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Identification of Intermediates in Pyridine Pyrolysis with Molecular-beam Mass Spectrometry and Tunable Synchrotron VUV Photoionization 被引量:2
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作者 Xin Hong Tai-chang Zhang +1 位作者 Li-dong Zhang Fei Qi 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2009年第2期204-209,共6页
The pyrolysis of pyridine (5.26% pyridine in argon) was performed with tunable synchrotron vacuum ultraviolet photoionization and molecular-beam mass spectrometry technique at the temperature range of 1255-1765 K at... The pyrolysis of pyridine (5.26% pyridine in argon) was performed with tunable synchrotron vacuum ultraviolet photoionization and molecular-beam mass spectrometry technique at the temperature range of 1255-1765 K at 267 Pa. About 20 products and intermediates, containing major species H2, HCN, C2H2, C5H3N, C4H2, and C3H3N, were identified by near-threshold measurements of photoionization mass spectra and their mole fractions vs. temperatures were estimated. The major reaction pathways are analyzed based on the experimental observations. 展开更多
关键词 Pyridine pyrolysis Intermediate Tunable synchrotron VUV photoionization molecular-beam mass spectrometry
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Molecular-beam epitaxy of topological insulator Bi_2Se_3(111) and (221) thin films 被引量:1
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作者 谢茂海 郭欣 +1 位作者 徐忠杰 何永健 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第6期91-98,共8页
This paper presents an overview of the growth of Bi2Se3, a prototypical three-dimensional topological insulator, by molecular-beam epitaxy on various substrates. Comparison is made between the growth of Bi2 Se3 (111... This paper presents an overview of the growth of Bi2Se3, a prototypical three-dimensional topological insulator, by molecular-beam epitaxy on various substrates. Comparison is made between the growth of Bi2 Se3 (111) on van der Waals (vdW) and non-vdW substrates, with attention paid to twin suppression and strain. Growth along the [221] direction of Bi2Se3 on InP (001) and GaAs (001) substrates is also discussed. 展开更多
关键词 topological insulator molecular-beam epitaxy Bi2Se3 twin domain STRAIN
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Evidence for the anomalous scaling behaviour of the molecular-beam epitaxy growth equation
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作者 唐刚 夏辉 +3 位作者 郝大鹏 寻之朋 温荣吉 陈玉岭 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第3期354-359,共6页
