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基底温度对NiOx薄膜性质的影响及其电致变色机理研究 被引量:2
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作者 张金伟 刁训刚 +3 位作者 王怀义 王天民 武哲 舒远杰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期189-193,共5页
采用磁控溅射法在不同基底温度的条件下制备NiOx薄膜。对制备的薄膜采用XRD、SEM、Raman、XPS、可见光分光光度计及循环伏安曲线等测试手段进行对比分析。结果表明,在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2+离子参... 采用磁控溅射法在不同基底温度的条件下制备NiOx薄膜。对制备的薄膜采用XRD、SEM、Raman、XPS、可见光分光光度计及循环伏安曲线等测试手段进行对比分析。结果表明,在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2+离子参与变色反应,同时薄膜中疏松的孔洞有利于离子进出。SEM图中可以看出液氮流量越大,温度越低则晶粒越小,会造成沉积组织明显疏松,这些孔隙非常有利于H+的拉入抽出。通过Raman测试发现,低温沉积的薄膜可以提供更多的Ni2+空位。XPS测试发现NiOx薄膜在KOH溶液中的变色是由H+引起的,反应机理为:Ni(OH)2 NiOOH+H++e-。循环伏安测试发现173 K条件下制备的NiOx薄膜(η=38.2 cm2/C,λ=550 nm)比室温制备的NiOx薄膜(η=16.3 cm2/C,λ=550 nm)有更高的着色系数,表现出更好的变色效率。 展开更多
关键词 液氮 低温 niox 电致变色
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磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜 被引量:1
2
作者 王怀义 刁训刚 +4 位作者 王武育 杨海刚 丁芃 郝维昌 王天民 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1618-1621,共4页
利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节。
关键词 磁控溅射 纳米微晶 niox薄膜
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基于WO3/NiOx膜系的固态电致变色器件研究
3
作者 冯博学 何毓阳 +6 位作者 陈冲 伞海生 刘化然 张欣 刘金良 唐为国 尹经敏 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1413-1417,1421,共6页
氧化钨和氧化镍是目前研究最多、应用最广的两种电致变色材料.本文详细地介绍了本实验室射频溅射WO3和NiOx薄膜的制备和性能以及以它们为基的夹层式固态电致变色器件的制作和性能.
关键词 WO3 niox 电致变色 射频溅射 电解质
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Absence of superconductivity in Nd0.8Sr0.2NiOx thin films without chemical reduction 被引量:1
4
作者 Xiao-Rong Zhou Ze-Xin Feng +9 位作者 Pei-Xin Qin Han Yan Shuai Hu Hui-Xin Guo Xiao-Ning Wang Hao-Jiang Wu Xin Zhang Hong-Yu Chen Xue-Peng Qiu Zhi-Qi Liu 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第4期368-374,共7页
The recently reported 9-15 K superconductivity in Nd0.8Sr0.2NiO2/SrTi03 heterostructures that were fabricated by a soft-chemical topotactic reduction approach based on precursor Nd0.8Sr0.2NiO3 thin films deposited on ... The recently reported 9-15 K superconductivity in Nd0.8Sr0.2NiO2/SrTi03 heterostructures that were fabricated by a soft-chemical topotactic reduction approach based on precursor Nd0.8Sr0.2NiO3 thin films deposited on SrTiO3 substrates,has excited an immediate surge of research interest.To explore an alternative physical path instead of chemical reduction to realizing superconductivity in this compound,using pulsed laser deposition,we systematically fabricated 63 Nd0.8Sr0.2NiOx(NSNO)thin films at a wide range of oxygen partial pressures on various oxide substrates.Transport measurements did not find any signature of superconductivity in all the 63 thin-film samples.With the oxygen content reducing in the NSNO films by lowering the