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Annealing Effects on Electrical Properties and Interfacial Reactions of Ni/Cu Schottky Rectifiers on n-Type InP
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作者 Yerpedu Munikrishna Reddy M. K. Nagaraj +1 位作者 S. Sankar Naik V. Rajagopal Reddy 《Journal of Modern Physics》 2012年第7期538-545,共8页
We report on the effect of annealing temperature on electrical, interfacial reactions and surface morphological properties of Ni/Cu Schottky contacts on n-type InP. The extracted barrier height of as-deposited Ni/Cu S... We report on the effect of annealing temperature on electrical, interfacial reactions and surface morphological properties of Ni/Cu Schottky contacts on n-type InP. The extracted barrier height of as-deposited Ni/Cu Schottky contact is 0.59 eV (I-V) respectively. The high-quality Schottky contact with barrier height and ideality factor of 0.65 eV (I-V) and 1.15 respectively, can be obtained after annealing at 300℃ for 1 min in a nitrogen atmosphere. However, annealing at 400℃, results the decrease in the barrier height to 0.54 eV (I-V). From the above observations, it is observed that Ni/Cu Schottky contact exhibited excellent electrical properties after annealing at 300℃. Hence, the optimum annealing temperature for the Ni/Cu Schottky contact is 300℃. Furthermore, Cheung’s functions is used to extract the diode parameters including ideality factor, barrier height and series resistance. According to the XRD analysis, the formation of the indium phases at the Ni/Cu/n-InP interface could be the reason for the increase in the barrier height at annealing temperature 300℃. Further, the degradation of the barrier heights after annealing at 400℃ may be due to the formation of phosphide phases at the Ni/Cu/n-InP interface. Scanning electron microscopy (SEM) results show that the overall surface morphology of the Ni/Cu Schottky contact is reasonably smooth. 展开更多
关键词 SCHOTTKY Contacts n-type inp I-V Characteristics Structural Properties X-Ray DIFFRACTION SEM
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Schottky Barrier Parameters of Pd/Ti Contacts on N-Type InP Revealed from I-V-T And C-V-T Measurements
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作者 D. Subba Reddy M. Bhaskar Reddy +1 位作者 N. Nanda Kumar Reddy V. Rajagopal Reddy 《Journal of Modern Physics》 2011年第3期113-123,共11页
We report on the current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) characteristics of the Pd/Ti/n-InP Schottky barrier diodes (SBDs) in the temperature range 160-400 K in steps of 40 K. The barrier heights and ideal... We report on the current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) characteristics of the Pd/Ti/n-InP Schottky barrier diodes (SBDs) in the temperature range 160-400 K in steps of 40 K. The barrier heights and ideality factors of Schottky contact are found in the range 0.35 eV (I-V), 