收峰.脉冲偏压下得到的薄膜在化学、光学以及电学方面有很好应用前景. 展开更多
关键词 TiO2 等离子体 脉冲偏压 等离子体增强化学气相沉积(PE—CVD)
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Plasma Enhanced-Chemical Vapour Deposition of Scuff-Resistant Hydrogenated Amorphous Carbon Coatings on C100 Steel
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作者 Nicoletta De Vietro Gianluigi Intonti +3 位作者 Francesco Fracassi Gianluca Quarta Lucio Maruccio Lucio Calcagnile 《Journal of Surface Engineered Materials and Advanced Technology》 2014年第3期131-139,共9页
Hydrogenated amorphous carbon coatings, deposited by low pressure plasma to minimize the wear of C100 steel components, were optimized and characterized. In order to ensure good adhesion of the films to the steel surf... Hydrogenated amorphous carbon coatings, deposited by low pressure plasma to minimize the wear of C100 steel components, were optimized and characterized. In order to ensure good adhesion of the films to the steel surface, a thin Ti interlayer was deposited, by magnetron sputtering, before the plasma deposition. The chemical characterization of the deposits was performed by means of RAMAN, XPS, RBS and ERDA analysis, while nanoindentation, nanoscratch and nanowear tests allowed to estimating the tribomechanical properties of the deposits, with the aim of evaluating their scuff-resistance. It was found that the optimized plasma deposited hydrogenated amorphous carbon coatings were well adherent to C100 steel and increased more than 70% its surface hardness. 展开更多
关键词 pe-cvd C100 STEEL Scuff-Resistant a-C:H COATINGS
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热丝和射频等离子体化学气相沉积法制备定向碳纳米管薄膜 被引量:6
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作者 朱清锋 张海燕 +3 位作者 陈易明 陈雨婷 陈列春 杨大勇 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1824-1827,共4页
采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PKHF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体,在较低衬底温度下(500℃),用简单的催化剂制备方法——旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅衬底上制... 采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PKHF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体,在较低衬底温度下(500℃),用简单的催化剂制备方法——旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅衬底上制备出了垂直于硅片且定向生长的碳纳米管薄膜。扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)结果显示,1mol/l的硝酸镍溶液旋涂硅片所得催化剂制得的碳纳米管管径为30-50nm,长度超过4μm,定向性好,并用拉曼光谱(Raman)对不同摩尔浓度Ni(NO3)2溶液条件下制备的碳纳米管薄膜样品进行了表征。 展开更多
关键词 薄膜光学 定向碳纳米管薄膜 低温制备 热丝射频等离子体增强化学气相沉积 旋涂法
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