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240 nm AlGaN-based deep ultraviolet micro-LEDs:size effect versus edge effect 被引量:4
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作者 Shunpeng Lu Jiangxiao Bai +6 位作者 Hongbo Li Ke Jiang Jianwei Ben Shanli Zhang Zi-Hui Zhang Xiaojuan Sun Dabing Li 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2024年第1期55-62,共8页
240 nm AlGaN-based micro-LEDs with different sizes are designed and fabricated.Then,the external quantum efficiency(EQE)and light extraction efficiency(LEE)are systematically investigated by comparing size and edge ef... 240 nm AlGaN-based micro-LEDs with different sizes are designed and fabricated.Then,the external quantum efficiency(EQE)and light extraction efficiency(LEE)are systematically investigated by comparing size and edge effects.Here,it is revealed that the peak optical output power increases by 81.83%with the size shrinking from 50.0 to 25.0μm.Thereinto,the LEE increases by 26.21%and the LEE enhancement mainly comes from the sidewall light extraction.Most notably,transversemagnetic(TM)mode light intensifies faster as the size shrinks due to the tilted mesa side-wall and Al reflector design.However,when it turns to 12.5μm sized micro-LEDs,the output power is lower than 25.0μm sized ones.The underlying mechanism is that even though protected by SiO2 passivation,the edge effect which leads to current leakage and Shockley-Read-Hall(SRH)recombination deteriorates rapidly with the size further shrinking.Moreover,the ratio of the p-contact area to mesa area is much lower,which deteriorates the p-type current spreading at the mesa edge.These findings show a role of thumb for the design of high efficiency micro-LEDs with wavelength below 250 nm,which will pave the way for wide applications of deep ultraviolet(DUV)micro-LEDs. 展开更多
关键词 ALGAN deep ultraviolet micro-leds light extraction efficiency size effect edge effect
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钙钛矿量子点色转换Micro-LEDs:稳定性与图案化研究进展
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作者 严梓峻 刘众 +8 位作者 杨晓 赖寿强 颜丰裕 林宗民 林岳 吕毅军 郭浩中 陈忠 吴挺竹 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2024年第7期1-26,共26页
微型发光二极管(Micro light-emitting diode,Micro-LED)显示具有优异的显示性能和光电性质,被称为“下一代”终极显示技术。为了满足近眼显示需求,Micro-LED需要进一步微缩与集成化。随着微纳级图案化技术的不断革新,荧光色转换层法表... 微型发光二极管(Micro light-emitting diode,Micro-LED)显示具有优异的显示性能和光电性质,被称为“下一代”终极显示技术。为了满足近眼显示需求,Micro-LED需要进一步微缩与集成化。随着微纳级图案化技术的不断革新,荧光色转换层法表现出低制造成本等显著优势,相较于三色芯片法,更适合应用于对色域、分辨率有更高要求的虚拟/增强现实显示应用。钙钛矿量子点是最有前景的荧光色转换材料,然而自身晶格固有的不稳定性和外界环境因素刺激共同导致的结构降解是一大问题。另外,如何制备与Micro-LED芯片阵列相匹配的微米级荧光阵列图案是至关重要的。为此,本文首先讲述了造成钙钛矿量子点结构不稳定性的原因,其次,总结了配体交换、离子掺杂、表面包覆和化学交联等方案在提升钙钛矿量子点稳定性方面的应用,最后,总结了光刻技术和喷墨打印技术在制备高分辨率钙钛矿量子点荧光阵列的最新研究进展。 展开更多
关键词 micro-lED 荧光色转换层法 钙钛矿量子点 稳定性 图案化技术
