新型四元氮桥环内酯类活性物质antifungalmycin N2对人宫颈癌Hela细胞的增殖抑制和诱导凋亡作用

1

作者 姚亮 王丽君 《中国现代药物应用》 2025年第7期171-175,共5页

目的探究链霉菌N2发酵所产新型四元氮桥环内酯类活性物质antifungalmycin N2对人宫颈癌Hela细胞的增殖抑制和诱导凋亡效果。方法分别利用细胞增殖四唑盐(MTT)检测和流式细胞仪分析,探究antifungalmycin N2对Hela细胞增殖、凋亡和细胞周... 目的探究链霉菌N2发酵所产新型四元氮桥环内酯类活性物质antifungalmycin N2对人宫颈癌Hela细胞的增殖抑制和诱导凋亡效果。方法分别利用细胞增殖四唑盐(MTT)检测和流式细胞仪分析,探究antifungalmycin N2对Hela细胞增殖、凋亡和细胞周期分步的影响。结果氮桥环内酯类化合物antifungalmycin N2对人宫颈癌Hela细胞具有有效的细胞毒性,其半抑制浓度(IC50)值为15.37μg/ml。人宫颈癌细胞Hela经不同浓度(5、10、20μg/ml)的氮桥环内酯类化合物antifungalmycinN2处理24 h后,空白对照组、(5、10、20μg/ml)处理组、阳性对照组细胞凋亡率分别为(4.84±1.2)%、(11.09±2.1)%、(24.23±3.9)%、(31.46±5.4)%、(54.26±8.0)%。与空白对照组比较,氮桥环内酯类化合物antifungalmycin N2处理后,细胞凋亡明显增加,差异均有统计学意义(P<0.05),且具有浓度依赖性。经antifungalmycin N2对Hela细胞呈现剂量依赖性的诱导凋亡作用,促使其阻滞在G1期,使进入S期的细胞减少。结论新型四元氮桥环内酯类活性物质antifungalmycin N2对人宫颈癌Hela细胞具有显著的增殖抑制和诱导凋亡作用。 展开更多

关键词 Antifungalmycin n2 新型四元氮桥环内酯类活性物质 增殖抑制 细胞周期 细胞凋亡 人宫颈癌HELA细胞

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C4F7N/N2混合气体在极不均匀电场下的局部放电特性 被引量：13

2

作者 张晓星 叶凡超 +3 位作者 张国治 田双双 李祎 张季 《电网技术》 EI CSCD 北大核心 2020年第12期4838-4844,共7页

C4F7N是一种极具应用潜力的SF6替代气体。试验研究了环保型气体绝缘介质C4F7N/N2混合气体的局部放电特性,测试了混合气体的局部放电起始电压并与纯SF6气体进行了对比,探究了混合比、气压对混合气体绝缘性能的影响情况。研究发现含C4F7N2... C4F7N是一种极具应用潜力的SF6替代气体。试验研究了环保型气体绝缘介质C4F7N/N2混合气体的局部放电特性,测试了混合气体的局部放电起始电压并与纯SF6气体进行了对比,探究了混合比、气压对混合气体绝缘性能的影响情况。研究发现含C4F7N2%~12%的C4F7N/N2混合气体的PDIV-、PDIV+随气压的增长而增大,但绝缘性能均弱于相同条件下纯SF6。相同气压下C4F7N/N2混合气体的绝缘性能随混合比的增加而增加;低气压下增加混合比能够显著提升混合气体的绝缘性能,高气压(0.5~0.6 MPa)下混合气体的相对绝缘性能随混合比的增加呈现饱和增长趋势。相关研究成果为C4F7N/N2混合气体的工程应用提供了重要参考。 展开更多

关键词 SF6替代气体 C4F7n/n2 局部放电 相对绝缘性能

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钙调蛋白N_2和C_2突变体载体的构建、表达纯化和鉴定 被引量：1

3

作者 晏珊 雷帅 +7 位作者 陈思充 于佳慧 祝旭东 孙嘉瑶 杜逸 李墨 唐子鉴 郝丽英 《中国医科大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第5期401-405,共5页