deposition oxygen pressure,the NSNO films are getting more resistive and finally become insulating.Furthermore,we tried to cap a 20-nm-thick amorphous LaAlO3 layer on a Nd0.8Sr0.2NiO3 thin film deposited at a high oxygen pressure of 20 Pa to create oxygen vacancies on its surface and did not succeed in obtaining higher conductivity either.Our experimental results together with the recent report on the absence of superconductivity in synthesized bulk Nd0.8Sr0.2NiO2 crystals suggest that the chemical reduction approach could be unique for yielding superconductivity in NSNO/SrTiO3 heterostructures.However,SrTiO3 substrates could be reduced to generate oxygen vacancies during the chemical reduction process as well,which may thus partially contribute to conductivity. 展开更多
关键词 SUPERCONDUCTIVITY Nd0.8Sr0.2niox Thin films Chemical reduction
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Self-assembled interlayer aiming at the stability of NiOx based perovskite solar cells
5
作者 Tonghui Guo Zhi Fang +8 位作者 Zequn Zhang Zhiqiang Deng Rui Zhao Jing Zhang Minghui Shang Xiaohui Liu Ziyang Hu Yuejin Zhu Liyuan Han 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第6期211-220,I0006,共11页
Inorganic NiO_(x) based inverted structure perovskite solar cells (PSCs) is reported to be more stable than that with the organic hole transport materials.In this work,NiO_(x)/MAPbI_(3) interface chemical reaction ind... Inorganic NiO_(x) based inverted structure perovskite solar cells (PSCs) is reported to be more stable than that with the organic hole transport materials.In this work,NiO_(x)/MAPbI_(3) interface chemical reaction induced instability of perovskite is unveiled:Ni^(3+) and I^(-) exhibit redox reactions and deprotonation of MA^(+) happens,which result in interface defects and perovskite lattice deformation.Thus the defective interface accelerates the degradation of perovskite by defect pathways from the bottom interface to the perovskite surface contacting H_(2)O/O_(2).Self-assembled interlayer of NH_(2)^(-)end silane on NiO_(x)separates the reactive NiO_(x)and MAPbI_(3),tunes the interface energy states by–NH_(2) end group.As a result,the PSC based on the silane treated NiO_(x)achieves enhanced PCE of 20.1%with decent stability under environmental and extreme conditions (high temperature,high humidity,light infiltration).Our work highlights the interface chemical problem induced PSC instability and a simple interface modification to achieve the stable PSCs. 展开更多
关键词 Perovskite solar cells Interface chemical problem niox hole transport material Self assemble Stability
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Band alignment towards high-efficiency NiOx-based Sn-Pb mixed perovskite solar cells 被引量:2
6