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High performance Ga N-based hybrid white micro-LEDs integrated with quantum-dots
3
作者 Feifan Xu Xu Cen +8 位作者 Bin Liu Danbei Wang Tao Tao Ting Zhi Qi Wang Zili Xie Yugang Zhou Youdou Zheng Rong Zhang 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2020年第3期32-35,共4页
Hybrid white micro-pillar structure light emitting diodes(LEDs)have been manufacture utilizing blue micro-LEDs arrays integrated with 580 nm CIS((CuInS2-ZnS)/ZnS)core/shell quantum dots.The fabricated hybrid white mic... Hybrid white micro-pillar structure light emitting diodes(LEDs)have been manufacture utilizing blue micro-LEDs arrays integrated with 580 nm CIS((CuInS2-ZnS)/ZnS)core/shell quantum dots.The fabricated hybrid white micro-LEDs have good electrical properties,which are manifested in relatively low turn-on voltage and reverse leakage current.High-quality hybrid white light emission has been demonstrated by the hybrid white micro-LEDs after a systemic optimization,in which the corresponding color coordinates are calculated to be(0.3303,0.3501)and the calculated color temperature is 5596 K.This result indicates an effective way to achieve high-performance white LEDs and shows great promise in a large range of applications in the future including micro-displays,bioinstrumentation and visible light communication. 展开更多
关键词 GaN hybrid white micro-leds quantum dots
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(NH_(4))_(2)S侧壁钝化提高GaN基Micro-LEDs光电性能
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作者 刘绍刚 徐晨超 《广东化工》 CAS 2021年第9期1-3,31,共4页
作为新一代显示技术,GaN基Micro-LEDs具有低功耗、高亮度、高分辨率和快速响应的优点。但是,侧壁缺陷引起的表面非辐射复合严重影响Micro-LEDs的发光效率。本文利用(NH_(4))_(2)S来钝化GaN微米柱侧壁,形成稳定的Ga-S取代不稳定的Ga-O和G... 作为新一代显示技术,GaN基Micro-LEDs具有低功耗、高亮度、高分辨率和快速响应的优点。但是,侧壁缺陷引起的表面非辐射复合严重影响Micro-LEDs的发光效率。本文利用(NH_(4))_(2)S来钝化GaN微米柱侧壁,形成稳定的Ga-S取代不稳定的Ga-O和Ga-OH,修复侧壁缺陷,抑制电子空穴侧壁缺陷处发生的非辐射复合。(NH4)2S钝化20分钟之后,Micro-LEDs侧壁缺陷修复效果最明显。在40mA的电流下,LOP和EQE分别提高23.89%和23.95%,能量转换效率提升明显。(NH_(4))_(2)S处理后形成的侧壁钝化层一方面可以有效减少载流子非辐射复合,另一方面有效防止氧或水蒸气在侧壁表面再次扩散发生反应,为GaN基Micro-LEDs光电性能提升提供新的方向。 展开更多
关键词 micro-leds GAN 硫化铵 非辐射复合 侧壁缺陷
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Characteristics and techniques of GaN-based micro-LEDs for application in next-generation display 被引量:9
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作者 Zhou Wang Xinyi Shan +1 位作者 Xugao Cui Pengfei Tian 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2020年第4期75-80,共6页