0.73 eV (C-V) at 160 K and 0.63 eV (I-V), 0.61 eV (C-V) at 400 K, respectively. It is observed that the zero-bias barrier height decreases and ideality factor n increase with a decrease in temperature, this behaviour is attributed to barrier inhomogeneities by assuming Gaussian distribution at the interface. The calculated value of series resistance (Rs) from the forward I-V characteristics is decreased with an increase in temperature. The homogeneous barrier height value of approximately 0.71 eV for the Pd/Ti Schottky diode has been obtained from the linear relationship between the temperature-dependent experimentally effective barrier heights and ideality factors. The zero-bias barrier height ( ) versus 1/2kT plot has been drawn to obtain evidence of a Gaussian distribution of the barrier heights and values of = 0.80 eV and = 114 mV for the mean barrier height and standard deviation have been obtained from the plot, respectively. The modified Richardson ln(I0/T2)- ( ) versus 1000/T plot has a good linearity over the investigated temperature range and gives the mean barrier height ( ) and Richardson constant (A*) values as 0.796 eV and 6.16 Acm-2K-2 respectively. The discrepancy between Schottky barrier heights obtained from I-V and C-V measurements is also interpreted. 展开更多
关键词 SCHOTTKY Barrier Parameters I-V-T and C-V-T MEASUREMENTS Pd/Ti SCHOTTKY CONTACTS n-type inp Gaussian Distribution
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基于InP折射率变化的辐射图像探测技术原理验证
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作者 涂艳云 马继明 +11 位作者 宋岩 张健 徐青 孙铁平 彭博栋 韩长材 李阳 郭泉 张骞 高可庆 李郎郎 刘振 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第10期39-45,共7页
为了验证基于磷化铟(InP)晶体折射率变化的辐射图像探测技术对脉冲射线探测的有效性,开展了原理验证实验。搭建了基于迈克尔逊干涉仪的辐射图像探测系统,采用350μm厚的掺铁InP晶体作为辐射转换晶体。利用该系统成功获取了该晶体在532 n... 为了验证基于磷化铟(InP)晶体折射率变化的辐射图像探测技术对脉冲射线探测的有效性,开展了原理验证实验。搭建了基于迈克尔逊干涉仪的辐射图像探测系统,采用350μm厚的掺铁InP晶体作为辐射转换晶体。利用该系统成功获取了该晶体在532 nm激光脉冲激发下的干涉条纹变化图像。基于泵浦-探测技术测得掺铁InP晶体在532 nm泵浦激光下的时间响应为1.5 ns。通过在泵浦激光光路中放置分辨率板测量空间分辨率,重构结果表明,系统的空间分辨率可达1 lp/mm。实验结果表明,基于InP折射率变化的超快图像探测技术初步验证可行,该系统有望用于发展具有高时间与高空间分辨能力的脉冲射线探测技术。 展开更多
关键词 掺铁inp晶体 迈克尔逊干涉 辐射探测技术 泵浦-探测
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基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550 nm激光能量 转换器
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作者 张宗坤 孙艳 +1 位作者 郝加明 戴宁 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第4期477-485,共9页
本文报道了基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550nm波长激光能量转换器的设计、仿真和实验验证。通过优化吸收层厚度及采用双层减反射结构(SiO_(2)和SiN),器件光吸收率高达96%,并具有良好的角度变化不敏感性和波长变化鲁棒性。... 本文报道了基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550nm波长激光能量转换器的设计、仿真和实验验证。通过优化吸收层厚度及采用双层减反射结构(SiO_(2)和SiN),器件光吸收率高达96%,并具有良好的角度变化不敏感性和波长变化鲁棒性。实验结果与理论结果相一致,器件外量子效率(External Quantum Efficiency,EQE)达92%。在47mW/cm^(2)的激光功率密度下,电池的光电转换效率达到了23%。理论分析揭示该实验结果低于理论预测值的主要原因是样品器件具有较高的串联电阻和较低的并联电阻,为提高激光光伏电池效率,还需进一步优化器件工艺,以降低器件相关电阻阻值。此外,本文还深入探讨了器件区面积对器件光伏性能的影响,为激光光伏电池的微型化提供了优化方向。 展开更多