作者 Hao Chen Zijian Peng +5 位作者 Kaimin Xu Qi Wei Danni Yu Congcong Han Hansheng Li Zhijun Ning 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2021年第3期537-546,共10页
Narrow-bandgap tin-lead(Sn-Pb)mixed perovskite solar cells(PSCs)play a key role in constructing perovskite tandem solar cells that are potential to overpass Shockley-Queisser limit.A robust,chemically stable and lowte... Narrow-bandgap tin-lead(Sn-Pb)mixed perovskite solar cells(PSCs)play a key role in constructing perovskite tandem solar cells that are potential to overpass Shockley-Queisser limit.A robust,chemically stable and lowtemperature-processed hole transporting layer(HTL)is essential for building high-efficiency Sn-Pb solar cells and perovskite tandem solar cells.Here,we explore a roomtemperature-processed NiOx(L-NiOx)HTL based on nanocrystals(NCs)for Sn-Pb PSCs.In comparison with hightemperature-annealed NiOx(H-NiOx)film,the L-NiOx film shows deeper valence band and lower trap density,which increases the built-in potential and reduces carrier recombination,leading to a power conversion efficiency of 18.77%,the record for NiOx-based narrow-bandgap PSCs.Furthermore,the device maintains about 96%of its original efficiency after 50 days.This work provides a robust and room-temperatureprocessed HTL for highly efficient and stable narrow-bandgap PSCs. 展开更多
关键词 band alignment niox Sn-Pb mixed perovskite solar cell
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Unique Cd1-xZnxS@WO3-x and Cd1-xZnxS@WO3-x/CoOx/NiOx Z-scheme photocatalysts for efficient visible-light-induced H2 evolution 被引量:1
7
作者 Yanyan Li Qinqin Ruan +5 位作者 Haifeng Lin Yanling Geng Jiefei Wang Hui Wang Yu Yang Lei Wang 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2020年第1期75-90,共16页
Artificial Z-scheme photocatalytic systems have received considerable attention in recent years because they can achieve wide light-absorption, high charge-separation efficiency, and strong redox ability simultaneousl... Artificial Z-scheme photocatalytic systems have received considerable attention in recent years because they can achieve wide light-absorption, high charge-separation efficiency, and strong redox ability simultaneously. Nevertheless, it is still challenging to exploit low-cost and stable Zscheme photocatalysts with highly-efficient H2 evolution from solar water-splitting so far. Herein, we report a novel all-solidstate Z-scheme photocatalyst Cd1-xZnxS@WO3-x consisting of Cd1-xZnxS nanorods coated with oxygen-deficient WO3-x amorphous layers. The Cd1-xZnxS@WO3-x exhibits an outstanding H2 evolution reaction(HER) activity as compared with Pt-loaded Cd1-xZnxS and most WO3- and Cd S-based photocatalysts, due to the generation of stronger reducing electrons through the appropriate Zn-doping in Cd1-xZnxS