Due to the excellent optoelectronic properties,fast response time,outstanding power efficiency and high stability,micro-LED plays an increasingly important role in the new generation of display technology compared wit... Due to the excellent optoelectronic properties,fast response time,outstanding power efficiency and high stability,micro-LED plays an increasingly important role in the new generation of display technology compared with LCD and OLED display.This paper mainly introduces the preparation methods of the GaN-based micro-LED array,the optoelectronic characteristics,and several key technologies to achieve full-color display,such as transfer printing,color conversion by quantum dot and local strain engineering. 展开更多
关键词 micro-lED GaN FULL-COLOR DISPLAY transfer printing color conversion
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Review of a direct epitaxial approach to achieving micro-LEDs 被引量:1
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作者 蔡月飞 白洁 王涛 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第1期22-29,共8页
There is a significantly increasing demand of developing augmented reality and virtual reality(AR and VR) devices,where micro-LEDs(μLEDs) with a dimension of ≤ 5 μm are the key elements. Typically, μLEDs are fabri... There is a significantly increasing demand of developing augmented reality and virtual reality(AR and VR) devices,where micro-LEDs(μLEDs) with a dimension of ≤ 5 μm are the key elements. Typically, μLEDs are fabricated by dry-etching technologies, unavoidably leading to a severe degradation in optical performance as a result of dry-etching induced damages. This becomes a particularly severe issue when the dimension of LEDs is ≤ 10 μm. In order to address the fundamental challenge, the Sheffield team has proposed and then developed a direct epitaxial approach to achievingμLEDs, where the dry-etching technologies for the formation of μLED mesas are not needed anymore. This paper provides a review on this technology and then demonstrates a number of monolithically integrated devices on a single chip using this technology. 展开更多
关键词 micro-lED epitaxial growth gallium nitride DISPLAY
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Size-dependent characteristics of GaN-based micro-LEDs for simultaneous display and wireless optical communication
7
作者 Yuhang Dai Zhou Wang +9 位作者 Shiting Dou Siqi Yang Junyuan Chen Haoxiang Zhu Yan Gu Jin Wang Hao Zhang Yi Liu Qiang Chen Xiaoyan Liu 《Chinese Optics Letters》 2025年第8期108-114,共7页
Micro-light-emitting diode[micro-LED]has been widely concerned in the field of display and wireless optical communication due to its excellent optoelectronic characteristics,but the reduction of the pixel size has a s... Micro-light-emitting diode[micro-LED]has been widely concerned in the field of display and wireless optical communication due to its excellent optoelectronic characteristics,but the reduction of the pixel size has a significant impact on the performance of GaN-based micro-LEDs,which then affects the display and wireless optical communication applications.In this work,different sizes