According to the scaling idea of local slope, we investigate numerically and analytically anomalous dynamic scaling behaviour of (1+ 1)-dimensional growth equation for molecular-beam epitaxy. The growth model inclu... According to the scaling idea of local slope, we investigate numerically and analytically anomalous dynamic scaling behaviour of (1+ 1)-dimensional growth equation for molecular-beam epitaxy. The growth model includes the linear molecular-beam epitaxy (LMBE) and the nonlinear Lai-Das Sarma-Villain (LDV) equations. The anomalous scaling exponents in both the LMBE and the LDV equations are obtained, respectively. Numerical results are consistent with the corresponding analytical predictions. 展开更多
关键词 molecular-beam epitaxy surface growth equation anomalous scaling behaviour
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Embedded high-quality ternary GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dots in GaAs nanowires by molecular-beam epitaxy
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作者 Xiyu Hou Lianjun Wen +6 位作者 Fengyue He Ran Zhuo Lei Liu Hailong Wang Qing Zhong Dong Pan Jianhua Zhao 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2024年第8期18-24,共7页
Semiconductor quantum dots are promising candidates for preparing high-performance single photon sources.A basic requirement for this application is realizing the controlled growth of high-quality semiconductor quantu... Semiconductor quantum dots are promising candidates for preparing high-performance single photon sources.A basic requirement for this application is realizing the controlled growth of high-quality semiconductor quantum dots.Here,we report the growth of embedded GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dots in GaAs nanowires by molecular-beam epitaxy.It is found that the size of the GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dot can be well-defined by the GaAs nanowire.Energy dispersive spectroscopy analyses show that the antimony content x can be up to 0.36 by tuning the growth temperature.All GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dots exhibit a pure zinc-blende phase.In addition,we have developed a new technology to grow GaAs passivation layers on the sidewalls of the GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dots.Different from the traditional growth process of the passivation layer,GaAs passivation layers can be grown simultaneously with the growth of the embedded GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dots.The spontaneous GaAs passivation layer shows a pure zinc-blende phase due to the strict epitaxial relationship between the quantum dot and the passivation layer.The successful fabrication of embedded high-quality GaAs_(1−x)Sb_(x) quantum dots lays the foundation for the realization of GaAs_(1−x)Sb_(x)-based single photon sources. 展开更多