and the enhanced charge transfer by introducing oxygen vacancies(W^5+/OVs) into the ultrathin WO3-x amorphous coatings. The optimal HER rate of Cd1-xZnxS@WO3- xis determined to be 21.68 mmol h^-1 g^-1, which is further raised up to 28.25 mmol h^-1 g^-1(about 12 times more than that of Pt/Cd1-xZnxS) when Cd1-xZnxS@WO3-x is hybridized by Co Ox and Ni Oxdual cocatalysts(Cd1-xZnxS@WO3-x/CoOx/NiOx)through in-situ photo-deposition. Moreover, the corresponding apparent quantum yield(AQY) at 420 nm is significantly increased from 34.6% for Cd1-xZnxS@WO3-x to 60.8% for Cd1-xZnxS@WO3-x/CoOx/NiOx. In addition, both Cd1-xZnxS@WO3-x and Cd1-xZnxS@WO3-x/CoOx/NiOx demonstrate good stability towards HER. The results displayed in this work will inspire the rational design and synthesis of high-performance nanostructures for photocatalytic applications. 展开更多
关键词 Z-scheme charge transfer photocatalytic H2 evolution Cd1−xZnxS solid solutions oxygen-deficient WO3−x amor-phous layers CoOx and niox dual cocatalysts
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LiClO_4有机高分子电解质的电致变色效应 被引量:7
8
作者 吕淑媛 代富平 冯博学 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期65-69,共5页
研究了聚甲基丙烯酸甲酯为基的PC+LiClO_4有机高分子电解质薄膜的制备、特性及其在电致变色器件中的应用.采用溶胶—凝胶法制备有机高分子电解质,当LiClO_4的浓度为1.5 mol/L时,电解质的电导率达到最大值2.0 mS/cm.将此样品作为离... 研究了聚甲基丙烯酸甲酯为基的PC+LiClO_4有机高分子电解质薄膜的制备、特性及其在电致变色器件中的应用.采用溶胶—凝胶法制备有机高分子电解质,当LiClO_4的浓度为1.5 mol/L时,电解质的电导率达到最大值2.0 mS/cm.将此样品作为离子传输层与NiO_x电致变色薄膜构成全固态电致变色器件,在紫外光辐照区域,光密度差大于1.66,在350~850 nm光区范围内,光密度差为0.83~1.66,在可见光区和近红外区都具有优良的变色性能. 展开更多
关键词 高分子电解质 niox 电致变色 溶胶—凝胶
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中频磁控溅射NiO_x电致变色薄膜(英文) 被引量:3
9
作者 王丽阁 李剑锋 李国卿 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期157-160,共4页
采用中频孪生非平衡磁控溅射技术,制备了纳米晶结构NiOx电致变色薄膜。利用原子力显微镜、掠射X射线衍射、电化学设备、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜结构及电致变色特性。结果表明:室温沉积获得表面质地均匀的NiOx薄膜;在±3V... 采用中频孪生非平衡磁控溅射技术,制备了纳米晶结构NiOx电致变色薄膜。利用原子力显微镜、掠射X射线衍射、电化学设备、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜结构及电致变色特性。结果表明:室温沉积获得表面质地均匀的NiOx薄膜;在±3V致色电压下,薄膜电致变色性能优异,对可见光透过率调制范围达30%以上,但薄膜寿命低。获得的薄膜为结构疏松的纳米晶结构,易于离子的注入和抽取,变色性能优异,但易发生Li+不可逆注入,薄膜寿命低。 展开更多
关键词 电致变色 niox 磁控溅射 纳米晶
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直流反应溅射制备NiO_x薄膜及其电致变色机理研究 被引量:1
10
作者 杨海刚 王聪 +3 位作者 朱开贵 刁训刚 王怀义 王天民 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第A01期572-575,共4页
采用直流反应溅射在ITO导电玻璃上沉积了NiOx薄膜,研究了O2流量对其光学和电致变色性能的影响,利用XRD、SEM和XPS对薄膜的微结构和成分进行了表征。通过循环伏安特性曲线和可见光透射谱对样品的电化学和电致变色性能进行了研究,并且讨论... 采用直流反应溅射在ITO导电玻璃上沉积了NiOx薄膜,研究了O2流量对其光学和电致变色性能的影响,利用XRD、SEM和XPS对薄膜的微结构和成分进行了表征。通过循环伏安特性曲线和可见光透射谱对样品的电化学和电致变色性能进行了研究,并且讨论了NiOx薄膜成分与电致变色性能之间的关系。研究发现反应溅射制备的NiOx薄膜是Ni2+和Ni3+混合价态,颜色为淡棕色,随着薄膜中Ni3+成分增加,薄膜颜色变深,调色范围有减小的趋势。NiOx薄膜表现出阳极电致变色特征,作者认为其电致变色的行为是由于Li+和OH-在薄膜中的注入和拉出引起的Ni2+和Ni3+发生转化所致。 展开更多