目的构建钙调蛋白(CaM)N_2和C_2突变体的表达性载体,表达纯化并进行活性鉴定,为进一步研究CaM与钙通道片段的相互作用奠定基础。方法将CaM的N-lobe和C-lobe的cDNA分别与相应的N-lobe和C-lobe的cDNA相连,制备N_2和C_2突变体的cDNA。将N_2... 目的构建钙调蛋白(CaM)N_2和C_2突变体的表达性载体,表达纯化并进行活性鉴定,为进一步研究CaM与钙通道片段的相互作用奠定基础。方法将CaM的N-lobe和C-lobe的cDNA分别与相应的N-lobe和C-lobe的cDNA相连,制备N_2和C_2突变体的cDNA。将N_2和C_2的cDNA分别插入p GEX-6p-3载体,并将重组质粒转入E.coli BL21菌株,IPTG诱导转化成功的菌株表达GST融合蛋白,超声破碎法提取,GS-4B beads纯化,SDS-PAGE电泳鉴定目的蛋白相对分子质量及纯度,pull-down实验鉴定活性。结果酶切鉴定以及DNA测序结果证实重组质粒构建成功;SDS-PAGE电泳图显示突变体蛋白纯度和浓度均较高;pulldown实验结果证明突变体蛋白有生理活性,能与钙通道片段结合。结论本研究成功构建了N_2和C_2表达质粒,并提取、纯化了有活性的钙调蛋白N_2和C_2突变体。 展开更多

关键词 钙调蛋白 n-lobe C-lobe n2 C2 pull-down实验

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概念合成限制理论对汉语“抽象N_1+N_2”结构的解释力 被引量：10

4

作者 凌子惠 刘正光 《外语学刊》 CSSCI 北大核心 2008年第5期20-25,共6页

N+N概念合成一直以来都是概念合成理论研究的焦点,但在以往概念合成的相关研究中,绝大部分用于试验和研究的语料都选择了表示具体概念的名词作为研究对象,很少选择表示抽象概念的名词作为N1.本文尝试运用限制理论,结合抽象名词的语义特... N+N概念合成一直以来都是概念合成理论研究的焦点,但在以往概念合成的相关研究中,绝大部分用于试验和研究的语料都选择了表示具体概念的名词作为研究对象,很少选择表示抽象概念的名词作为N1.本文尝试运用限制理论,结合抽象名词的语义特性及其功能潜势来解释汉语当中"抽象N1+N2"的概念合成现象,检测该理论在汉语当中的有效性。 展开更多

关键词 n+n概念合成 限制理论 抽象n1+n2

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C4F7N/CO2和C4F7N/N2混合气体热力学物性参数计算 被引量：29

5

作者 张震 林莘 +3 位作者 余伟成 徐建源 张佳 苏镇西 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期250-256,共7页

环保型绝缘介质C4F7N及其混合气体的热力学物性参数的研究对了解其使用范围及应用前景具有参考价值。因此,采用Riedel蒸气压方程和Raoult定律计算了不同混合配比下C4F7N/CO2和C4F7N/N2混合气体的饱和蒸气压;基于P-R状态方程计算了C4F7N/... 环保型绝缘介质C4F7N及其混合气体的热力学物性参数的研究对了解其使用范围及应用前景具有参考价值。因此,采用Riedel蒸气压方程和Raoult定律计算了不同混合配比下C4F7N/CO2和C4F7N/N2混合气体的饱和蒸气压;基于P-R状态方程计算了C4F7N/CO2和C4F7N/N2的压缩因子和密度,根据分子结构特征,采用Joback基团贡献法和Thodos法计算分析了两种混合气体的定压比热容和粘度。计算结果表明:若要气体绝缘开关设备和气体绝缘输电管道在0.5MPa下运行时绝缘介质的液化温度≤253K,混合气体中C4F7N摩尔分数分别应≤8%和≤10%,该摩尔分数下混合气体各自的全球变暖潜能值分别约为SF6的2.45%和3.83%,温室效应较小。上述条件下,两种混合气体均趋于理想气体状态,压缩因子接近于1,两种混合气体中的C4F7N含量虽少,但对其混合气体的定压比热容贡献较大,而对粘度贡献不大。所得结果可为C4F7N/CO2和C4F7N/N2两种环保混合气体熄弧特性及其在GIS和GIL中的应用研究提供基础数据。 展开更多