关键词 激光能量转换器 inp/In_(0.53)Ga_(0.47)As 双层减反射结构 无线能量传输
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引入寄生耦合效应的InP HEMT高频等效噪声电路建模
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作者 李永智 张晖 武志翔 《云南大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第6期1050-1058,共9页
针对传统模型因缺少对电磁相互作用的表征而导致高频精度不足的问题,以具有优异高频特性的磷化铟高电子迁移率场效应晶体管(indium phosphide high electron mobility field-effect transistor,InP HEMT)为例,提出一种引入寄生耦合效应... 针对传统模型因缺少对电磁相互作用的表征而导致高频精度不足的问题,以具有优异高频特性的磷化铟高电子迁移率场效应晶体管(indium phosphide high electron mobility field-effect transistor,InP HEMT)为例,提出一种引入寄生耦合效应的小信号等效电路模型与高频等效噪声电路模型.首先引入栅极–漏极之间的互感元件来模拟器件在高频下由于电磁相互作用产生的寄生耦合效应,并采用电磁仿真与直接参数提取相结合的建模方法,建立小信号等效电路模型.然后以所建小信号模型为基础,通过相关噪声矩阵与噪声参数的提取方法,建立高频等效噪声电路模型.实验结果表明,在500 MHz~50 GHz频段内,S参数最大误差小于3%,四噪声参数相较于传统模型提升约2.45%,并从小信号电流增益(|h21|)、单边功率增益(U)与最小噪声系数(Fmin)出发,评估了寄生耦合效应对高频性能的影响. 展开更多
关键词 inp HEMT 小信号模型 寄生耦合 电磁仿真 噪声模型
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小麦花粉孔发育相关TaINP1基因鉴定及表达分析
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作者 马蓓 公杰 +6 位作者 杜银柯 甘雨薇 程蓉 朱波 易丽霞 马锦绣 高世庆 《中国农业科技导报(中英文)》 北大核心 2025年第4期22-35,共14页
花粉孔径调控因子在植物萌发孔径形成中发挥着核心作用。为探究小麦花粉表面萌发的孔发育调控机理,深入探索与OsINP1同源的TaINP1基因家族在小麦萌发孔径形成中的调控功能,利用生物信息学策略,在小麦基因组中鉴定出53个小麦TaINP1基因,... 花粉孔径调控因子在植物萌发孔径形成中发挥着核心作用。为探究小麦花粉表面萌发的孔发育调控机理,深入探索与OsINP1同源的TaINP1基因家族在小麦萌发孔径形成中的调控功能,利用生物信息学策略,在小麦基因组中鉴定出53个小麦TaINP1基因,系统分析了其理化性质、启动子顺式作用元件、基因间的共线性关系。组织表达分析表明,TaINP2.2、TaINP2.5等基因在小麦穗部显著高表达;TaINP2.5、TaINP3.2等基因经低温(10℃)处理后在花粉中高表达。结合花粉萌发及纳米磁珠转化技术,将RFP报告基因成功导入小麦花粉中,并利用激光共聚焦显微镜观测不同低温处理花粉的荧光强度,证实TaINP1基因在调控花粉孔开闭中起重要作用。以上研究结果为小麦花粉孔发育的调控机理奠定了基础,也为优化小麦花粉纳米磁珠高效转化体系提供了参考,为小麦分子育种遗传改良开辟了新途径。 展开更多
关键词 小麦 花粉孔发育 inp1基因家族 表达模式 低温
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InP基HEMT单粒子瞬态效应研究
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作者 孙树祥 李浩宇 张鑫 《微电子学》 北大核心 2025年第1期21-26,共6页
InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)具有频率高、噪声低、功耗低及增益高等特点,在空间高频信号接收系统中具有广阔的应用前景。为促进InP基HEMT在空间辐照环境中的应用,利用二维仿真的方法研究了粒子入射位置、温度和入射角度对InP基HEMT... InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)具有频率高、噪声低、功耗低及增益高等特点,在空间高频信号接收系统中具有广阔的应用前景。为促进InP基HEMT在空间辐照环境中的应用,利用二维仿真的方法研究了粒子入射位置、温度和入射角度对InP基HEMT单粒子瞬态效应的影响。结果表明,不同入射位置对峰值漏电流和漏极收集电荷有不同的影响,在栅极处,峰值漏电流和收集电荷最大,因此栅极为器件单粒子效应的最敏感位置;随着入射角度,在缓冲层产生空穴越多,使栅下势垒降低得越多,从而导致漏瞬态电流峰值和脉冲宽度增加;随着温度的增加,沟道中电子迁移率减小,导致漏瞬态电流峰值和脉冲宽度降低。温度和粒子入射角度耦合作用时,温度对小角度入射产生的漏瞬态电流峰值的影响较大。该工作可为InP基HEMT抗单粒子效应加固设计提供理论依据和指导。 展开更多
关键词 inp基HEMT 单粒子瞬态 入射角度 温度
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InP量子点发光材料:从合成到器件应用的研究进展(特邀)
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作者 汪瑶 翁其新 +4 位作者 时应章 王志文 宋玉洁 孙小卫 张文达 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第7期39-53,共15页