关键词 niox 薄膜 反应溅射 电致变色 变色机理
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基于磁控溅射制备纳米微晶NiO_x薄膜的方法 被引量:1
11
作者 王怀义 刁训刚 +3 位作者 王武育 郝维昌 王聪 王天民 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期426-430,共5页
使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiO_x电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiO_x薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiO_x薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备... 使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiO_x电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiO_x薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiO_x薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜,且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiO_x薄膜的O/Ni比率. 展开更多
关键词 无机非金属材料 磁控溅射 纳米微晶态 电致变色 niox薄膜
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金属氧化物基电致变色器件的光透特性及其变色机理 被引量:1
12
作者 吕淑媛 梁猛 《铸造技术》 CAS 北大核心 2009年第10期1275-1278,共4页
在ITO导电玻璃基底上沉积得到WO3薄膜和NiOx薄膜,采用PMMA-LiClO4-PC胶质电解质作为离子电导层,制备得到了三明治式的电致变色(EC)器件。在300-1 000 nm波段的辐照光驱分别测试了器件在互补着色和同时着色时的光透性能。通过分析器件... 在ITO导电玻璃基底上沉积得到WO3薄膜和NiOx薄膜,采用PMMA-LiClO4-PC胶质电解质作为离子电导层,制备得到了三明治式的电致变色(EC)器件。在300-1 000 nm波段的辐照光驱分别测试了器件在互补着色和同时着色时的光透性能。通过分析器件在互补着色和同时着色时的电色反应,给出了不同阶段的电致变色过程的电化学反应机理。特别考虑了实际应用中由于潮解和极化等因素引起的不利化学反应对器件性能的影响,对电致变色器件的实用化具有一定的指导意义。 展开更多
关键词 WO3薄膜 niox薄膜 电致变色器件 透光率
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氧分压对NiO_x薄膜微结构和电阻开关特性的影响 被引量:1
13
作者 王瑞雪 霍进迁 +2 位作者 张祎杨 朱华星 邱晓燕 《西南大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期133-137,共5页
利用磁控溅射方法在镀Pt的Si(100)衬底上沉积制备NiO_x薄膜,研究了氧分压对薄膜微结构和电阻开关特性的影响.微结构观测分析结果表明:在20%氧分压下,可获得沿[200]晶向择优生长的NiO_x多晶薄膜,薄膜表面平整致密,晶粒平均直径约为13.8nm... 利用磁控溅射方法在镀Pt的Si(100)衬底上沉积制备NiO_x薄膜,研究了氧分压对薄膜微结构和电阻开关特性的影响.微结构观测分析结果表明:在20%氧分压下,可获得沿[200]晶向择优生长的NiO_x多晶薄膜,薄膜表面平整致密,晶粒平均直径约为13.8nm,垂直衬底生长形成柱状晶粒结构.磁性测试结果显示薄膜具有典型的铁磁性磁化曲线,但薄膜饱和磁矩随着氧分压增加急剧降低.电学测试结果表明20%氧分压氛围下沉积制备薄膜样品的电流-电压曲线呈现出典型的双极性电阻开关特性:在-0.6V读取电压下,可获得大于10的高/低电阻态阻值比.指数定律拟合电流-电压实验曲线表明:薄膜低电阻态漏电流为欧姆接触电导;而薄膜处于高电阻态时,低电压下的漏电流仍以欧姆接触电导为主,高电压下则以缺陷主导的空间电荷限制电流为主. 展开更多
关键词 niox薄膜 微结构 电阻开关特性
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Fe:NiO_x阳极催化膜电极过程动力学研究
14
作者 黄金昭 徐征 +2 位作者 李海玲 亢国虎 王文静 《表面技术》 EI CAS CSCD 2005年第4期35-37,共3页
利用射频反应磁控溅射制备Fe:NiOx阳极催化膜,对其在电解液中的电极过程进行分析,明确整个电极过程的控制步骤———电化学步骤。根据实验结果及塔菲尔方程求出电化学步骤的重要动力学参数(塔菲尔斜率b,交换电流密度i0),并通过XPS和SEM... 利用射频反应磁控溅射制备Fe:NiOx阳极催化膜,对其在电解液中的电极过程进行分析,明确整个电极过程的控制步骤———电化学步骤。根据实验结果及塔菲尔方程求出电化学步骤的重要动力学参数(塔菲尔斜率b,交换电流密度i0),并通过XPS和SEM分析影响过电势的因素。 展开更多
关键词 动力学 电极过程 Fe:niox
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纳米晶结构NiO_x薄膜Li^+致色性能研究
15
作者 王丽阁 李剑锋 +1 位作者 李国卿 马明涛 《真空》 CAS 北大核心 2008年第6期17-20,共4页
采用中频孪生非平衡磁控溅射方法制备了纳米晶结构NiOx电致变色薄膜。原子力显微镜(AFM)、掠入射X射线衍射(GID)、X射线反射(XRR)分析薄膜结构、形貌及薄膜厚度;利用电化学设备、紫外分光光度计等手段测试薄膜循环伏安及光谱特性。结果... 采用中频孪生非平衡磁控溅射方法制备了纳米晶结构NiOx电致变色薄膜。原子力显微镜(AFM)、掠入射X射线衍射(GID)、X射线反射(XRR)分析薄膜结构、形貌及薄膜厚度;利用电化学设备、紫外分光光度计等手段测试薄膜循环伏安及光谱特性。结果表明:沉积获得NiOx薄膜质地均匀,晶粒尺寸约为4.5 nm,薄膜表面粗糙度Ra=1.659 nm;以Li+离子为致色粒子,厚度60nm的NiOx薄膜在±3 V的高驱动电压下薄膜对可见光透过率调制范围达30%以上,电致变色性能较好。 展开更多