of violet and blue GaN-based micro-LEDs have been successfully fabricated,and the size-dependent characteristics of micro-LEDs in display and communication applications have been systematically studied.It can be found that the pixel size reduction of the micro-LEDs from 80 to 10μm leads to an obvious decrease in light output power[LOP]by88.30% and 44.10% for blue and violet micro-LEDs,respectively,and a decrease in peak external quantum efficiency[EQE]by55.14% and 46.25%for blue and violet micro-LEDs,respectively.Additionally,micro-LEDs with smaller sizes tend to exhibit a less obvious shift of peak wavelength and smaller broadening of full-width at half-maximum[FWHM]with the increases of current density,showing the potential to achieve a stable display with high quality.Also,the influence of current density on chrominance coordinate migration is determined,which shows that the driving current density corresponding to the maximum EQE can promote display efficiency and color gamut.In addition,the violet and blue micro-LEDs with a diameter of 20μm show potential in balancing between the LOP and the modulation bandwidth to achieve the highest data rates of 1.347 and 1.032 Gbps,respectively,in wireless optical communication applications.The results of this study are of great significance for optimizing the pixel size of the micro-LED to improve the performance in display and wireless optical communication applications in the future. 展开更多
关键词 micro-lED size effect DISPLAY wireless optical communication
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基于micro-LED的波分复用高速水下可见光通信系统研究
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作者 应红 张涛 +3 位作者 王彬峰 刘涛 唐堂 惠天宇 《照明工程学报》 2025年第5期60-73,共14页
本文研究了一种基于2个商用LED和5个自行设计micro-LED的波分复用(Wavelength Division Multiplexing,WDM)超高速水下可见光通信概念验证系统。通过预均衡和正交频分复用调制技术,在0.6 m水下环境中实现了28.82 Gbps的聚合通信速率,这... 本文研究了一种基于2个商用LED和5个自行设计micro-LED的波分复用(Wavelength Division Multiplexing,WDM)超高速水下可见光通信概念验证系统。通过预均衡和正交频分复用调制技术,在0.6 m水下环境中实现了28.82 Gbps的聚合通信速率,这是目前所知基于micro-LED的水下可见光通信(Underwater Visible Light Communication,UVLC)的破纪录传输速率,较现有最高纪录(20.09 Gbps)提升43%。相对单通道455 nm micro-LED(7.23 Gbps),容量增益达4倍。此外,本研究还分析了各波长光源的调制带宽与光功率特性,并利用63%和40%衰减片模拟扩展距离传输环境。采用63%衰减片的WDM-UVLC系统可获得聚合速率为18.35 Gbps,其中最短的估算传输距离为650 nm波长的光源,仅为1.81 m。使用40%衰减片的WDM-UVLC获得了15.36 Gbps的总通信速率,最短估算传输距离为2.75 m,而对于在水环境衰减特性小的蓝绿光则能够获得超过8 m的估算传输距离。尤其对于455 nm通道SNR仅下降5 dB即可维持BER<3.8×10^(-3),验证了方案在功率波动下的鲁棒性与潜力。该研究不仅验证了波分复用技术结合micro-LED在水下高速通信中的潜力,更表明多色micro-LED是波分复用UVLC发射器的绝佳候选器件,通过特定的光学滤波器和光学设计,未来可实现更集成的波分复用系统。 展开更多
关键词 水下可见光通信 波分复用 micro-lED 正交频分复用
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Micro-LED新型显示技术的现状、挑战及展望 被引量:2
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作者 庄喆 刘斌 《科技导报》 北大核心 2025年第2期42-51,共10页