量子点(Quantum Dots,QDs)作为一种新型纳米材料,具有优异的光学性质。随着研究的深入,量子点已在光电器件、生物成像、太阳能电池、显示技术等领域发挥重要作用。磷化铟(InP)量子点因其低毒性、高光效,被视为镉基量子点的潜在替代品而... 量子点(Quantum Dots,QDs)作为一种新型纳米材料,具有优异的光学性质。随着研究的深入,量子点已在光电器件、生物成像、太阳能电池、显示技术等领域发挥重要作用。磷化铟(InP)量子点因其低毒性、高光效,被视为镉基量子点的潜在替代品而受到广泛关注,其发光光谱覆盖整个可见光区域,光致发光量子产率(PLQY)、光电性能上与镉基量子点相当。然而,InP量子点在前驱体材料、生长机制、核壳晶格匹配性等方面与镉基量子点相比存在显著差异,这些差异在一定程度上影响了其光学性能,从而制约了在显示器件中的应用。综述了InP量子点材料及其量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes,QLED)的发展现状。首先,系统地介绍了InP量子点的基本特性,重点从色纯度提升和缺陷态消除等角度深入探讨了其光学性能的优化与改进。随后,详细分析了量子点结构设计(电荷传输层和界面工程)对InP QLED器件性能的影响,并综述了近年来InP QLED的研究进展及其在相关领域的应用成果。最后,概述了InP量子点体系的发展以及面临的主要挑战,并提出了对InP量子点体系未来发展的期望,旨在为InP量子点体系的进一步研究和应用提供启示与方向。 展开更多
关键词 inp量子点 色纯度 发光二极管 显示器件
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InP基多结激光电池中隧道结研究
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作者 付建鑫 孙玉润 +1 位作者 于淑珍 董建荣 《微纳电子技术》 2025年第10期34-39,共6页
激光传能系统中,激光电池(LPC)可将激光能量转换为电能。采用垂直堆叠的多结结构,通过隧道结连接各子电池可提高激光电池的输出电压。聚焦于InP基多结LPC中隧道结对器件输出特性的影响,通过对比实验,设计制备了采用InGaAs/InP和InAlAs/... 激光传能系统中,激光电池(LPC)可将激光能量转换为电能。采用垂直堆叠的多结结构,通过隧道结连接各子电池可提高激光电池的输出电压。聚焦于InP基多结LPC中隧道结对器件输出特性的影响,通过对比实验,设计制备了采用InGaAs/InP和InAlAs/InP两种隧道结的LPC,并研究了不同入射光功率和温度条件下LPC的I-V特性。研究结果表明,当局部光生电流密度超过隧道结峰值隧穿电流密度时,InGaAs/InP隧道结的限流效应会导致I-V特性曲线中出现尖峰现象,进而导致器件的填充因子下降16%,光电转换效率降低约6%。此外,InAlAs/InP隧道结引入了较高的串联损耗,导致器件最大功率点输出电压低于2 V,填充因子较低(40%)。 展开更多
关键词 激光电池(LPC) 隧道结 I-V特性 多结 inp INALAS
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Correlation between the whole small recess offset and electrical performance of InP-based HEMTs
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作者 GONG Hang ZHOU Fu-Gui +5 位作者 FENG Rui-Ze FENG Zhi-Yu LIU Tong SHI Jing-Yuan SU Yong-Bo JIN Zhi 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第1期40-45,共6页
In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate proces... In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate process.We focus on their DC and RF responses,including the maximum transconductance(g_(m_max)),ON-resistance(R_(ON)),current-gain cutoff frequency(f_(T)),and maximum oscillation frequency(f_(max)).The devices have almost same RON.The g_(m_max) improves as the whole small recess moves toward the source.However,a small gate to source capacitance(C_(gs))and a small drain output conductance(g_(ds))lead to the largest f_(T),although the whole small gate recess moves toward the drain leads to the smaller g_(m_max).According to the small-signal modeling,the device with the whole small recess toward drain exhibits an excellent RF characteristics,such as f_(T)=372 GHz and f_(max)=394 GHz.This result is achieved by paying attention to adjust resistive and capacitive parasitics,which play a key role in high-frequency response. 展开更多
关键词 inp high-electron-mobility transistor(inp HEMT) INGAAS/INALAS DC/RF characteristic smallsignal modeling double-recessed gate process
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Thermoelectric generator and temperature sensor based on polyamide doped n-type single-walled nanotubes toward self-powered wearable electronics
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作者 Jiye Xiao Zhen Zhang +6 位作者 Zhixiong Liao Jinzhen Huang Dongxia Xian Runhao Zhu Shichao Wang Chunmei Gao Lei Wang 《Journal of Materials Science & Technology》 2025年第4期246-254,共9页