关键词 semiconductor quantum dot NANOWIRE GaAs_(1−x)Sb_(x) molecular-beam epitaxy
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Laser molecular-beam epitaxy and second-order optical nonlinearity of BaTiO_3/SrTiO_3 superlattices 被引量:1
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作者 赵彤 陈凡 +2 位作者 吕惠宾 杨国桢 陈正豪 《Science China Mathematics》 SCIE 2000年第7期760-766,共7页
A series of c-axis oriented BaTiO3/SrTiO3 superlattices with the atomic-scale precision were epitaxially grown on single-crystal SrTiO3(100) substrates using laser molecular-beam epitaxy (LMBE). A periodic modulation ... A series of c-axis oriented BaTiO3/SrTiO3 superlattices with the atomic-scale precision were epitaxially grown on single-crystal SrTiO3(100) substrates using laser molecular-beam epitaxy (LMBE). A periodic modulation of the intensity of reflection high-energy electron diffraction (RHEED) in BaTiO3 and SrTiO3 layers was observed and attributed to the lattice-misfit-induced periodic variation of the terrace density in film surface. The relationship between the second-order nonlinear optical sus-ceptibilities and the superlattice structure was systematically studied. The experimental and theoretical fitting results indicate that the second-order nonlinear optical susceptibilities of BaTiO3/SrTiO3 superlattices were greatly enhanced with the maximum value being more than one order of magnitude larger than that of bulk BaTiO3 crystal. The mechanism of the enhancement of the second-order optical non-linearity was discussed by taking into account the stress-induced lattice distortion and polarization enhancement. 展开更多
关键词 BaTiO3/SrTiO3 SUPERLATTICES LASER molecular-beam EPITAXY reflection high-energy electron diffrac-tion lattice MISFIT second-order optical nonlinearity.
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Manipulation of morphology and structure of the top of GaAs nanowires grown by molecular-beam epitaxy 被引量:1
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作者 Lixia Li Dong Pan +2 位作者 Xuezhe Yu Hyok So Jianhua Zhao 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2017年第10期39-45,共7页