微型发光二极管(Micro-LED)具有较好的稳定性,是当前高亮显示应用的最佳选择,其具有高对比度、低响应时间、宽工作温区、低能耗和广视角等优势,成为当前产业界和学术界比较看好的新型显示技术。综述了Micro-LED新型显示技术的原理,对比... 微型发光二极管(Micro-LED)具有较好的稳定性,是当前高亮显示应用的最佳选择,其具有高对比度、低响应时间、宽工作温区、低能耗和广视角等优势,成为当前产业界和学术界比较看好的新型显示技术。综述了Micro-LED新型显示技术的原理,对比其与现有技术的性能,从材料、器件、集成和成本良率等几个角度探讨了Micro-LED新型显示技术的关键技术挑战。未来3~5年内,Micro-LED显示技术仍然会在材料、器件、集成等技术方面存在技术创新和重大突破的关键机会,该技术支撑着未来显示产业的发展,也是中国科技创新引领全球的一次重要科技革命。建议鼓励创新,营造良好的科技创新环境,通过产学研合作解决当前Micro-LED新型显示技术的关键问题。同时发挥市场和社会资本的作用,引导产业遵循技术发展和商业发展规律。Micro-LED显示产业尽管仍面临技术挑战,但增强现实等近眼显示设备的推出,可能彻底革新现有的显示产品形态,Micro-LED显示产业市场将可能迎来爆发式增长。 展开更多
关键词 micro-lED新型显示 micro-lED芯片 技术挑战 产业发展
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侧壁修复提升237 nm AlGaN基Micro-LED光功率密度研究
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作者 郝家龙 李宏博 +9 位作者 吕顺鹏 朱立财 孙文超 张若甲 刘钟旭 蒋科 贲建伟 张山丽 孙晓娟 黎大兵 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第6期970-978,共9页
AlGaN基深紫外Micro-LED在无掩膜光刻、日盲紫外保密通信等领域具有重要应用前景。然而,侧壁效应和电流拥挤效应严重制约高电流密度下的光功率密度。本研究制备了发光波长237 nm,台面半径分别为12.5、25.0、50.0μm的深紫外Micro-LED,... AlGaN基深紫外Micro-LED在无掩膜光刻、日盲紫外保密通信等领域具有重要应用前景。然而,侧壁效应和电流拥挤效应严重制约高电流密度下的光功率密度。本研究制备了发光波长237 nm,台面半径分别为12.5、25.0、50.0μm的深紫外Micro-LED,并系统探究了侧壁修复对不同尺寸和不同阵列化Micro-LED的影响规律。研究发现,使用KOH修复侧壁可有效降低AlGaN基深紫外Micro-LED侧壁缺陷密度,减小反向漏电流密度,同时降低由侧壁缺陷导致的肖特基-里德-霍尔(SRH)非辐射复合。对于单台面器件,器件尺寸越小,最大光功率密度越高,但侧壁效应严重制约着小尺寸器件的光功率密度,导致小尺寸器件在低电流密度下光功率密度最低,侧壁修复后,半径12.5μm的器件峰值光功率密度提升最多,提升了186%,且在不同电流密度下光功率密度均最高;对于相同发光面积的阵列化器件,侧壁修复后,阵列化程度越高,光功率密度越高,4×4阵列12.5μm的Micro-LED比半径50.0μm的器件峰值光功率密度提高了116%,其原因是在保持较低侧壁缺陷的情况下,阵列化可以提高电流密度分布均匀性,进而提高光效。该研究有助于提高Micro-LED的光功率密度,并将推动短波深紫外Micro-LED走向实际应用。 展开更多
关键词 侧壁效应 电流拥挤效应 AlGaN micro-lED 侧壁修复 阵列化工程
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改进相位相关与聚类思想的Micro-LED芯片显微图像拼接
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作者 林坚普 王廷雨 +6 位作者 蔡苾芃 张建豪 梅婷 林珊玲 林志贤 乐建避 吴朝兴 《光学精密工程》 北大核心 2025年第4期641-652,共12页
针对现有Micro-LED芯片的显微图像由于存在大量相似且整齐排列的LED而导致算法拼接速度慢及准确率低的问题,本文提出了一种基于聚类思想的Micro-LED芯片显微图像拼接方法。首先使用最大类间方差法对图像进行预处理,随后使用自适应面积... 针对现有Micro-LED芯片的显微图像由于存在大量相似且整齐排列的LED而导致算法拼接速度慢及准确率低的问题,本文提出了一种基于聚类思想的Micro-LED芯片显微图像拼接方法。首先使用最大类间方差法对图像进行预处理,随后使用自适应面积拓展相位相关算法对相邻两幅图像的重叠区域进行峰值计算以求得初步配准的偏移量,接着使用图像分块联合差异值哈希算法的优化配准策略得到优化后的偏移量,最后引入基于密度的噪声应用空间聚类对可能存在的错误偏移量进行自动筛出和处理。实验结果表明本文算法平均耗时为64 ms,满足拼接实时性的需求,拼接正确率达到99.4%,配准精度控制在1个pixel之内,融合处理后在主观上可以达到完美的拼接效果,为错误偏移量导致的整体错位问题也提供了新的解决思路。本文算法有效解决了晶圆级Micro-LED芯片检测中显微图像拼接的关键环节,并可推广应用于具有重复特征且高精度要求的其他机器视觉自动化领域,具有较高的实际工程应用价值。 展开更多
关键词 图像拼接 micro-lED芯片显微图像 相位相关 差异值哈希 聚类思想 缺陷检测
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Micro-LED晶圆缺陷检测的宽光谱大视场显微物镜设计
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作者 洪惠敏 贺文俊 《光子学报》 北大核心 2025年第3期207-220,共14页