关键词 电致变色 niox 薄膜 磁控溅射 纳米晶
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磁控溅射参数对NiO_x薄膜光学常数的影响(英文)
16
作者 李小刚 唐晓东 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期302-306,共5页
采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%;溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越... 采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%;溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越小.这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关. 展开更多
关键词 光学常数 niox薄膜 溅射参数
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含氧量对NiO_x薄膜光电特性的影响
17
作者 傅竹西 林碧霞 +1 位作者 韩宪泽 廖桂红 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期158-162,共5页
采用直流溅射方法制备了厚度小于0.1μm的NiOx薄膜,研究薄膜的加热氧化及其光电特性。
关键词 niox薄膜 加热氧化 光电特性
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氧分压对氧化镍薄膜表面形貌和光电性能的影响 被引量:2
18
作者 刘化然 盛英卓 +4 位作者 宋宇 杨伟峰 李金荣 黄鹏 冯博学 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1246-1248,共3页
采用射频溅射法在SnO_2衬底上生长了NiO_x薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜。研究了氧分压对NiO_x薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响。研究结果显示,O_2分压在1:10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜... 采用射频溅射法在SnO_2衬底上生长了NiO_x薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜。研究了氧分压对NiO_x薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响。研究结果显示,O_2分压在1:10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜表面比较疏松;随着氧含量的增加,方块电阻呈上升趋势,当氧分压达到一定值时,膜电阻又开始下降;随着氧分压的升高,颜色会逐渐加深,透射率降低。 展开更多
关键词 niox 射频溅射 电致变色 氧分压
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电沉积纳米NiO_x无酶葡萄糖传感器的性能 被引量:4
19
作者 王艺兰 包晓玉 +1 位作者 杨妍 刘营营 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 2014年第7期799-802,共4页
利用电沉积法在ITO电极表面修饰了一薄层NiOx,通过循环伏安和计时电流等方法研究了该修饰电极的电化学特性。实验表明:该修饰电极对葡萄糖有良好的催化作用,对葡萄糖检测的线性范围为0.001~1.0 mmol/L,检出限为0.3μmol/L(S/N=3),... 利用电沉积法在ITO电极表面修饰了一薄层NiOx,通过循环伏安和计时电流等方法研究了该修饰电极的电化学特性。实验表明:该修饰电极对葡萄糖有良好的催化作用,对葡萄糖检测的线性范围为0.001~1.0 mmol/L,检出限为0.3μmol/L(S/N=3),灵敏度为65.26μA·(mmol/L)^-1,响应时间为3 s。传感器可用于实际样品的测定。 展开更多
关键词 电沉积 纳米niox 电催化氧化 无酶葡萄糖传感器
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透过率实时可调的PDP屏滤光膜 被引量:2
20
作者 李鹏飞 陈泽祥 +1 位作者 任俊 汪于迪 《电子器件》 CAS 北大核心 2012年第1期18-21,共4页
利用NiOx薄膜具有优良的电致变色性能,制备了透过率可实时调整的PDP屏滤光膜以提高PDP屏的出光效率,在不同环境照度下获得更好的图像质量。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计研究了采用磁控溅射法制备的NiOx薄膜中镍的... 利用NiOx薄膜具有优良的电致变色性能,制备了透过率可实时调整的PDP屏滤光膜以提高PDP屏的出光效率,在不同环境照度下获得更好的图像质量。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计研究了采用磁控溅射法制备的NiOx薄膜中镍的含量对薄膜光电特性的影响。分析测试结果表明:溅射时随着氧分压的提高,氧化镍薄膜的镍含量明显降低;NiOx薄膜中镍原子含量为45%左右时,NiOx薄膜对可见光透过率的调节能力最强,其最高透过率与最低透过率差值达70%。 展开更多
关键词 PDP 电致变色 磁控溅射 niox 滤光膜
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