Self-catalyzed GaAs nanowires(NWs) are grown on Si(111) substrates by molecular-beam epitaxy.The effect of different closing sequences of the Ga and As cell shutters on the morphology and structural phase of GaAs ... Self-catalyzed GaAs nanowires(NWs) are grown on Si(111) substrates by molecular-beam epitaxy.The effect of different closing sequences of the Ga and As cell shutters on the morphology and structural phase of GaAs NWs is investigated.For the sequences of closing the Ga and As cell shutters simultaneously or closing the As cell shutter 1 min after closing the Ga cell shutter,the NWs grow vertically to the substrate surface.In contrast,when the As cell shutter is closed first,maintaining the Ga flux is found to be critical for the following growth of GaAs NWs,which can change the growth direction from [111] to 〈111〉.The evolution of the morphology and structural phase transition at the tips of these GaAs NWs confirm that the triple-phase-line shift mode is at work even for the growth with different cell shutter closing sequences.Our work will provide new insights for better understanding of the growth mechanism and realizing of the morphology and structure control of the GaAs NWs. 展开更多
关键词 GAAS NANOWIRE molecular-beam epitaxy
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拓扑半金属ZrSiS表面分子束外延生长银膜
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作者 董晓燕 宋江鹏 +1 位作者 张宗源 单磊 《安徽大学学报(自然科学版)》 北大核心 2026年第1期47-52,共6页
利用分子束外延技术,在拓扑节点线半金属ZrSiS和超导NbSe2表面成功生长了Ag膜,并重点对ZrSiS表面电子态与量子限域效应进行了研究.实验表明,金属银的引入对费米能下的态密度峰位有显著的调节作用,在0.4 K极低温下未发现Ag/ZrSiS体系的... 利用分子束外延技术,在拓扑节点线半金属ZrSiS和超导NbSe2表面成功生长了Ag膜,并重点对ZrSiS表面电子态与量子限域效应进行了研究.实验表明,金属银的引入对费米能下的态密度峰位有显著的调节作用,在0.4 K极低温下未发现Ag/ZrSiS体系的超导迹象,因尺寸效应在ZrSiS表面银岛上产生了周期性的电子态驻波.这些研究结果说明Ag/ZrSiS的异质界面是研究拓扑材料中量子态受限行为的有效平台,为相关拓扑和超导异质结研究提供了实验基础. 展开更多
关键词 拓扑半金属 分子束外延 金属薄膜 异质界面 扫描隧道显微镜
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电子束辐射氧化熔融态超高分子量聚乙烯膜
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作者 赵浩宇 韩磊 +3 位作者 王静 鲁曼丽 张文礼 王谋华 《辐射研究与辐射工艺学报》 2026年第1期46-54,共9页
本研究采用电子束辐照技术,在空气与氧气气氛中对熔融态(150℃)和常温(25℃)条件下的超高分子量聚乙烯(UHMWPE)膜进行辐射氧化处理,通过傅里叶变换红外光谱、差示扫描量热仪、凝胶含量及小冲孔测试分析其结构与力学性能变化。实验结果表... 本研究采用电子束辐照技术,在空气与氧气气氛中对熔融态(150℃)和常温(25℃)条件下的超高分子量聚乙烯(UHMWPE)膜进行辐射氧化处理,通过傅里叶变换红外光谱、差示扫描量热仪、凝胶含量及小冲孔测试分析其结构与力学性能变化。实验结果表明:常温辐照时UHMWPE以交联为主,氧化程度低;熔融态氧气中辐照则引发显著氧化裂解,当吸收剂量为500 kGy时,凝胶含量为0,力学性能显著下降,小冲孔测试呈现出脆性断裂的特征;熔融态空气中辐照则呈现交联与氧化协同作用。研究证实,电子束辐照熔融态UHMWPE膜在氧气气氛下可高效促进氧化裂解,为聚乙烯化学回收提供新思路。 展开更多
关键词 超高分子量聚乙烯 电子束辐照 辐射氧化 高温辐照 氧化指数
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基于分子束外延的6 in短波硅基碲镉汞材料的表面缺陷研究 被引量:1
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作者 李震 王丹 +4 位作者 姜梦佳 管崇尚 邢伟荣 折伟林 牛佳佳 《红外》 2025年第5期11-16,共6页