Due to its ability to convert body heat into electricity,organic thermoelectric material is considered a promising and smart maintenance-free power source to charge wearable electronics.However,developing flexible n-t... Due to its ability to convert body heat into electricity,organic thermoelectric material is considered a promising and smart maintenance-free power source to charge wearable electronics.However,developing flexible n-type organic thermoelectric materials and wearable p/n junction thermoelectric devices remains challenging.In this work,two insulated polyamides(PA6 and PA66)that have been widely used as fiber materials are employed as novel dopants for converting p-type single-walled carbon nanotubes(SWCNTs)to n-type thermoelectric materials.Because of the electron transferability of the amide group,polyamide-doped SWCNTs exhibit excellent thermopower values as large as-56.0μV K^(-1) for PA66,and-54.5μV K^(-1) for PA6.Thermoelectric devices with five p/n junctions connected in series are fabricated.The testing device produces a thermoelectric voltage of 43.1 mV and generates 1.85μW thermoelectric power under temperature gradients of approximately 80 K.Furthermore,they display charming capability for temperature recognition and monitoring human activities as sensors.These promising results suggest that the flexible polyamide-doped SWCNT composites herein have high application potential as wearable thermoelectric electronics. 展开更多
关键词 n-type thermoelectric material Self-powered sensors Composites Single-walled carbon nanotubes Wearable electronics
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Janus-type BN-embedded perylene diimides via a“shuffling”strategy:Regioselective functionalizable building block towards high-performance n-type organic semiconductors
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作者 Kexiang Zhao Zongrui Wang +4 位作者 Qi-Yuan Wan Jing-Cai Zeng Li Ding Jie-Yu Wang Jian Pei 《Chinese Chemical Letters》 2025年第6期417-422,共6页
Regioselevtive functionalization of perylene diimides(PDIs)at bay area often requires multistep synthesis and strenuous recrystallization.Direct bromination of perylene diimides only afford the 1,6 and 1,7-regioisomer... Regioselevtive functionalization of perylene diimides(PDIs)at bay area often requires multistep synthesis and strenuous recrystallization.Direct bromination of perylene diimides only afford the 1,6 and 1,7-regioisomers.More importantly,the 1,6-dibromo regioisomers could only be separated by preparative HPLC.Herein,we report a promising strategy for constructing Janus backbone of BN-doped perylene diimide derivatives.This Janus-type configuration results in the unique regioselective functionalization of BN-JPDIs,which yields exclusively the 1,6-regioisomers.Further investigation shows that the Janus-type configuration leads to a net dipole moment of 1.94 D and intramolecular charge transfer,which causes substantial changes on the optoelectronic properties.Moreover,the single crystal organic field-effect transistors based on BN-JPDIs exhibit electron mobilities up to 0.57 cm^(2)V^(-1)s^(-1),showcasing their potential as versatile building block towards high-performance n-type organic semiconductors. 展开更多