关键词 热力学物性参数 C4F7n/CO2 C4F7n/n2 GIS GIL 环保

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N2流量对N掺杂MgZnO薄膜结构和性能的影响 被引量：1

6

作者 高丽丽 李永峰 +2 位作者 徐莹 张淼 姚斌 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期689-694,共6页

利用射频磁控溅射方法,使用Mg0.04Zn0.96O陶瓷靶材,选用不同流量比的氮气和氩气混和气体作为溅射气体,在石英基片上生长N掺杂MgxZn1-xO合金薄膜。研究了氮流量比对薄膜组分、结构、形貌、电学性质和拉曼光谱的影响。结果显示:随着溅射... 利用射频磁控溅射方法,使用Mg0.04Zn0.96O陶瓷靶材,选用不同流量比的氮气和氩气混和气体作为溅射气体,在石英基片上生长N掺杂MgxZn1-xO合金薄膜。研究了氮流量比对薄膜组分、结构、形貌、电学性质和拉曼光谱的影响。结果显示:随着溅射气氛中氮流量比的增加,薄膜中Mg含量增加,薄膜表面颗粒尺寸减小,结晶质量变差,电阻率逐渐增大,导电类型发生转变。在氮流量比为20%时,获得了最好的p型导电薄膜。另外,随着氮流量比的增加,拉曼光谱中与NO相关的位于272 cm-1、642 cm-1左右的振动峰逐渐增强,表明NO的浓度随着氮流量比的加大而有所增加。 展开更多

关键词 射频磁控溅射技术 n掺杂MgZnO薄膜 氮流量比 光电性能

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C4F7N/N2混合气体的分解机理研究 被引量：11

7

作者 傅明利 陈曦 +5 位作者 陈柔伊 王琦 卓然 王邸博 张晓星 李祎 《高压电器》 CAS CSCD 北大核心 2020年第7期1-7,共7页

近年来,C4F7N(2,3,3,3-四氟-2-(三氟甲基)-丙腈)凭借优良的绝缘和环保性能得到了替代气体研究领域的广泛关注。目前针对C4F7N混合气体分解特性的研究较少,为明确其分解特性,文中基于ReaxFF分子动力学方法和量子化学DFT理论对C4F7N/N2混... 近年来,C4F7N(2,3,3,3-四氟-2-(三氟甲基)-丙腈)凭借优良的绝缘和环保性能得到了替代气体研究领域的广泛关注。目前针对C4F7N混合气体分解特性的研究较少,为明确其分解特性,文中基于ReaxFF分子动力学方法和量子化学DFT理论对C4F7N/N2混合气体的分解机理进行了研究,同时利用气体绝缘性能测试平台配合气相色谱质谱联用仪对C4F7N/N2混合气体多次工频击穿后的放电分解产物进行了检测。研究发现C4F7N/N2混合气体的主要分解产物有CF4、C2F6、C3F8、CF3CN、C2F4、C3F6和C2F5CN,其中C2F6、CF4及CF3CN的相对含量较高;ReaxFF-MD分子动力学模拟显示CF3,CN,F和C3F7是C4F7N分解形成的4种最为重要的自由基碎片。该研究成果深入揭示了C4F7N/N2混合气体的分解机理,为混合气体的工程应用提供了重要参考。 展开更多

关键词 C4F7n/n2 ReaxFF-MD 分解机理 SF6替代气体

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N_2-N_2二聚物分子间相互作用势的从头算 被引量：1

8

作者 郭强 朱俊 +2 位作者 涂东荣 邓晓琳 瞿建英 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1309-1314,共6页

采用改进的MP2方法和传统的MP2、MP3、MP4方法,结合6-31+G(2df)、6-311+G(2df)、AUG-cc-pVTZ在内的多种基组对N2-N2分子间相互作用势进行了比较研究.结果表明:用MP4方法计算得到的相互作用势介于MP2与MP3的结果之间,与传统意义上的MP2... 采用改进的MP2方法和传统的MP2、MP3、MP4方法,结合6-31+G(2df)、6-311+G(2df)、AUG-cc-pVTZ在内的多种基组对N2-N2分子间相互作用势进行了比较研究.结果表明:用MP4方法计算得到的相互作用势介于MP2与MP3的结果之间,与传统意义上的MP2计算结果介于MP3与MP4的结果之间不同.分子间的相对方位对分子键长影响很大.分子间相隔很近时,这种影响越为明显.改进的MP2方法,在平衡位置对传统方式得到的势能曲线有明显的改善.同时发现BSSE误差不容忽视. 展开更多