由于大规模碲镉汞红外焦平面探测器对大尺寸硅基碲镉汞材料的需求日益增长,针对基于分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)的6 in短波硅基碲镉汞材料的表面宏观缺陷密度进行研究。使用扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,S... 由于大规模碲镉汞红外焦平面探测器对大尺寸硅基碲镉汞材料的需求日益增长,针对基于分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)的6 in短波硅基碲镉汞材料的表面宏观缺陷密度进行研究。使用扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)对材料表面缺陷进行分析,确定了缺陷种类及产生原因。通过对外延温区均匀性、束流均匀性和源炉稳定性进行改进,提高了材料的组分均匀性;通过材料表面缺陷控制及材料工艺参数优化,改进了基于分子束外延的6 in短波硅基碲镉汞材料制备技术,批量产出高均匀性和低表面缺陷密度的高质量6 in短波硅基碲镉汞材料。结果表明,材料中心处与边缘处的组分差距小于等于3.0%,表面宏观缺陷(大于2μm)密度小于等于70 cm^(-2)。 展开更多
关键词 分子束外延 碲镉汞 表面缺陷
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束源炉结构及布局对分子束外延薄膜材料均匀性影响的仿真 被引量:1
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作者 陶先童 段莹瑞 +8 位作者 李壮壮 宋立媛 杨春章 杨晋 李艳辉 孔金丞 赵俊 姬荣斌 王善力 《真空科学与技术学报》 北大核心 2025年第6期461-468,共8页
亿像素红外探测器是下一代红外探测器发展的重要方向,8英寸高均匀碲镉汞薄膜成为实现该技术的最重要一环。分子束外延系统中束源炉结构及布局是影响分子束外延碲镉汞薄膜材料组分及厚度均匀性的关键因素之一。文章从满足大尺寸高均匀碲... 亿像素红外探测器是下一代红外探测器发展的重要方向,8英寸高均匀碲镉汞薄膜成为实现该技术的最重要一环。分子束外延系统中束源炉结构及布局是影响分子束外延碲镉汞薄膜材料组分及厚度均匀性的关键因素之一。文章从满足大尺寸高均匀碲镉汞外延薄膜材料的要求出发,对束源炉的束流产生和出射分布做了理论分析,模拟计算了束源炉布局和坩埚内源材料状态对衬底上外延薄膜材料膜厚均匀性的影响。使用多物理场仿真软件COMSOL,以圆柱形坩埚的束源炉为模型,模拟了束源炉装料量对到达衬底表面束流的影响,以束源炉到衬底平面的间距和束源炉与衬底平面的夹角两个维度的变化进行了仿真,计算了到达衬底表面的束流均匀性。结果显示,随着源材料的使用,到达衬底表面的束流接近线性下降;在束源炉与衬底平面角度为46°时,衬底平面的束流均匀性最好;随束源炉到衬底平面中心间距的增加衬底平面的束流均匀性逐渐变好,当距离大于300 mm时,束流均匀性在±1.5%以内,保障了8英寸高均匀碲镉汞薄膜材料的制备。 展开更多
关键词 束源炉 均匀性 分子束外延 束流变化
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同步辐射弯铁真空紫外光束线气体滤波系统仿真与设计 被引量:2
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作者 何子阳 范海涛 +2 位作者 毕海林 王旭迪 杨玖重 《真空科学与技术学报》 北大核心 2025年第3期171-179,共9页
气体滤波系统利用稀有气体(如氩气、氖气、氦气等)在电离能以下吸收弱、在电离能以上吸收强的特性,用于过滤同步辐射真空紫外光束线由光栅衍射带来的高次谐波。文章通过角系数方法辅助气体滤波系统设计,仿真分析了已有的燃烧光束线气体... 气体滤波系统利用稀有气体(如氩气、氖气、氦气等)在电离能以下吸收弱、在电离能以上吸收强的特性,用于过滤同步辐射真空紫外光束线由光栅衍射带来的高次谐波。文章通过角系数方法辅助气体滤波系统设计,仿真分析了已有的燃烧光束线气体滤波池,并与实验结果比对;对质谱光束线气体滤波池进行优化设计,并对滤波池内部压强空间分布进行分析。结果表明:对于燃烧光束线气体滤波池,仿真结果与实验结果具有较好的一致性。在质谱光束线滤波池优化设计中,由于光斑尺寸大小增加,腔体内部存在较高数密度的分子束流,难以通过增加多级差分管道数量降低腔体压强,且其差分管道内部压强分布呈现陡增现象。 展开更多
关键词 气体滤波系统 分子束流 同步辐射
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晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池 被引量:1
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作者 蒋卓宇 李娟 +2 位作者 孔祥力 代盼 孙强健 《半导体技术》 北大核心 2025年第4期365-371,共7页
为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起... 为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起,制备了晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池。测试结果显示,通过晶圆键合技术制备的双结太阳电池具有较低的电损耗,在聚光下获得了超过31.7%的光电转换效率。双结太阳电池的晶圆键合技术改善了常规直接材料生长方法因晶格失配造成的位错问题,可以更灵活地实现双结太阳电池的优化设计。 展开更多
关键词 分子束外延(MBE) INGAAS GAAS 晶圆键合 双结太阳电池
