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Au maskless patterning for vacuum packaging using the electrochemical method
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作者 Bo Xie Deyong Chen +2 位作者 Junbo Wang Jian Chen Wen Hong 《Nanotechnology and Precision Engineering》 EI CAS CSCD 2018年第3期191-196,共6页
The interconnection of wires is an important issue in vacuum-packaged microelectromechanical systems devices because of the difficulties of hermetical sealing and electrical insulation.This paper presents an approach ... The interconnection of wires is an important issue in vacuum-packaged microelectromechanical systems devices because of the difficulties of hermetical sealing and electrical insulation.This paper presents an approach of Au film selective patterning on highly uneven surfaces for wire interconnections of devices in which silicon-oninsulator(SOI)wafers are anodically bonded to glass.The Au film on the handle layer,functioned as an anode,was selectively removed with electrochemical dissolution in a chloride solution.The choice of etchant solution and etching conditions were optimized to improve the process efficiency,resulting in a high yield of gold portions within the via holes for wire interconnection.The proposed wire interconnection technology was employed to fabricate a vacuum-packaged resonant pressure sensor as a proof-of-concept demonstration.Reliable wire bonding and vacuum package were achieved as well as a Q factor that does not decrease over a year.As a platform technology,this method provides a new approach of wire interconnection for vacuum-packaged devices based on SOI–glass anodic bonding. 展开更多
关键词 VACUUM packaging Wire INTERCONNECTION Selective GOLD ETCHING maskless pattern Highly uneven surface Electrochemical ETCHING
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磁场对无掩模定域性电沉积-增材制造三维微结构生长模式的影响
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作者 吴蒙华 姜炳春 +1 位作者 肖雨晴 贾卫平 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期2035-2042,共8页
为研究磁场对无掩模定域性电沉积增材制造(MLED-AM)金属三维微结构生长模式的作用,以制备直径为50μm、长径比为10∶1的微镍柱为例,在MLED-AM过程中分别施加一定强度且与电场作用方向相同的顺向磁场和与电场作用方向相反的逆向磁场,通... 为研究磁场对无掩模定域性电沉积增材制造(MLED-AM)金属三维微结构生长模式的作用,以制备直径为50μm、长径比为10∶1的微镍柱为例,在MLED-AM过程中分别施加一定强度且与电场作用方向相同的顺向磁场和与电场作用方向相反的逆向磁场,通过对比实验探讨磁场对微镍柱平均体积沉积速率、表面形貌及晶粒尺寸的影响规律。实验结果表明,相较于无磁场作用,磁场作用可提高MLED-AM的平均体积沉积速率、细化沉积体的平均晶粒尺寸,且逆向磁场的作用更加显著(平均体积沉积速率提高25%~50%,平均晶粒尺寸达31.52 nm);同时,磁场作用可在一定程度上改善微镍柱的表面形貌,且顺向磁场作用的效果更好。根据实验结果及分析,逆向磁场作用对MLED-AM效率与质量的影响更大。 展开更多
关键词 磁场 无掩模定域性电沉积 增材制造 三维微结构 生长模式
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电子束光刻制备In-Ga-Zn-O场效应晶体管
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作者 杜晓松 王宇 孔祥兔 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第11期991-994,1019,共5页
无掩模直写技术制备半导体器件的方法在微电子学领域受到了广泛关注。提出了采用电子束直写技术对SnO_(2)薄膜进行图形化并辐照改性的方法,成功制备了以SnO_(2)为源/漏电极的底栅型铟镓锌氧化物(IGZO)场效应晶体管(FET)并对其进行了测... 无掩模直写技术制备半导体器件的方法在微电子学领域受到了广泛关注。提出了采用电子束直写技术对SnO_(2)薄膜进行图形化并辐照改性的方法,成功制备了以SnO_(2)为源/漏电极的底栅型铟镓锌氧化物(IGZO)场效应晶体管(FET)并对其进行了测试。测试结果表明,该IGZO FET展现了优良的电学性能:高源漏电流开关比(1.1×10^(6))、高电子迁移率(1.4 cm^(2)/(V·s))、较小的回滞差分电压(<2 V)、极低的栅极漏电流(<1 nA),这为无掩模版制备高性能氧化物半导体器件及柔性全透明集成电路提供了全新的方法。 展开更多
关键词 电子束光刻 无掩模版图形化 直写技术 氧化物半导体器件 In-Ga-Zn-O
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基于DMD无掩膜光刻快速制作亲疏水图案化表面
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作者 陈鹏 李木军 《新技术新工艺》 2020年第9期21-27,共7页
亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用。常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不具备灵活调节制造亲疏水表面微图案的形状与尺寸的能力,并且因制作掩膜而导致制作成本和时间成本都很高。... 亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用。常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不具备灵活调节制造亲疏水表面微图案的形状与尺寸的能力,并且因制作掩膜而导致制作成本和时间成本都很高。因此,提出了基于DMD无掩膜光刻技术快速制作亲疏水图案化表面的方法并可用于自组装微液滴阵列。该方法利用DMD无掩膜曝光系统进行加工,一步成型地完成了亲疏水图案化表面的疏水处理和微图案化处理。这种方法无需实物掩模,能够灵活调控加工表面疏水图案的形状与尺寸,工艺简单快捷,降低了制作成本。 展开更多
关键词 DMD芯片 无掩膜光刻技术 数字掩膜 光敏树脂 亲疏水图案化表面 微液滴阵列
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基于电喷印集成制造阵列化嵌金属电极柔性微流体管道 被引量:1
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作者 吕孝峰 郭洪吉 +4 位作者 孙丽娜 杨婷 邹旿昊 仲亚 于海波 《中国科学:技术科学》 EI CSCD 北大核心 2023年第4期525-535,共11页
微流控芯片在生物、化学、医学等领域受到了研究者们的广泛关注,尤其是含有金属电极的微流体管道在毛细电泳、电化学微量检测、生物医学工程和柔性电子领域具有广泛的需求前景.文章提出了一种简单按需制备阵列化嵌金属电极柔性微流体管... 微流控芯片在生物、化学、医学等领域受到了研究者们的广泛关注,尤其是含有金属电极的微流体管道在毛细电泳、电化学微量检测、生物医学工程和柔性电子领域具有广泛的需求前景.文章提出了一种简单按需制备阵列化嵌金属电极柔性微流体管道的方法.该方法基于电喷印直写技术并结合翻模和湿法刻蚀工艺,实现了嵌金属电极柔性微流体管道阵列的制备.首先,通过在线性转动接收基底上叠加直写聚乙烯醇(PVA)纤维,制备了可嵌入聚二甲基硅氧烷(PDMS)的表面光滑的线性凸起微结构(线宽为10~100μm,高宽比可大于1:2),并以此作为模板,实现了阵列化柔性微流体沟道的制造;其次,通过在平动接收基底上直写光刻胶作为保护层,并结合湿法刻蚀工艺,实现了在含有微流体沟道阵列的柔性基底上金属图案化导电电极(线宽低至5μm)的灵活制造;最后,对通入不同浓度盐溶液的微流体管道进行电学测试,验证了其管道的导通性和金属电极的导电性.结果表明:基于电喷印的集成制造流程可以灵活、简单、高效、低成本的按需加工阵列化嵌金属电极柔性微流体管道,有望应用在生物医学工程和柔性电子等领域. 展开更多
关键词 电喷印 柔性微流体管道 无掩膜制造 柔性图案化金属电极
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