关键词 n2-n2二聚物 相互作用势 MPn(n=2 3 4) 键长优化 BSSE误差

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搜索引擎日志中“N+V”和“N_1+N_2+V”型短语自动识别 被引量：2

9

作者 赵红改 吕学强 +1 位作者 施水才 郑丽 《中文信息学报》 CSCD 北大核心 2012年第5期20-25,共6页

正确识别搜索引擎日志中的短语,对搜索引擎用短语词典构建和提高搜索引擎性能具有重要的作用。该文提出一种应用条件随机场实现对搜狗日志语料中"N+V"和"N1+N2+V"型短语自动识别的方法。模型的特征集包含词、词性... 正确识别搜索引擎日志中的短语,对搜索引擎用短语词典构建和提高搜索引擎性能具有重要的作用。该文提出一种应用条件随机场实现对搜狗日志语料中"N+V"和"N1+N2+V"型短语自动识别的方法。模型的特征集包含词、词性和词语长度。由人工设计候选特征集,从中选择有效的特征构成特征模板,训练生成用于短语自动识别的条件随机场模型。封闭测试和开放测试的实验结果表明,模型能够实现对这两种短语的有效识别。 展开更多

关键词 条件随机场模型 搜索引擎日志 “n+V”型短语 "n1+n2+V"型短语 特征模板

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N_2气流量比对磁控溅射Mo-N涂层结构和性能的影响 被引量：2

10

作者 齐东丽 宋健宇 沈龙海 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期173-178,共6页

目的研究N_2气流量比对直流反应磁控溅射Mo-N涂层结构、力学性能和摩擦性能的影响。方法采用直流反应磁控溅射技术在304不锈钢基体表面制备Mo-N涂层,对涂层结构进行X射线衍射(XRD)分析,对涂层形貌和磨痕形貌进行扫描电镜(SEM)分析,采用... 目的研究N_2气流量比对直流反应磁控溅射Mo-N涂层结构、力学性能和摩擦性能的影响。方法采用直流反应磁控溅射技术在304不锈钢基体表面制备Mo-N涂层,对涂层结构进行X射线衍射(XRD)分析,对涂层形貌和磨痕形貌进行扫描电镜(SEM)分析,采用维氏显微硬度计测试涂层的显微硬度,采用划痕法表征涂层的结合强度,采用球盘式摩擦磨损试验仪评价涂层的摩擦磨损性能。结果随着N_2气流量比R从0.3增加至0.7,涂层主要由面心立方γ-Mo2N相构成,当R为0.7时,制备的涂层中出现少量的六方δ-MoN相。涂层的显微硬度先降低后增加,最高硬度可达3060HV。结合强度先增加后降低,当R为0.4和0.5时,涂层的结合力较高,约为40N,且具有较好的摩擦学性能,平均摩擦系数约为0.22,磨损形式主要为磨粒磨损。结论在基体温度为300℃时制备涂层,N_2气流量比在0.3～0.7的范围变化对涂层相结构的影响较小。硬度相对较高时,结合力越好,摩擦学性能越好。 展开更多

关键词 磁控溅射 Mo-n涂层 n2气流量比 显微硬度 结合强度 摩擦磨损性能

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工频下电场不均匀度对SF_6/N_2混合气体放电特性的影响与临界半径现象 被引量：16

11

作者 郭璨 张乔根 +3 位作者 游浩洋 文韬 马径坦 秦逸帆 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期780-787,共8页