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超声分子束束流辉光放电系统研制及应用
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作者 殷娇 许可 +7 位作者 王驰宇 赵伟 蒋富强 陈程远 朱毅仁 聂林 冯北滨 肖国梁 《原子能科学技术》 北大核心 2025年第S2期303-310,共8页
超声分子束注入作为磁约束聚变装置中一种常用的加料及边界粒子控制技术,因其速度快、定向性优良等特点被广泛应用。为优化束流特性,一种用于测量束流特性分布的辉光放电系统被研制,并被应用于束流结构及参数的研究分析。实验结果表明,... 超声分子束注入作为磁约束聚变装置中一种常用的加料及边界粒子控制技术,因其速度快、定向性优良等特点被广泛应用。为优化束流特性,一种用于测量束流特性分布的辉光放电系统被研制,并被应用于束流结构及参数的研究分析。实验结果表明,束流电离的过程可分辨条件下最快约为0.7 ms,系统配置的高速相机可捕获束流的清晰结构,该结构可准确用于束流寂静区长度及发散角度等关键信息测量。超声分子束束流纹影测量对比实验验证了直流辉光放电束流参数的一致性及可靠性。在此过程中,通过对束流形貌演化过程的研究,揭示了超声分子束的马赫盘形成机制,为其性能优化提供了物理和数据支撑。在氖气超声分子束放电实验中,扫描探针系统测得的束流响应给出了束流传播方向上的速度分布。马赫盘附近区域的速度分布结构特征与超声束流演化模型的预测相符,且通过速度分布测量获得的寂静区长度与纹影实验建立的定标关系呈现高度一致性,这为超声分子束的全剖面分布测量及其与等离子体相互作用的深入研究奠定了实验基础。 展开更多
关键词 超声分子束注入 辉光放电 束流形貌 束流速度
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动态范围超过75 dB的InGaAs/InAlAs光电导太赫兹探测天线制备与表征
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作者 江情男 谭智勇 +4 位作者 万文坚 符张龙 夏宇 李敏 曹俊诚 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第4期562-568,共7页
光电导天线是太赫兹频段非常重要的器件,在太赫兹时域光谱技术中应用广泛。本文采用分子束外延生长方法制备Be掺杂InGaAs/InAlAs超晶格材料,作为1550nm激光泵浦光电导太赫兹探测天线的光吸收材料,制备的材料方块电阻大于10^(6)Ω/sq、... 光电导天线是太赫兹频段非常重要的器件,在太赫兹时域光谱技术中应用广泛。本文采用分子束外延生长方法制备Be掺杂InGaAs/InAlAs超晶格材料,作为1550nm激光泵浦光电导太赫兹探测天线的光吸收材料,制备的材料方块电阻大于10^(6)Ω/sq、电子迁移率为216cm^(2)/(Vs)。采用湿法腐蚀和磁控溅射工艺分别制备探测天线有源区台面和电极结构,并将天线芯片封装在PCB电路板上。采用国产1550nm飞秒泵浦激光器搭建探测天线测试系统,对电极间隙分别为40μm和60μm的探测天线进行了表征。测量结果表明,60μm天线具有更宽的谱宽和功率动态范围,分别达到4.0THz和77.0dB。 展开更多
关键词 太赫兹 光电导探测天线 分子束外延 时域光谱 光纤飞秒激光
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基于转移SiGe薄膜上的高质量Si/SiGe异质结
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作者 廖良欣 张结印 +5 位作者 刘方泽 颜谋回 明铭 符彬啸 张新定 张建军 《物理学报》 北大核心 2025年第12期343-349,共7页
高质量的Si/SiGe异质结薄膜材料在集成电路和半导体量子计算等领域都有重要的应用.本研究首先通过分子束外延(MBE)在SOI衬底上获得上下Si层厚度一致的Si/SiGe/Si异质结;随后利用湿法刻蚀剥离该异质结,并接着刻蚀上下Si层,得到应力弛豫的... 高质量的Si/SiGe异质结薄膜材料在集成电路和半导体量子计算等领域都有重要的应用.本研究首先通过分子束外延(MBE)在SOI衬底上获得上下Si层厚度一致的Si/SiGe/Si异质结;随后利用湿法刻蚀剥离该异质结,并接着刻蚀上下Si层,得到应力弛豫的SiGe薄膜;最后,将其转移到Si(001)衬底上并再次使用MBE在该转移SiGe薄膜上外延制备SiGe/Si/SiGe异质结.原子力显微镜表征显示异质结表面均方根粗糙度仅为0.118nm,透射电子显微镜和电子通道衬度成像均未观察到任何位错.研究显示基于转移SiGe薄膜上的Si/SiGe异质结完全消除了晶格失配引起的位错缺陷,为高性能的量子比特器件奠定了重要的材料基础. 展开更多
关键词 分子束外延 应力弛豫 硅锗 异质结
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超声分子束注入对J-TEXT装置等离子体边缘流和湍流的影响
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作者 谢耀禹 赵开君 +11 位作者 张国书 杨州军 陈志鹏 陈忠勇 程钧 胡莹欣 温思宇 丁肖冠 任璐璐 李佳鑫 段龙 王璐 《核技术》 北大核心 2025年第4期90-98,共9页