关键词 BN heterocycles Perylene diimides Regioselective functionalization Intramolecular charge transfer n-type organic semiconductors
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InP/InGaAs/InP红外光电阴极时间响应特性的模拟研究 被引量:7
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作者 孙巧霞 徐向晏 +6 位作者 安迎波 曹希斌 刘虎林 田进寿 董改云 郭晖 李燕红 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第12期3163-3167,共5页
文中理论研究了InP/In0.53Ga0.47As/InP异质结透射式红外光电阴极的时间响应特性,光谱响应范围1.0~1.7μm。在场助偏压的作用下,模拟计算了光激发的电子在阴极内部的传输特性。模拟计算表明,光电阴极的响应速度随场助偏压的增大而... 文中理论研究了InP/In0.53Ga0.47As/InP异质结透射式红外光电阴极的时间响应特性,光谱响应范围1.0~1.7μm。在场助偏压的作用下,模拟计算了光激发的电子在阴极内部的传输特性。模拟计算表明,光电阴极的响应速度随场助偏压的增大而加快;随光吸收层厚度的增大而减慢;随光吸收层掺杂浓度的增大,光电阴极的响应速度变慢。发射层厚度及掺杂浓度的增大都会使得阴极的响应时间加长。经过对阴极结构参数和掺杂浓度的优化,得到在吸收层和发射层厚度分别为2μm、0.5μm,掺杂浓度分别为1.5×1015 cm-3、1.0×1016 cm-3时,在适当场助偏压下光电阴极的响应时间可优于100 ps。 展开更多
关键词 红外光电阴极 inp IN0 53GA0 47As inp 时间响应特性
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有效跨导为1052mS/mm的高性能InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.53)Ga_(0.47)As HEMTs(英文) 被引量:5
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作者 钟英辉 王显泰 +4 位作者 苏永波 曹玉雄 张玉明 刘新宇 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期193-197,288,共6页
成功研制了栅长为0.15μm、栅宽为2×50μm、源漏间距为2μm的InP基In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As高电子迁移率器件.室温下,当器件VDS为1.7 V、VGS为0.1 V时,其有效跨导达到了1 052 mS/mm.传输线方法(TLM)测试显示器件的接触电阻为... 成功研制了栅长为0.15μm、栅宽为2×50μm、源漏间距为2μm的InP基In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As高电子迁移率器件.室温下,当器件VDS为1.7 V、VGS为0.1 V时,其有效跨导达到了1 052 mS/mm.传输线方法(TLM)测试显示器件的接触电阻为0.032Ω.mm,器件欧姆接触电阻率为1.03×10-7Ω.cm-2.正是良好的欧姆接触及其短的源漏间距减小了源电阻,进而使得有效跨导比较大.器件有比较好的射频特性.从100 MHz到40 GHz,S参数外推出来的fT和fmax分别为151 GHz和303 GHz.所报道的HEMT器件非常适合毫米波段集成电路的研制. 展开更多
关键词 高电子迁移率器件 栅长 栅槽 inp INALAS INGAAS
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InP层对正面及背面入光PIN探测器响应度影响研究 被引量:3
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作者 杨集 冯士维 +3 位作者 李瑛 吕长志 谢雪松 张小玲 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期141-144,共4页
InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使InP层对InGaAs/InPPIN探测器的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背... InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使InP层对InGaAs/InPPIN探测器的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背面入光PIN探测器响应度的影响。结果表明,随着InP层厚度的增加,响应度峰与峰的间隔Δλ不断减小,波形越来越密集。所以正面入光探测器的响应度起伏比较明显,且随着InP层厚度的增加,响应度极值对应的波长发生红移。背面入光探测器的响应度非常密集而成为准连续的带状。 展开更多
关键词 INGAAS/inp PIN探测器 响应度 inp盖层
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Ar^+刻蚀对InGaAs,n-InP和p-InP表面损伤及消除 被引量:4