为了在电力设备中更好地应用SF_6/N_2混合气体,利用全封闭工频实验装置,通过实验研究分析了不同电场不均匀度下SF_6/N_2混合气体的击穿特性,并在极不均匀场下分析了局放起始电压的变化规律。研究发现:随电场不均匀度的增加,SF_6/N_2混... 为了在电力设备中更好地应用SF_6/N_2混合气体,利用全封闭工频实验装置,通过实验研究分析了不同电场不均匀度下SF_6/N_2混合气体的击穿特性,并在极不均匀场下分析了局放起始电压的变化规律。研究发现:随电场不均匀度的增加,SF_6/N_2混合气体击穿电压随气压增加的变化规律由基本呈线性升高趋势,逐步出现饱和趋势;当电场不均匀度增大到一定程度后,间隙击穿前出现了稳定的电晕放电,SF_6及其混合气体的击穿电压出现了"驼峰"现象,"驼峰"的范围与幅值随着电场不均匀度的增加而变大;随着电场不均匀度的增加,协同效应程度先增强后减弱并趋于稳定;在纯N_2中发现了显著的临界半径现象,纯N_2的临界半径为1~2 mm,而混合气体与纯SF_6气体则还没有观察到明显的临界半径,随着电极曲率半径的减小,在较高气压下其击穿电压明显下降,而在低气压下则出现了类U型曲线。 展开更多

关键词 工频 电场不均匀度 SF6/n2混合气体 击穿特性 局放起始电压 驼峰 协同效应 临界半径

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(n^2,(n+1)~2)中至少有一个素数的证明

12

作者 戎士奎 《贵州科学》 2016年第1期78-80,共3页

证明(n^2,(n+1)~2)中至少有一个素数,是一个众所周知的数论难题(华罗庚1979,(美)阿尔伯特·H·贝勒1998)。本文用筛法先证明一个叫做筛不完原理的定理,使用筛不完原理证明了(n^2,(n+1)~2)中至少有一个素数。还给出素数在自然数... 证明(n^2,(n+1)~2)中至少有一个素数,是一个众所周知的数论难题(华罗庚1979,(美)阿尔伯特·H·贝勒1998)。本文用筛法先证明一个叫做筛不完原理的定理,使用筛不完原理证明了(n^2,(n+1)~2)中至少有一个素数。还给出素数在自然数中的概率为0的一个新的证法。 展开更多

关键词 素数 (n2 (n+1)2)中的素数 s层筛法 s层筛法的余数矩阵 筛不完原理

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n阶(n1,n2,…,nk)型k重(r1,r2,…,rk)-循环矩阵相乘的快速算法

13

作者 沈光星 《科技通报》 2006年第5期579-583,共5页

利用快速富里叶变换(FFT),给出n阶(n1,n2,…,nk)型k重(r1,r2,…,rk)-循环矩阵相乘的快速算法,其计算复杂性为O(nlog2n)。

关键词 计算数学 n阶(n1 n2 … nk)型k重(r1 r2 … rk)-循环矩阵 矩阵相乘 快速算法 时间复杂性

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(N1,N2),(N2,N3),(N1,N3)-三(噻吩亚甲基)-N-(噻吩亚甲基)-季戊四胺的合成和晶体结构

14

作者 吕敬松 《毕节学院学报（综合版）》 2012年第8期72-75,共4页

以季戊四醇为原料,经多步合成季戊四胺,然后与2-噻吩醛反应,合成了(N1,N2),(N2,N3),(N1,N3)-三(噻吩亚甲基)-N-(噻吩亚甲基)-季戊四胺。结构经核磁和X-单晶衍射实验证实。结果表明:其晶体结构属六方晶系,空间群P6(5),Z=4,晶胞参数:a=1.8... 以季戊四醇为原料,经多步合成季戊四胺,然后与2-噻吩醛反应,合成了(N1,N2),(N2,N3),(N1,N3)-三(噻吩亚甲基)-N-(噻吩亚甲基)-季戊四胺。结构经核磁和X-单晶衍射实验证实。结果表明:其晶体结构属六方晶系,空间群P6(5),Z=4,晶胞参数:a=1.8385(6)nm,b=1.8385(6)nm,c=1.3866(8)nm,α=90.00,β=90.00,γ=120.00,V=4.05873 nm3,F(000)=1740.0,Mu=0.39 mm-1,R1=0.0719,Rw=0.214. 展开更多

关键词 季戊四胺 季戊四胺四噻吩醛 晶体结构

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2,5-二(N-环己烷-N-环己胺甲酰基)氨基甲酰基噻吩的合成和晶体结构