超声分子束注入是磁约束聚变装置常用的补充加料手段之一,并对等离子体流和湍流产生重要影响。实验在J-TEXT装置上开展,采用三台阶朗缪尔探针阵列,在欧姆放电氢等离子体中观测了超声分子束注入对边缘流和湍流的影响。结果表明:超声分子... 超声分子束注入是磁约束聚变装置常用的补充加料手段之一,并对等离子体流和湍流产生重要影响。实验在J-TEXT装置上开展,采用三台阶朗缪尔探针阵列,在欧姆放电氢等离子体中观测了超声分子束注入对边缘流和湍流的影响。结果表明:超声分子束注入后测地声模带状流、湍流及其驱动的粒子输运分别减小40%~60%、50%~70%及60%~70%,且伴随着离子-离子碰撞频率增大;湍流雷诺协强及湍流对测地声模带状流做功明显减小;密度及温度梯度降低。进一步分析表明,测地声模带状流减弱主要归因于湍流雷诺功的降低和碰撞率的增加;湍流减弱可能是密度、温度梯度降低的结果;湍流驱动的粒子输运减小可能来自径向速度涨落幅度下降。这些研究结果有助于对托卡马克等离子体湍流与输运的理解,并为未来ITER装置的运行提供参考。 展开更多
关键词 托卡马克 超声分子束注入 边缘流和湍流 朗缪尔探针
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热裂解源应用及模拟的研究进展
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作者 于广琛 王俊莉 王晓冬 《真空科学与技术学报》 北大核心 2025年第5期349-358,共10页
裂解源是分子束外延设备(MBE)及表面处理设备中的关键及核心,目前其以广泛应用于化合物半导体芯片制造行业。随着对半导体性能的要求逐步提高,半导体制造设备也需要不断发展。对于具有催化作用的热裂解源,由于其内部复杂流态的分布以及... 裂解源是分子束外延设备(MBE)及表面处理设备中的关键及核心,目前其以广泛应用于化合物半导体芯片制造行业。随着对半导体性能的要求逐步提高,半导体制造设备也需要不断发展。对于具有催化作用的热裂解源,由于其内部复杂流态的分布以及存在壁面催化化学反应,应用直接模拟蒙特卡洛方法(DSMC)进行模拟及结构优化。文章以砷/磷(固体),氢(气体)热裂解源为例,介绍了裂解源的基本构造和原理,以及其模拟方法。 展开更多
关键词 裂解源 分子束外延 应用及模拟 直接模拟蒙特卡洛法
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离子束加工镍单晶原子级去除行为与表面损伤机制研究
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作者 李晓静 王泽骜 +2 位作者 秦胜建 高永亮 王林 《表面技术》 北大核心 2025年第22期129-140,共12页
目的模拟氩(Ar)离子束溅射单晶镍(Ni)的行为,分析其原子级结构演变规律,揭示金属Ni的去除机制及表面与亚表面损伤机制。方法采用分子动力学(MD)方法,模拟不同溅射能量(600 eV、1000 eV和1400 eV)、剂量(1.5625×10^(13)ions/cm^(2)... 目的模拟氩(Ar)离子束溅射单晶镍(Ni)的行为,分析其原子级结构演变规律,揭示金属Ni的去除机制及表面与亚表面损伤机制。方法采用分子动力学(MD)方法,模拟不同溅射能量(600 eV、1000 eV和1400 eV)、剂量(1.5625×10^(13)ions/cm^(2)和3.1250×10^(13)ions/cm^(2))及入射角度(30°、45°、60°、75°和90°)下,Ar离子束溅射单晶金属Ni(001)表面过程。基于原子级微结构表征,系统分析溅射能量、剂量及角度对Ni(001)表面损伤形貌、应变分布以及溅射产额的影响规律,阐明其表面损伤机制和原子去除机制。结果Ar离子束溅射在Ni(001)面溅射核心区域形成凹坑与表面原子堆积,并在亚表面诱发非晶原子团簇及{111}面层错等损伤结构;伴随结构缺陷的产生,核心溅射区域产生应变集中。凹坑面积、表面堆积原子数、非晶团簇原子比例、层错原子比例、亚表面损伤深度和应变均随溅射能量和剂量的增加而增大;其中60°入射角下产生的表面及亚表面损伤最为显著。溅射产额亦随溅射能量和剂量的增加而升高;30°入射角下因独特的“铲削效应”,溅射产额达到最高;应变集中和层错在后续温度平衡过程中逐渐消失。结论离子束加工条件(能量、剂量、角度)对单晶Ni表面及亚表面损伤具有显著影响。损伤程度随溅射能量和离子剂量的增加而加剧;60°入射角时损伤最显著,而30°入射角下原子去除效率最高。本研究为实验优化离子束加工工艺提供了理论依据。 展开更多
关键词 离子束加工 单晶 表面损伤 溅射产额 分子动力学
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机器学习在分子束外延生长的应用进展
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作者 杨再洪 周灿 +3 位作者 范柳燕 张燕辉 陈泽中 陈平平 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第6期924-934,共11页
最近几年,人工智能在材料领域得到广泛应用,机器学习在分子束外延(MBE)技术中的应用引人关注。基于原位反射高能电子衍射(RHEED)及相关物性的智能识别和反馈的MBE技术,能够显著提升生长材料的质量和生长效率,有望实现薄膜的MBE智能外延... 最近几年,人工智能在材料领域得到广泛应用,机器学习在分子束外延(MBE)技术中的应用引人关注。基于原位反射高能电子衍射(RHEED)及相关物性的智能识别和反馈的MBE技术,能够显著提升生长材料的质量和生长效率,有望实现薄膜的MBE智能外延。本综述聚焦机器学习MBE中的应用研究,首先介绍了MBE中常用的机器学习算法模型,阐述了机器学习在优化MBE生长条件中的应用,着重总结了不同材料体系(半导体薄膜和量子结构材料、氧化物材料和二维材料等)基于RHEED图像机器学习的研究进展,并就存在的问题和未来的发展策略进行了总结展望。 展开更多
关键词 分子束外延 机器学习 反射高能电子衍射 Ⅲ-Ⅴ族半导体材料 人工智能
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