为了实现对Micro-LED晶圆缺陷的准确和高效检测,设计了一款工作波长覆盖可见光和近红外的宽光谱、大视场、平场、复消色差显微物镜。采用正-正-负三光组结构,计算调整了各光组光焦度并分配其元件特征,实现了大视场和长工作距设计。基于B... 为了实现对Micro-LED晶圆缺陷的准确和高效检测,设计了一款工作波长覆盖可见光和近红外的宽光谱、大视场、平场、复消色差显微物镜。采用正-正-负三光组结构,计算调整了各光组光焦度并分配其元件特征,实现了大视场和长工作距设计。基于Buchdahl色散模型进行了玻璃材料的色散矢量分析并指导了初始光学系统材料替换,实现了平场复消色差设计。设计结果表明:该显微物镜的工作波长范围为420 nm~1064 nm、放大倍率为10倍、视场为3.3 mm、数值孔径为0.34、可见光波段分辨率为0.88μm、近红外波段分辨率为1.35μm、工作距为8 mm、齐焦距为95 mm。其成像质量优良,调制传递函数曲线接近衍射极限,全谱段复消色差,全视场平坦,易于加工生产,可用于检测大范围的表面以及次表面的微米级Micro-LED晶圆缺陷。 展开更多
关键词 光学设计 显微物镜 Buchdahl模型 平场复消色差 micro-lED
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蜂巢表面AlGaInP基倒装Micro-LED的光电性能
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作者 谢军 张威 +2 位作者 谢子敬 徐盛海 王洪 《发光学报》 北大核心 2025年第10期1953-1960,共8页
AlGaInP基红光Micro-LED较低的光提取效率限制了器件的发光强度。本文提出了一种自组装Ni金属纳米掩模和湿法刻蚀技术,获得了具有高密度、高均匀性的GaP表面纹理,通过表面纹理增加临界角降低全内反射效应从而有效地提高了器件光提取效... AlGaInP基红光Micro-LED较低的光提取效率限制了器件的发光强度。本文提出了一种自组装Ni金属纳米掩模和湿法刻蚀技术,获得了具有高密度、高均匀性的GaP表面纹理,通过表面纹理增加临界角降低全内反射效应从而有效地提高了器件光提取效率。使用不同厚度的镍掩膜获得不同形貌的表面纹理。结果表明,在20 A/cm^(2) 电流密度下,使用1 nm厚镍金属纳米掩膜湿法蚀刻的Micro-LED的发光强度和外量子效率比无表面纹理的Micro-LED分别提升21.04%和23.58%。提出了一种使用ICP干法刻蚀结合湿法刻蚀制备蜂巢型圆柱状表面纹理。在相同工艺的ICP刻蚀后对GaP层湿法腐蚀不同时间,在电流密度为20 A/cm^(2) 时,使用ICP蚀刻和湿法蚀刻10 s*3次的Micro-LED发光强度和外量子效率分别比无表面纹理的Micro-LED提高了81.61%和48.40%。 展开更多
关键词 ALGAINP 倒装 光提取效率 micro-lED 表面纹理
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GaN基Micro-LED芯片低频噪声特性研究
14
作者 张腾飞 王伟 华文渊 《半导体光电》 北大核心 2025年第2期226-231,共6页
针对GaN基蓝光Micro-LED芯片,文章采用电流-电压(I-V)特性和电流噪声功率谱密度分析相结合的方法,系统研究该器件电流输运机制及其在不同电流注入条件下的低频噪声特性。研究结果表明:在低电流注入区间(1 nA<I<1μA),低频噪声呈... 针对GaN基蓝光Micro-LED芯片,文章采用电流-电压(I-V)特性和电流噪声功率谱密度分析相结合的方法,系统研究该器件电流输运机制及其在不同电流注入条件下的低频噪声特性。研究结果表明:在低电流注入区间(1 nA<I<1μA),低频噪声呈现产生-复合噪声和1/f噪声的叠加特性,其中1/f噪声仅在频率低于10 Hz时显著显现;在中值电流注入范围(6.6μA<I<830μA)且测试频率f低于1×10^(3)Hz时,测得电流噪声斜率分别1.75,2.06,1.99和1.76。通过引入多尺度熵复杂度分析揭示噪声信号的非规律特征,证实该部分电流区间的噪声源主要来自电子-空穴对的产生-复合过程,而非缺陷辅助隧穿所引起。当注入电流增至1~10 mA范围时,串联电阻的热效应开始主导运输特性,导致电流随电压的指数增长关系发生偏离。此时,1/f噪声主要来源于串联电阻,对应的1/f噪声指数因子γ分别为1.53,1.42,1.37,1.24和1.03,逐渐接近于标准1/f噪声(γ=1)。 展开更多
关键词 micro-lED 正向电流 输运机制 多尺度熵 低频噪声
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表面复合与光提取效率竞争机制对Micro-LED光效的影响
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作者 刘志强 江莹 +7 位作者 莫梦月 闫金健 李鹏岗 黄凯 李金钗 卢卫芳 康俊勇 张荣 《厦门大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第4期682-689,共8页
[目的]基于表面复合引起的尺寸效应,研究Micro-LED器件的尺寸、形状与光效的关系.[方法]利用SimuLED软件,通过设计不同尺寸和形状的器件,探究器件表面复合占比与周长面积比之间的关系,并分析器件形状对Micro-LED性能的影响.[结果]器件... [目的]基于表面复合引起的尺寸效应,研究Micro-LED器件的尺寸、形状与光效的关系.[方法]利用SimuLED软件,通过设计不同尺寸和形状的器件,探究器件表面复合占比与周长面积比之间的关系,并分析器件形状对Micro-LED性能的影响.[结果]器件表面复合速率与周长面积比成线性比例关系;器件形状通过表面复合占比与光提取效率共同影响器件的外量子效率.在本文研究的3种芯片形状中,圆形芯片的内量子效率最高,正六边形芯片的外量子效率最高,而方形芯片的内、外量子效率以及光功率均最低.[结论]当器件的尺寸受限时,可以通过优化器件形状,以降低表面复合占比和提高光提取效率,进而提高光效. 展开更多
关键词 micro-lED 尺寸效应 表面复合速率 周长面积比 光提取效率
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芯片尺寸与阵列偏移对图形衬底Micro-LED光强空间分布的影响
16
作者 张佳辰 李盼盼 +2 位作者 李金钗 黄凯 李鹏岗 《发光学报》 北大核心 2025年第2期366-372,共7页