15

作者 陈梦 高洁 +4 位作者 季柳杨 金泽辉 楼俊卿 斯佳彬 蔡晓庆 《温州大学学报（自然科学版）》 2013年第1期44-49,共6页

利用2,5-噻吩二羧酸和N,N’-二环己基二亚胺合成了一种新的化合物,即2,5-二(N-环己烷-N-环己胺甲酰基)氨基甲酰基噻吩.用质谱、元素分析、IR对该化合物进行了结构表征,并利用X射线单晶衍射仪对其结构进行了鉴定.结果表明,该化合物属于... 利用2,5-噻吩二羧酸和N,N’-二环己基二亚胺合成了一种新的化合物,即2,5-二(N-环己烷-N-环己胺甲酰基)氨基甲酰基噻吩.用质谱、元素分析、IR对该化合物进行了结构表征,并利用X射线单晶衍射仪对其结构进行了鉴定.结果表明,该化合物属于正交晶系,空间群为C 2/c,晶胞参数:a=1.041 5(1)nm,b=3.169 1(2)nm,c=2.131 7(1)nm,α=90°,β=90°,γ=90°;V=7.036 5(9)nm3,Z=8,Dc=1.104 g.cm-3,F(000)=252 8,最终偏差因子为R1=0.048 2,wR2=0.070 3和R1=0.051 1,wR2=0.0876. 展开更多

关键词 2 5-噻吩二羧酸 n n′-二环己基二亚胺 2 5-二(n-环己烷-n-环己胺甲酰基)氨基甲酰基噻吩 晶体结构

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N_2∶O_2流量比对多弧离子镀Cr-O-N复合涂层结构及性能的影响 被引量：1

16

作者 陈琦 黄绍服 《材料保护》 CSCD 北大核心 2017年第8期42-46,共5页

目前,关于N_2∶O_2流量比如何影响Cr-O-N涂层结构和性能的报道较少。采用多弧离子镀技术在硅片(100)和硬质合金基底上沉积了一系列不同N_2∶O_2流量比的Cr-O-N复合涂层;采用X射线衍射仪分析涂层晶体结构;采用共聚焦显微拉曼光谱仪分析... 目前,关于N_2∶O_2流量比如何影响Cr-O-N涂层结构和性能的报道较少。采用多弧离子镀技术在硅片(100)和硬质合金基底上沉积了一系列不同N_2∶O_2流量比的Cr-O-N复合涂层;采用X射线衍射仪分析涂层晶体结构;采用共聚焦显微拉曼光谱仪分析薄膜氧化物相结构;采用扫描电镜观察涂层形貌,并通过能谱仪分析其成分;利用原子力显微镜观察涂层表面三维形貌;采用显微硬度仪测量涂层硬度;通过球-盘摩擦磨损仪测量涂层摩擦磨损性能,系统地研究了O_2流量占比对复合涂层结构和性能的影响。结果表明:Cr-O-N复合涂层由CrN和Cr_2O_3复合相组成;随着沉积过程中O_2流量占比的增加,涂层中N和Cr的含量呈下降趋势,而Cr_2O_3含量逐渐增加;随着O_2流量占比的增加,涂层表面形貌发生变化,涂层表面粗糙度在氧气占比为0.34时达到最大值85.86 nm,此时涂层具有最低的摩擦系数0.48;Cr-O-N涂层的硬度高于CrN和Cr_2O_3涂层,摩擦系数比CrN涂层高,但低于Cr_2O_3涂层。 展开更多

关键词 多弧离子镀 Cr-O-n复合涂层 n2∶O2流量比 微结构 力学性能

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Al_2O_3基陶瓷及玻璃基底制备Ta-N薄膜微结构与电学特性的比较研究

17

作者 马扬昭 谢中 +3 位作者 周艳明 夏丰金 冯双磊 李科 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期23-26,共4页

在N2、Ar气氛中,采用反应直流磁控溅射法在Al2O3基陶瓷及玻璃基底上制备了Ta-N薄膜,并对各样品的形貌结构、化学组分及电学特性进行了比较分析研究。结果表明,沉积于Al2O3陶瓷及玻璃基底的Ta-N薄膜分别呈团簇状生长与层状紧密堆积生长;A... 在N2、Ar气氛中,采用反应直流磁控溅射法在Al2O3基陶瓷及玻璃基底上制备了Ta-N薄膜,并对各样品的形貌结构、化学组分及电学特性进行了比较分析研究。结果表明,沉积于Al2O3陶瓷及玻璃基底的Ta-N薄膜分别呈团簇状生长与层状紧密堆积生长;Al2O3陶瓷基底沉积的Ta-N为单相薄膜,而玻璃基底上的Ta-N薄膜,随N2、Ar流量比增加,呈单相向多相共存转变;薄膜表面形貌和微结构与基底材料的原始形貌和微结构紧密相关,这说明基底材料对薄膜的形成有重要的影响;N2、Ar流量比相同时,玻璃基底上沉积的Ta-N薄膜电性能优于Al2O3基陶瓷基底上沉积的Ta-N薄膜。 展开更多

