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基于PC_Based控制器的ALD设备控制系统设计
1
作者
汤晨宇
李义华
张洪国
《机械工程与自动化》
2026年第1期196-198,共3页
原子层沉积是特殊的化学气相沉积,是一种先进的沉积技术。通过分解ALD设备的工艺需求,分析原ALD设备控制系统存在的不足,最终选用倍福的CX系列PC_Based控制器作为主控制器,结合昆仑通态TPC1570Gn触摸屏和欧姆龙的NX系列温控模块组成ALD...
原子层沉积是特殊的化学气相沉积,是一种先进的沉积技术。通过分解ALD设备的工艺需求,分析原ALD设备控制系统存在的不足,最终选用倍福的CX系列PC_Based控制器作为主控制器,结合昆仑通态TPC1570Gn触摸屏和欧姆龙的NX系列温控模块组成ALD设备的控制系统,并对该系统的硬件通信连接进行了设计,同时还对控制程序的一些难点进行了阐述和分析。最后将该系统应用在ALD设备上进行验证,工艺实验结果表明该控制系统远优于原控制系统。
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关键词
原子层沉积
pc_based
HMI
控制系统
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职称材料
题名
基于PC_Based控制器的ALD设备控制系统设计
1
作者
汤晨宇
李义华
张洪国
机构
江苏鹏举半导体设备技术有限公司
出处
《机械工程与自动化》
2026年第1期196-198,共3页
文摘
原子层沉积是特殊的化学气相沉积,是一种先进的沉积技术。通过分解ALD设备的工艺需求,分析原ALD设备控制系统存在的不足,最终选用倍福的CX系列PC_Based控制器作为主控制器,结合昆仑通态TPC1570Gn触摸屏和欧姆龙的NX系列温控模块组成ALD设备的控制系统,并对该系统的硬件通信连接进行了设计,同时还对控制程序的一些难点进行了阐述和分析。最后将该系统应用在ALD设备上进行验证,工艺实验结果表明该控制系统远优于原控制系统。
关键词
原子层沉积
pc_based
HMI
控制系统
Keywords
atomic layer deposition
pc_based
HMI
control system
分类号
TP273 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
基于PC_Based控制器的ALD设备控制系统设计
汤晨宇
李义华
张洪国
《机械工程与自动化》
2026
0
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