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对改性晶圆上制备的PDSOI NMOS器件热载流子效应的全面认识
1
作者
刘春媚
杨旭
+3 位作者
朱慧龙
胡志远
毕大炜
张正选
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第12期2157-2167,共11页
通过与常规器件的对比,本文详细研究了在硅离子注入改性晶圆上制备的PDSOI NMOS的热载流子诱导退化现象。理论分析和TCAD模拟结果表明,硅离子注入在埋氧层中引入的电子陷阱能够捕获注入的电子,并通过改变电场来影响氧化层的热载流子退...
通过与常规器件的对比,本文详细研究了在硅离子注入改性晶圆上制备的PDSOI NMOS的热载流子诱导退化现象。理论分析和TCAD模拟结果表明,硅离子注入在埋氧层中引入的电子陷阱能够捕获注入的电子,并通过改变电场来影响氧化层的热载流子退化。在不同的应力条件下,其效果也有所不同。对改性器件施加热载流子应力时,改性器件的前栅和背栅之间存在着更明显的相互作用。同时,探讨了总剂量辐照对改性器件热载流子退化的影响。在改性器件中存在辐照增强的热载流子退化,高温退火只能部分消除这一影响。
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关键词
热载流子效应
总剂量效应
辐射加固
pdsoi
nmos
改性器件
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题名
对改性晶圆上制备的PDSOI NMOS器件热载流子效应的全面认识
1
作者
刘春媚
杨旭
朱慧龙
胡志远
毕大炜
张正选
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能国家重点实验室
中国科学院大学
华天科技(昆山)电子有限公司
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第12期2157-2167,共11页
基金
Supported by Jiangsu Enterprise Academician Workstation Project。
文摘
通过与常规器件的对比,本文详细研究了在硅离子注入改性晶圆上制备的PDSOI NMOS的热载流子诱导退化现象。理论分析和TCAD模拟结果表明,硅离子注入在埋氧层中引入的电子陷阱能够捕获注入的电子,并通过改变电场来影响氧化层的热载流子退化。在不同的应力条件下,其效果也有所不同。对改性器件施加热载流子应力时,改性器件的前栅和背栅之间存在着更明显的相互作用。同时,探讨了总剂量辐照对改性器件热载流子退化的影响。在改性器件中存在辐照增强的热载流子退化,高温退火只能部分消除这一影响。
关键词
热载流子效应
总剂量效应
辐射加固
pdsoi
nmos
改性器件
Keywords
hot carrier effect
total dose irradiation
radiation hardening
pdsoi nmos
modified device
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
对改性晶圆上制备的PDSOI NMOS器件热载流子效应的全面认识
刘春媚
杨旭
朱慧龙
胡志远
毕大炜
张正选
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021
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