关键词 Al2O3基陶瓷基底 玻璃基底Ta-n薄膜反应磁控溅射氮分压 电阻温度系数

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00Cr22Ni5Mo3N中合金双相不锈钢的热处理 被引量：3

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作者 乐平 刘雪燕 +1 位作者 郁凉峰 黄海清 《热处理》 CAS 2009年第5期50-55,共6页

00Cr22N i5Mo3N中合金双相不锈钢具有优良的耐腐蚀性和较高的强度,但不能热处理相变强化。离子渗氮可大大提高其表面硬度。研究了离子渗氮介质、工艺参数对00Cr22N i5Mo3N钢渗氮层硬度、深度、脆性和均匀性的影响,介绍了已成功应用于该... 00Cr22N i5Mo3N中合金双相不锈钢具有优良的耐腐蚀性和较高的强度,但不能热处理相变强化。离子渗氮可大大提高其表面硬度。研究了离子渗氮介质、工艺参数对00Cr22N i5Mo3N钢渗氮层硬度、深度、脆性和均匀性的影响,介绍了已成功应用于该钢的离子渗氮工艺。 展开更多

关键词 00Cr22ni5Mo3n双相不锈钢 离子渗氮 n2H2 脆性

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三靶共溅射纳米复合Cr-Al-Si-N涂层的制备及摩擦学性能研究 被引量：7

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作者 王铁钢 蒙德强 +3 位作者 李柏松 赵彦辉 刘艳梅 姜肃猛 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期78-86,共9页

目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复合涂层,通过改变反应沉积时的N2/Ar比来调控涂层成分与结构,实现纳米复合Cr-Al-Si-N涂层性能优化。方法... 目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复合涂层,通过改变反应沉积时的N2/Ar比来调控涂层成分与结构,实现纳米复合Cr-Al-Si-N涂层性能优化。方法采用高功率脉冲与脉冲直流复合磁控溅射技术制备Cr-Al-Si-N涂层。利用扫描电镜、X射线衍射仪、能谱仪、应力仪、纳米压痕仪、划痕测试仪和摩擦试验机,研究N2/Ar比对涂层成分、结构、力学性能以及摩擦学行为的影响。结果涂层主要由面心立方结构的CrN与AlN相组成,且沿(200)晶面择优生长。当N2/Ar流量比为3∶1时,涂层与基体结合最好,临界载荷约为36.5N;摩擦系数和内应力较低,分别为0.5和-0.48GPa。当N2/Ar流量比为4∶1时,H/E值和H^3/E^*2值升至最高,分别为0.11和0.24GPa,磨损率最低,约为1.9×10^-4μm^3/(N·μm)。结论当N2/Ar流量比为4∶1时,三靶共溅射制备的Cr-Al-Si-N涂层硬度较高,耐磨性能最好。 展开更多

关键词 高功率脉冲磁控溅射 脉冲直流磁控溅射 三靶共溅射 纳米复合涂层 Cr-Al-Si-n涂层 n2/Ar流量比 临界载荷 摩擦系数 磨损率

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反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能 被引量：5

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作者 周滔 聂璞林 +2 位作者 李铸国 黄坚 蔡珣 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期34-38,共5页

采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压... 采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压对(Ti,Al)N薄膜取向及Ti、Al、N原子含量有明显影响,从而导致薄膜硬度及膜基结合性能发生变化。研究中,在氮分压为33.3×10-3Pa、基体偏压为-100V时制备的(Ti,Al)N薄膜力学性能最优,其纳米硬度为43.4GPa,达到40GPa超硬薄膜的要求。 展开更多

关键词 (Ti Al)n薄膜 磁控溅射 氮分压 基体偏压 力学性能

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