微型发光二极管(Micro-light emitting diode,Micro-LED)以高亮度、高对比度、低能耗和快速响应等优异特性,广泛应用于户外显示、增强现实和虚拟现实等领域。然而,Micro-LED的微型化带来了光强分布控制的挑战。为提高其发光效率,常使用... 微型发光二极管(Micro-light emitting diode,Micro-LED)以高亮度、高对比度、低能耗和快速响应等优异特性,广泛应用于户外显示、增强现实和虚拟现实等领域。然而,Micro-LED的微型化带来了光强分布控制的挑战。为提高其发光效率,常使用图形蓝宝石衬底(Patterned sapphire substrate,PSS)技术,通过微米级图形单元优化光提取率。在大尺寸LED中,PSS对光强空间分布影响较小,但在微米级Micro-LED中影响显著。本文采用光线追迹方法,系统研究了发光波长为460 nm的不同尺寸PSS Micro-LED在不同阵列偏移下的光强空间分布,并量化了光强空间分布的非对称率,最后解释了该现象。结果表明,随着尺寸减小,PSS对光强空间分布影响增大。当尺寸为3μm×5μm时,在y轴和x轴的光强空间分布的非对称率达3.06%和4.22%,因而影响Micro-LED发光均匀性。本研究为Micro-LED在显示应用中的优化设计提供了理论支持。 展开更多
关键词 micro-lED 图形蓝宝石衬底(PSS) 非对称率
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Solvent engineering in perovskite nanocrystal colloid inks for super-fine electrohydrodynamic inkjet printing of color conversion microstructures in micro-LED displays
17
作者 Shuli Wang Xuemin Kong +7 位作者 Siting Cai Yunshu Luo Yuxuan Gu Xiaotong Fan Guolong Chen Xiao Yang Zhong Chen Yue Lin 《Chinese Chemical Letters》 2025年第8期554-559,共6页
Super-fine electrohydrodynamic inkjet(SIJ)printing of perovskite nanocrystal(PNC)colloid ink exhibits significant potential in the fabrication of high-resolution color conversion microstructures arrays for fullcolor m... Super-fine electrohydrodynamic inkjet(SIJ)printing of perovskite nanocrystal(PNC)colloid ink exhibits significant potential in the fabrication of high-resolution color conversion microstructures arrays for fullcolor micro-LED displays.However,the impact of solvent on both the printing process and the morphology of SIJ-printed PNC color conversion microstructures remains underexplored.In this study,we prepared samples of CsPbBr3PNC colloid inks in various solvents and investigated the solvent's impact on SIJ printed PNC microstructures.Our findings reveal that the boiling point of the solvent is crucial to the SIJ printing process of PNC colloid inks.Only does the boiling point of the solvent fall in the optimal range,the regular positioned,micron-scaled,conical PNC microstructures can be successfully printed.Below this optimal range,the ink is unable to be ejected from the nozzle;while above this range,irregular positioned microstructures with nanoscale height and coffee-ring-like morphology are produced.Based on these observations,high-resolution color conversion PNC microstructures were effectively prepared using SIJ printing of PNC colloid ink dispersed in dimethylbenzene solvent. 展开更多
关键词 SOLVENT Perovskite nanocrystal Electrohydrodynamic inkjet printing Color conversion microstructures arrays micro-lED display
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GaN基Micro-LED芯片的电-热短路效应研究
18
作者 王伟 张腾飞 李红旭 《微纳电子技术》 2025年第10期48-55,共8页