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作者 吕衍秋 越方禹 +4 位作者 洪学鹍 陈江峰 韩冰 吴小利 龚海梅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期122-126,共5页
研究了Ar+刻蚀对InGaAs,n-InP和p-InP表面的损伤,并用湿法腐蚀后处理消除损伤.Ar+刻蚀后InGaAs表面均方根粗糙度较小,而n-InP和p-InP表面明显变粗糙.刻蚀后InGaAsPL强度增加,而n-InP和p-InPPL强度都减小.用XPS分析了未刻蚀、Ar+刻蚀和... 研究了Ar+刻蚀对InGaAs,n-InP和p-InP表面的损伤,并用湿法腐蚀后处理消除损伤.Ar+刻蚀后InGaAs表面均方根粗糙度较小,而n-InP和p-InP表面明显变粗糙.刻蚀后InGaAsPL强度增加,而n-InP和p-InPPL强度都减小.用XPS分析了未刻蚀、Ar+刻蚀和湿法腐蚀后处理三种情况下样品表面原子含量.刻蚀后InGaAs表面In和Ga含量明显增加,n-InP和p-InP表面有严重P缺失.湿法腐蚀后,样品表面原子含量和未刻蚀前基本一致. 展开更多
关键词 Ar^+刻蚀 INGAAS inp 湿法腐蚀 表面损伤
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InGaAs/InP HBT材料的GSMBE生长及其特性研究 被引量:5
17
作者 徐安怀 邹璐 +1 位作者 陈晓杰 齐鸣 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期516-518,共3页
本文报道了采用气态源分子束外延 (GSMBE)技术生长InGaAs/InP异质结双极晶体管 (HBT)材料及其特性的研究。通过对GSMBE生长工艺的优化 ,在半绝缘 ( 10 0 )InP衬底上成功制备了高质量的InGaAs/InPHBT材料 ,InGaAs外延层与InP衬底的晶格... 本文报道了采用气态源分子束外延 (GSMBE)技术生长InGaAs/InP异质结双极晶体管 (HBT)材料及其特性的研究。通过对GSMBE生长工艺的优化 ,在半绝缘 ( 10 0 )InP衬底上成功制备了高质量的InGaAs/InPHBT材料 ,InGaAs外延层与InP衬底的晶格失配度仅为 4× 10 - 4量级 ,典型的InP发射区掺杂浓度 ( 4× 10 1 7cm- 3)时 ,电子迁移率为 80 0cm2 ·V- 1 ·s- 1 ,具有较好的电学特性 ,可以满足器件制作的要求。 展开更多
关键词 分子束外延 异质结双极晶体管 INGAAS inp
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基于InGaAs/InP雪崩光电二极管的高速单光子探测器雪崩特性研究(英文) 被引量:10
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作者 李永富 刘俊良 +1 位作者 王青圃 方家熊 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期427-431,共5页
报道了一种基于InGaAs/InP雪崩光电二极管、1.25GHz正弦波门控及贝塞尔低通滤波器的1.25GHz高速短波红外单光子探测器.通过调整比较电路的鉴别电平,实验研究了单光子探测器雪崩信号幅度随反向直流偏压的变化.随着鉴别电平的提高,单光子... 报道了一种基于InGaAs/InP雪崩光电二极管、1.25GHz正弦波门控及贝塞尔低通滤波器的1.25GHz高速短波红外单光子探测器.通过调整比较电路的鉴别电平,实验研究了单光子探测器雪崩信号幅度随反向直流偏压的变化.随着鉴别电平的提高,单光子探测器的探测效率及暗计数率均呈指数衰减,而后脉冲概率先增大到一个峰值,然后减小.研究表明,为获得更高的性能,需要尽量降低单光子探测器的鉴别电平. 展开更多
关键词 InGaAs/inp雪崩光电二极管 单光子探测器 短波红外
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电感耦合等离子体刻蚀InP端面的掩膜特性研究 被引量:5
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作者 王健 熊兵 +2 位作者 孙长征 郝智彪 罗毅 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第4期432-436,共5页
深入研究了掩膜制作工艺对电感耦合等离子体刻蚀的InP端面的影响。首先比较了光刻胶、SiO_2和Si_3N_4三种材料的掩膜特性,发现掩膜图形的致密性、侧壁粗糙度和垂直度等对刻蚀效果具有至关重要的影响。然后通过优化SF_6等离子体刻蚀Si_3... 深入研究了掩膜制作工艺对电感耦合等离子体刻蚀的InP端面的影响。首先比较了光刻胶、SiO_2和Si_3N_4三种材料的掩膜特性,发现掩膜图形的致密性、侧壁粗糙度和垂直度等对刻蚀效果具有至关重要的影响。然后通过优化SF_6等离子体刻蚀Si_3N_4的条件,得到了边缘平整且侧壁垂直的掩膜图形。利用这一掩膜制作技术,获得了深度达7μm的光滑垂直的InP刻蚀端面,选择比达15:1。 展开更多
关键词 干法刻蚀 掩膜 ICP inp 刻蚀端面 等离子体
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半绝缘InP长单晶的生长 被引量:3
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作者 孙聂枫 毛陆虹 +4 位作者 郭维廉 周晓龙 杨瑞霞 张伟玉 孙同年 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期186-189,共4页
通过对高压液封直拉法InP单晶生长过程的几个关键因素的分析,设计了合适的热场系统,有效地降低了孪晶产生的几率.在自己设计制造的高压单晶炉内首先将铟和磷进行合成,然后采用坩埚随动技术等重复生长了直径为50mm,长190mm和直径80~100mm... 通过对高压液封直拉法InP单晶生长过程的几个关键因素的分析,设计了合适的热场系统,有效地降低了孪晶产生的几率.在自己设计制造的高压单晶炉内首先将铟和磷进行合成,然后采用坩埚随动技术等重复生长了直径为50mm,长190mm和直径80~100mm,长150mm的半绝缘InP单晶. 展开更多
关键词 inp 孪晶 直径
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