研究了GaN基蓝光微型发光二极管(micro-LED)芯片在电流应力作用下的光电退化机制及其电-热耦合短路效应,揭示了micro-LED芯片独特的突发性短路失效机理。实验结果表明,施加2 h电流应力后,芯片发光强度衰减至初始值的约43%,反向漏电流显... 研究了GaN基蓝光微型发光二极管(micro-LED)芯片在电流应力作用下的光电退化机制及其电-热耦合短路效应,揭示了micro-LED芯片独特的突发性短路失效机理。实验结果表明,施加2 h电流应力后,芯片发光强度衰减至初始值的约43%,反向漏电流显著增大,且在-10 V偏压下的超低频噪声功率谱密度增幅达4个数量级,证实缺陷态密度增加是导致光电特性退化的主要因素。此外,热成像分析显示,应力时间延长至约5 h时,芯片表面热点区域面积呈现指数级扩展趋势,最终因局部介质击穿或金属互连桥接而引发突发性短路失效。同时发现,在芯片结温114.8℃的热应力下仅造成约22%的发光强度衰减,而强制散热条件下发光强度衰减幅度(约43%)与无散热条件基本相当。该现象表明载流子注入诱导的缺陷增殖是芯片退化的主导机制,其对性能退化的贡献度约为热效应的两倍。 展开更多
关键词 微型发光二极管(micro-lED) 超低频噪声 结温 突发性短路 发光强度
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Micro-LED新型显示技术与发展分析
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作者 金光旭 《消费电子》 2025年第11期125-127,共3页
随着科技的迅猛发展以及人们对显示效果要求的不断提升,传统的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)等显示技术已经无法满足人们对于高亮度、高对比度、低功耗以及快速响应等多... 随着科技的迅猛发展以及人们对显示效果要求的不断提升,传统的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)等显示技术已经无法满足人们对于高亮度、高对比度、低功耗以及快速响应等多样化需求,Micro-LED显示技术应运而生。本文首先阐述Micro-LED显示技术的原理,其通过微小尺寸的发光二极管(Light Emitting Diode,LED)芯片实现自发光的独特机制。其次全面对比了Micro-LED与传统LCD、OLED等显示技术在环境对比度、运动图像响应时间、色域、效率和功耗方面的显著优势,并深入探讨了Micro-LED新型显示技术面临的关键挑战,最后针对性地提出了一系列发展策略,展望了Micro-LED新型显示技术的发展趋势。本文对Micro-LED新型显示技术进行了全面且深入的研究,以此为相关人员提供实践参考。 展开更多
关键词 micro-lED新型显示技术 LCD OLED
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1 Gbps free-space deep-ultraviolet communications based on Ⅲ-nitride micro-LEDs emitting at 262 nm 被引量:9
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作者 Xiangyu He Enyuan Xie +5 位作者 Mohamed Sufyan Islim Ardimas Andi Purwita Jonathan J.D.McKendry Erdan Gu Harald Haas Martin D.Dawson 《Photonics Research》 SCIE EI CSCD 2019年第7期19-25,共7页
The low modulation bandwidth of deep-ultraviolet(UV) light sources is considered as the main reason limiting the data transmission rate of deep-UV communications. Here, we present high-bandwidth Ⅲ-nitride microlight-... The low modulation bandwidth of deep-ultraviolet(UV) light sources is considered as the main reason limiting the data transmission rate of deep-UV communications. Here, we present high-bandwidth Ⅲ-nitride microlight-emitting diodes(μLEDs) emitting in the UV-C region and their applications in deep-UV communication systems. The fabricated UV-C μLEDs with 566 μm2 emission area produce an optical power of 196 μW at the 3400 A∕cm2 current density. The measured 3 dB modulation bandwidth of these μLEDs initially increases linearly with the driving current density and then saturates as 438 MHz at a current density of 71 A∕cm2, which is limited by the cutoff frequency of the commercial avalanche photodiode used for the measurement. A deep-UV communication system is further demonstrated. By using the UV-C μLED, up to 800 Mbps and 1.1 Gbps data transmission rates at bit error ratio of 3.8 × 10-3 are achieved assuming on-off keying and orthogonal frequency-division multiplexing modulation schemes, respectively. 展开更多
关键词 communications Ⅲ-nitride micro-leds
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